公开(公告)号：US06852621B2

公开(公告)日：2005-02-08

申请号：US10698432

申请日：2003-11-03

申请人： Terunao Hanaoka ,  Kenji Wada ,  Nobuaki Hashimoto ,  Haruki Ito ,  Kazushige Umetsu ,  Fumiaki Matsushima

发明人： Terunao Hanaoka ,  Kenji Wada ,  Nobuaki Hashimoto ,  Haruki Ito ,  Kazushige Umetsu ,  Fumiaki Matsushima

IPC分类号： H01L25/18 ,  H01L21/288 ,  H01L21/768 ,  H01L23/48 ,  H01L25/065 ,  H01L25/07 ,  H01L21/4763

CPC分类号： H01L25/0657 ,  H01L21/288 ,  H01L21/76898 ,  H01L23/481 ,  H01L25/50 ,  H01L2224/02381 ,  H01L2224/05001 ,  H01L2224/05011 ,  H01L2224/05022 ,  H01L2224/05027 ,  H01L2224/05556 ,  H01L2224/05567 ,  H01L2224/05572 ,  H01L2224/13025 ,  H01L2224/16145 ,  H01L2225/06513 ,  H01L2225/06541 ,  H01L2225/06586 ,  H01L2924/01019 ,  H01L2924/01046 ,  H01L2924/01078 ,  H01L2924/01079 ,  H01L2924/07811 ,  H01L2924/3025 ,  H01L2924/00

摘要： A method of manufacturing a semiconductor device comprises a step of forming a through-hole in a semiconductor chip having an electrode and forming a conductive layer on a region comprising an inner side of the through-hole. An intermediate portion of the through-hole is formed to be larger than an edge portion thereof, and the conductive layer is formed by electroless plating.

摘要翻译： 制造半导体器件的方法包括在具有电极的半导体芯片中形成通孔并在包括通孔的内侧的区域上形成导电层的步骤。 通孔的中间部分形成为比其边缘部分大，并且通过无电镀形成导电层。

公开(公告)号：US06703689B2

公开(公告)日：2004-03-09

申请号：US09901037

申请日：2001-07-10

申请人： Kenji Wada

发明人： Kenji Wada

IPC分类号： H01L2940

CPC分类号： H01L27/14683 ,  H01L21/76898 ,  H01L23/481 ,  H01L24/48 ,  H01L24/73 ,  H01L27/14618 ,  H01L27/1462 ,  H01L27/14621 ,  H01L27/14627 ,  H01L27/14632 ,  H01L27/14636 ,  H01L27/14687 ,  H01L31/0203 ,  H01L31/18 ,  H01L33/382 ,  H01L2224/32225 ,  H01L2224/48227 ,  H01L2224/48465 ,  H01L2224/73265 ,  H01L2924/00014 ,  H01L2924/00015 ,  H01L2924/01013 ,  H01L2924/01029 ,  H01L2924/01046 ,  H01L2924/01057 ,  H01L2924/01078 ,  H01L2924/01079 ,  H01L2924/12042 ,  H01L2924/15153 ,  H01L2924/15165 ,  H01L2924/15312 ,  H01L2924/16195 ,  H01L2924/3025 ,  H01L2933/0016 ,  Y10S257/911 ,  H01L2924/00 ,  H01L2924/00012 ,  H01L2224/45099 ,  H01L2224/85399 ,  H01L2224/05599 ,  H01L2224/45015 ,  H01L2924/207

摘要： A method of manufacturing an optical element including the steps of: forming a through hole in a semiconductor element which has an optical section and an electrode electrically connected to the optical section; and forming a conductive layer extending from a first surface of the semiconductor element on which the optical section is formed, through an inner wall surface of the through hole, to a second surface opposite to the first surface.

