公开(公告)号：US20140199857A1

公开(公告)日：2014-07-17

申请号：US14211695

申请日：2014-03-14

申请人： Yuanchang Zhang

发明人： Yuanchang Zhang

IPC分类号： H01L21/02

CPC分类号： H01L21/02282 ,  C23C18/06 ,  C23C18/1212 ,  C23C18/1216 ,  C23C18/1245 ,  C23C18/125 ,  C23C18/1254 ,  C25D5/02 ,  C25D17/06 ,  H01L31/02167 ,  H01L31/02168 ,  H01L31/068 ,  Y02E10/50 ,  Y02E10/547

摘要： A deposition process for coating a substrate with films of varying thickness on a substrate can be achieve. The thickness of the film deposition can be controlled by the separation between the substrate and a curtain. Different separation distances between the substrate and curtain in the same chemical bath will result in different film thicknesses depositing on the substrate.

摘要翻译： 可以实现用于在衬底上涂覆具有不同厚度的膜的衬底的沉积工艺。 膜沉积的厚度可以通过基板和帘幕之间的分离来控制。 在相同的化学浴中，衬底和窗帘之间的不同间隔距离将导致沉积在衬底上的不同的膜厚度。

公开(公告)号：US20140162052A1

公开(公告)日：2014-06-12

申请号：US13721654

申请日：2012-12-20

申请人： SHENZHEN FUTAIHONG PRECISION INDUSTRY CO., LTD. ,  FIH (HONG KONG) LIMITED

发明人： TING DING

IPC分类号： C09D7/12

CPC分类号： C09D1/02 ,  C08K3/10 ,  C08K3/36 ,  C09D7/67 ,  C23C18/1212 ,  C23C18/1241 ,  C23C18/1254 ,  C23C18/127 ,  Y10T428/256 ,  Y10T428/259 ,  Y10T428/264

摘要： A silicon dioxide sol comprises tetraethyl silicate, dimethylformamide, 1,2-bis(triethoxysilyl)ethane, absolute ethanol, hydrochloric acid, and water. A surface treatment method for metal substrate using the silicon dioxide sol and a coated article manufactured by the method is also provided, the resulting coating providing significantly better anti-corrosion and anti-wear properties.

摘要翻译： 二氧化硅溶胶包括硅酸四乙酯，二甲基甲酰胺，1,2-双（三乙氧基甲硅烷基）乙烷，无水乙醇，盐酸和水。 还提供了使用二氧化硅溶胶和通过该方法制造的涂层制品的金属基材的表面处理方法，所得涂层提供显着更好的抗腐蚀和抗磨损性能。

公开(公告)号：US20140154441A1

公开(公告)日：2014-06-05

申请号：US14234952

申请日：2012-07-30

申请人： Henrik Pranov

发明人： Henrik Pranov

IPC分类号： C09D5/08 ,  C23C8/36

CPC分类号： C09D5/084 ,  C04B41/009 ,  C04B41/5035 ,  C04B41/87 ,  C23C8/36 ,  C23C18/1212 ,  C23C18/1241 ,  C23C18/1245 ,  C23C18/1295 ,  Y10T428/1317 ,  Y10T428/265 ,  C04B35/00 ,  C04B35/10 ,  C04B35/46 ,  C04B35/48 ,  C04B41/4535 ,  C04B41/4554

摘要： The present invention solves numerous problems in state-of-the-art industrial anti-corrosion protection by using a reactive silicon oxide precursor solution. Among the problems solved are those of decreased heat transfer over a protected surface, limited protection against high-temperature corrosive fluids and difficulties in protecting complex 3D geometries and surfaces with a high surface roughness. The present invention furthermore provides an easy way of making chemical surface functionalization using e.g. silane chemistry. The invention solves these problems by coating the surface of a ceramic or metallic part with a thin layer of a liquid solution of a reactive silicon oxide precursor (rSiO-p) such as Hydrogen Silsesquioxane (HSQ) in Methyl Isobytul Ketone (MIBK) or volatile methyl siloxane (VMS), heating the part to a curing temperature of the rSiO-p, and after a curing time the reactive silicon oxide precursor is transformed into a thin layer of essentially pin-hole free silicon oxide.

摘要翻译： 本发明通过使用反应性氧化硅前体溶液解决了最先进的工业防腐蚀保护中的许多问题。 解决的问题之一是在受保护表面上的传热减少，对高温腐蚀性流体的保护受到限制，并且难以保护具有高表面粗糙度的复杂3D几何形状和表面。 本发明还提供使用例如化学表面官能化的简单方法。 硅烷化学。 本发明通过用甲基异丁酮（MIBK）中的反应性氧化硅前体（rSiO-p）如氢硅倍半氧烷（HSQ）的液体溶液或挥发性物质的薄层涂覆陶瓷或金属部件的表面来解决这些问题。 甲基硅氧烷（VMS），将部分加热至rSiO-p的固化温度，并且在固化时间之后，将反应性氧化硅前体转化为基本上无针孔的氧化硅的薄层。

公开(公告)号：US20140147654A1

公开(公告)日：2014-05-29

申请号：US14119995

申请日：2012-05-30

申请人： Marten Walther ,  Marta Krzyzak

发明人： Marten Walther ,  Marta Krzyzak

IPC分类号： C03C17/34 ,  G02B1/11

CPC分类号： C03C17/3417 ,  C03C17/3429 ,  C03C2217/734 ,  C03C2218/113 ,  C23C18/1212 ,  C23C18/1225 ,  C23C18/1245 ,  C23C18/1254 ,  C23C28/04 ,  G02B1/115 ,  Y10T428/249969 ,  Y10T428/265

摘要： A substrate element for coating with an easy-to-clean coating, the effect of the easy-to-clean coating being improved by the substrate element in terms of its hydrophobic and oleophobic properties and also, more particularly, its long-term stability. The substrate element comprises in particular a support material of glass or glass-ceramic and an antireflection coating, consisting of one layer or of at least two layers, the one layer or the topmost layer of the at least two layers being an adhesion promoter layer which is able to interact with an easy-to-clean coating and comprises a mixed oxide, more particularly a silicon mixed oxide.