摘要翻译： 一种制造光学元件的方法，包括以下步骤：在具有光学部分和电连接到光学部分的电极的半导体元件中形成通孔; 以及形成从其上形成有所述光学部分的所述半导体元件的第一表面延伸穿过所述通孔的内壁表面到与所述第一表面相对的第二表面的导电层。

公开(公告)号：US06512171B2

公开(公告)日：2003-01-28

申请号：US09758265

申请日：2001-01-12

申请人： Takashi Inamasu ,  Masafumi Shimizu ,  Kenji Wada

发明人： Takashi Inamasu ,  Masafumi Shimizu ,  Kenji Wada

IPC分类号： H01L31036

CPC分类号： H01L31/075 ,  H01L31/0392 ,  Y02E10/548

摘要： A thin film solar cell comprises a p-layer, an i-layer and an n-layer formed in this order as a pin junction on a substrate in which the p-layer and the i-layer are thin silicon films each containing a crystalline component, and the p-layer contains p-type impurities of 0.2 to 8 atom % and has a thickness of 10 to 200 nm.

摘要翻译： 薄膜太阳能电池包括在基板上形成的p层，i层和n层作为pin结，其中p层和i层是薄的硅膜，每个薄膜都含有结晶 p层含有0.2〜8原子％的p型杂质，其厚度为10〜200nm。

公开(公告)号：US08753801B2

公开(公告)日：2014-06-17

申请号：US13172937

申请日：2011-06-30

申请人： Toshiyuki Saie ,  Kenji Wada ,  Masaomi Makino ,  Hisamitsu Tomeba ,  Mitsuji Yoshibayashi

发明人： Toshiyuki Saie ,  Kenji Wada ,  Masaomi Makino ,  Hisamitsu Tomeba ,  Mitsuji Yoshibayashi

IPC分类号： G03F7/00

CPC分类号： G03F7/091 ,  G03F7/0007 ,  G03F7/0047 ,  G03F7/033 ,  H01L2924/3025 ,  Y10T428/24802 ,  H01L2924/00

摘要： A photosensitive composition contains (A) a hollow or porous particle, (B) a compound capable of generating an active species upon irradiation with an actinic ray or radiation, and (C) a compound capable of changing in the solubility for an alkali developer by the action of the active species.

摘要翻译： 光敏组合物含有（A）中空或多孔颗粒，（B）能够在用光化学射线或辐射照射时能够产生活性物质的化合物，和（C）能够通过以下方式改变碱显影剂的溶解度的化合物： 活性物种的作用。

公开(公告)号：US08506853B2

公开(公告)日：2013-08-13

申请号：US12904252

申请日：2010-10-14

申请人： Kenji Wada ,  Kyohei Arayama ,  Akiyoshi Goto

发明人： Kenji Wada ,  Kyohei Arayama ,  Akiyoshi Goto

IPC分类号： F21V9/04 ,  C08F30/08 ,  C07F7/00

CPC分类号： C07F7/21 ,  C08G77/045 ,  C08L83/04 ,  G02B1/111

摘要： The composition for optical materials includes a polymer obtained from silsesquioxanes which are represented by average composition formula (1): (R1SiO1.5)x(R2SiO1.5)y (wherein R1 is a polymerizable group, R2 is a non-polymerizable group, x is a number of 2.0 to 14.0, y is a number of 2.0 to 14.0, provided that x+y=8.0 to 16.0, and R1 groups and R2 groups may be the same or different) and include at least one cage silsesquioxane compound. This composition is suitable for use as the antireflective film in optical devices, has less film shrinkage in the curing step, has good coated surface state and excellent moisture resistance and adhesion, has small changes in the refractive index under high temperature conditions, and is capable of forming a low-refractive-index film.

摘要翻译： 用于光学材料的组合物包括由平均组成式（1）表示的倍半硅氧烷获得的聚合物：（R1SiO1.5）x（R2SiO1.5）y（其中R1是可聚合基团，R2是不可聚合基团， x为2.0〜14.0的数，y为2.0〜14.0的数，条件是x + y = 8.0〜16.0，R 1基和R 2基可以相同或不同），并且包括至少一种笼型倍半硅氧烷化合物。 该组合物适合用作光学元件中的抗反射膜，在固化步骤中具有较小的膜收缩率，具有良好的涂覆表面状态和优异的耐湿性和粘附性，在高温条件下的折射率变化小，并且能够 形成低折射率膜。

公开(公告)号：US20120188192A1

公开(公告)日：2012-07-26

申请号：US13498813

申请日：2009-09-28

申请人： Akihito Sano ,  Yoshihiro Tanaka ,  Hideo Fujimoto ,  Eisuke Kajisa ,  Kenji Wada

发明人： Akihito Sano ,  Yoshihiro Tanaka ,  Hideo Fujimoto ,  Eisuke Kajisa ,  Kenji Wada

IPC分类号： G08B6/00 ,  G06F3/041

CPC分类号： G06F3/016 ,  G03B21/003 ,  G06F3/011 ,  G06F17/50 ,  G09B21/003

摘要： A tactile device of a tactile display slides above an object. The tactile device comprises three rods which are free to move up and down. Lower ends of the rods are in contact with a surface of the object. Upper ends of respective rods touch a palmar-side skin equivalent to positions of three joints of a first finger or a second finger. When the tactile device is slid, upper ends of respective rods move up and down in accordance with a surface relief of the object. In response to the movement of the tactile device, the three rods push three finger joint positions of the palmar-side skin with a stroke equal to a height of the relief.

摘要翻译： 触觉显示器的触觉装置在物体上方滑动。 触觉装置包括可自由上下移动的三根棒。 杆的下端与物体的表面接触。 各杆的上端接触相当于第一手指或第二手指的三个关节位置的手掌皮肤。 当触觉装置滑动时，各个杆的上端根据物体的表面浮雕而上下移动。 响应于触觉装置的移动，三个杆以等于浮雕的高度的笔画推动手掌皮肤的三个手指关节位置。

公开(公告)号：US08053161B2

公开(公告)日：2011-11-08

申请号：US11860585

申请日：2007-09-25

申请人： Kenji Wada ,  Hiroshi Saegusa

发明人： Kenji Wada ,  Hiroshi Saegusa

IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/075 ,  G03F7/20 ,  G03F7/30 ,  C08F14/18

CPC分类号： G03F7/0397 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0395 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/107 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/111

摘要： A resist composition comprises: (A) a resin capable of increasing its solubility in an alkali developer by action of an acid; (B) a compound capable of generating an acid upon irradiation with actinic ray or radiation; (C) a resin having at least one of a fluorine atom and a silicon atom; and (D) a solvent, wherein the resin (C) has a degree of molecular weight dispersion of 1.3 or less and a weight average molecular weight of 1.0×104 or less.

摘要翻译： 抗蚀剂组合物包含：（A）能够通过酸的作用增加其在碱性显影剂中的溶解度的树脂; （B）能够在用光化射线或辐射照射时能够产生酸的化合物; （C）具有氟原子和硅原子中的至少一个的树脂; 和（D）溶剂，其中树脂（C）的分子量分散度为1.3以下，重均分子量为1.0×10 4以下。

公开(公告)号：US20110245416A1

公开(公告)日：2011-10-06

申请号：US13133827

申请日：2009-11-10

申请人： Kenji Wada ,  Katuyuki Watanabe ,  Keiji Yamamoto

发明人： Kenji Wada ,  Katuyuki Watanabe ,  Keiji Yamamoto

IPC分类号： H01L21/31 ,  C07D307/34 ,  C09D183/00 ,  C08F36/04

CPC分类号： H01L23/5329 ,  C07F7/20 ,  C07F7/21 ,  C08F230/08 ,  C08G77/045 ,  C08G77/12 ,  C08G77/20 ,  C08G77/50 ,  C08L83/04 ,  C09D183/04 ,  C09D183/14 ,  H01L21/02126 ,  H01L21/02203 ,  H01L21/02216 ,  H01L21/02282 ,  H01L21/3122 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

摘要： A composition for film formation which can form a film suitable for use as an interlayer dielectric in a semiconductor device, etc. and having an appropriate even thickness and can give a film having excellent characteristics including permittivity and Young's modulus; and a dielectric film obtained from the film-forming composition. The composition contains a compound (X) having a functional group which is partly eliminated by heating, irradiation with light, irradiation with radiation, or a combination thereof to generate volatile matter and yield an unsaturated group in the remaining part of the functional group.

摘要翻译： 一种用于成膜的组合物，其可以形成适合用作半导体器件等中的层间电介质的膜，并且具有适当的均匀厚度，并且可以得到具有包括介电常数和杨氏模量的优异特性的膜; 以及由成膜组合物得到的电介质膜。 该组合物含有具有通过加热，光照射，辐射照射或其组合部分消除的官能团的化合物（X），以产生挥发性物质，并在该官能团的剩余部分产生不饱和基团。

公开(公告)号：US08017304B2

公开(公告)日：2011-09-13

申请号：US12578520

申请日：2009-10-13

申请人： Shinji Tarutani ,  Hideaki Tsubaki ,  Kazuyoshi Mizutani ,  Kenji Wada ,  Wataru Hoshino

发明人： Shinji Tarutani ,  Hideaki Tsubaki ,  Kazuyoshi Mizutani ,  Kenji Wada ,  Wataru Hoshino

IPC分类号： G03F7/00 ,  G03F7/32 ,  G03F7/004 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/40 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/325

摘要： A pattern forming method comprising a step of applying a resist composition whose solubility in a negative tone developer decreases upon irradiation with an actinic ray or radiation and which contains a resin having an alicyclic hydrocarbon structure and a dispersity of 1.7 or less and being capable of increasing the polarity by the action of an acid, an exposure step, and a development step using a negative tone developer; a resist composition for use in the method; and a developer and a rinsing solution for use in the method, are provided, whereby a pattern with reduced line edge roughness and high dimensional uniformity can be formed.

摘要翻译： 一种图案形成方法，包括施加抗蚀剂组合物的步骤，所述抗蚀剂组合物在负光谱显影剂中的溶解度随着光化射线或辐射的照射而降低，并且其含有具有脂环族烃结构和分散性为1.7以下并且能够增加的树脂 通过酸的作用的极性，曝光步骤和使用负色调显影剂的显影步骤; 用于该方法的抗蚀剂组合物; 并且提供了用于该方法的显影剂和冲洗溶液，由此可以形成线边缘粗糙度降低且尺寸均匀性高的图案。

公开(公告)号：US20110183258A1

公开(公告)日：2011-07-28

申请号：US12673096

申请日：2008-08-11

申请人： Hidenori Takahashi ,  Kenji Wada ,  Sou Kamimura

发明人： Hidenori Takahashi ,  Kenji Wada ,  Sou Kamimura

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/20 ,  C07C309/73 ,  C07C69/716 ,  C07D319/12 ,  C07D311/94

CPC分类号： C07C309/72 ,  C07C69/716 ,  C07C309/65 ,  C07C309/74 ,  C07C311/48 ,  C07C317/44 ,  C07C317/46 ,  C07C323/20 ,  C07C2601/14 ,  C07C2602/08 ,  C07C2602/10 ,  C07C2602/42 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041

摘要： A positive resist composition comprising (A) a compound capable of generating an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation, (B) a resin capable of increasing the solubility in an alkali developer by the action of an acid, and (C) a compound having a specific structure, which decomposes by the action of an acid to generate an acid, a pattern forming method using the positive resist composition, and a compound for use in the positive resist composition are provided as a positive resist composition exhibiting good performance in terms of pattern profile, line edge roughness, pattern collapse, sensitivity and resolution in normal exposure (dry exposure), immersion exposure and double exposure, a pattern forming method using the positive resist composition and a compound for use in the positive resist composition.

摘要翻译： 一种正型抗蚀剂组合物，其包含（A）在通过光化射线或辐射照射时能够产生酸的化合物，（B）能够通过酸的作用增加在碱性显影剂中的溶解度的树脂，和（C） 提供具有特定结构的化合物，其通过酸的作用而分解以产生酸，使用正性抗蚀剂组合物的图案形成方法和用于正性抗蚀剂组合物的化合物作为正性抗蚀剂组合物，其表现出良好的性能 使用正性抗蚀剂组合物的图案形成方法和用于正性抗蚀剂组合物的化合物的图案形成方法，线条粗糙度，图案塌陷，在正常曝光（干曝光）中的灵敏度和分辨率，浸渍曝光和双重曝光。