摘要翻译： 一种用易于清洁的涂层进行涂层的基底元件，基于其疏水和疏油性质，基底元件改善了易于清洁的涂层的效果，更特别地，其长期稳定性。 衬底元件特别包括由一层或至少两层组成的玻璃或玻璃陶瓷和抗反射涂层的支撑材料，所述至少两层的一层或最顶层是粘附促进剂层，其为 能够与容易清洁的涂层相互作用并且包括混合氧化物，更特别是硅混合氧化物。

公开(公告)号：US08603923B2

公开(公告)日：2013-12-10

申请号：US13920617

申请日：2013-06-18

申请人： Masanobu Hayashi

发明人： Masanobu Hayashi

IPC分类号： H01L21/47 ,  H01L21/471 ,  H01L21/312 ,  H01L21/314 ,  H01L21/3105 ,  H01L21/469 ,  B05D3/02 ,  H01L21/56 ,  C01B15/01

CPC分类号： H01L21/02282 ,  C03C1/008 ,  C03C2203/20 ,  C08G77/62 ,  C09D183/16 ,  C23C18/1212 ,  C23C18/122

摘要： This invention relates to a dipping solution used in a process for producing a siliceous film. The present invention provides a dipping solution and a siliceous film-production process employing the solution. The dipping solution enables to form a homogeneous siliceous film even in concave portions of a substrate having concave portions and convex portions. The substrate is coated with a polysilazane composition, and then dipped in the solution before fire. The dipping solution comprises hydrogen peroxide, a foam-deposit inhibitor, and a solvent.

摘要翻译： 本发明涉及用于生产硅质膜的方法中的浸渍溶液。 本发明提供一种浸渍溶液和采用该溶液的硅质薄膜生产方法。 浸渍溶液能够在具有凹部和凸部的基板的凹部中形成均匀的硅质膜。 用聚硅氮烷组合物涂覆基材，然后在火焰之前浸入溶液中。 浸渍溶液包括过氧化氢，泡沫沉积抑制剂和溶剂。

公开(公告)号：US20130194670A1

公开(公告)日：2013-08-01

申请号：US13713990

申请日：2012-12-13

申请人： Guardian Industries Corp.

发明人： Liang LIANG ,  Chris LOVELL ,  Richard BLACKER ,  Mark A. LEWIS

IPC分类号： B05D5/06 ,  G02B1/11

CPC分类号： B05D5/063 ,  B82Y30/00 ,  C03C1/008 ,  C03C17/007 ,  C03C17/3417 ,  C03C2217/213 ,  C03C2217/73 ,  C03C2217/732 ,  C03C2217/91 ,  C03C2218/113 ,  C03C2218/116 ,  C23C18/1212 ,  C23C18/1225 ,  C23C18/1245 ,  C23C18/1254 ,  C23C18/127 ,  C23C18/1283 ,  G02B1/11 ,  G02B2207/107 ,  G02B2207/109

摘要： Certain examples relate to a method of making an antireflective (AR) coating supported by a glass substrate. The anti-reflection coating may include porous metal oxide(s) and/or silica, and may be produced using a sol-gel process. The pores may be formed and/or tuned in each layer respectively in such a manner that the coating ultimately may comprise a porous matrix, graded with respect to porosity. The gradient in porosity may be achieved by forming first and second layers using one or more of (a) nanoparticles of different shapes and/or sizes, (b) porous nanoparticles having varying pore sizes, and/or (c) compounds/materials of various types, sizes, and shapes that may ultimately be removed from the coating post-deposition (e.g., carbon structures, micelles, etc., removed through combustion, calcination, ozonolysis, solvent-extraction, etc.), leaving spaces where the removed materials were previously located.

摘要翻译： 某些实例涉及制​​备由玻璃基底支撑的抗反射（AR）涂层的方法。 防反射涂层可以包括多孔金属氧化物和/或二氧化硅，并且可以使用溶胶 - 凝胶法制备。 可以以这样的方式分别在各层中形成和/或调整孔，使得涂层最终可以包括相对于多孔性分级的多孔基质。 孔隙度的梯度可以通过使用一种或多种（a）不同形状和/或尺寸的纳米颗粒形成第一层和第二层来实现，（b）具有不同孔径的多孔纳米颗粒和/或（c） 可能最终从涂层后沉积（例如，通过燃烧，煅烧，臭氧分解，溶剂萃取等除去的碳结构，胶束等）中除去的各种类型，尺寸和形状，留下被移除的空间 材料以前位于。

公开(公告)号：US20120135611A1

公开(公告)日：2012-05-31

申请号：US13363638

申请日：2012-02-01

申请人： Fuminori ITO ,  Yoshihiro HAYASHI

发明人： Fuminori ITO ,  Yoshihiro HAYASHI

IPC分类号： H01L21/31

CPC分类号： H01L21/31695 ,  C23C16/401 ,  C23C18/1212 ,  C23C18/122 ,  C23C18/14 ,  H01L21/02126 ,  H01L21/02203 ,  H01L21/02216 ,  H01L21/02274 ,  H01L21/02348 ,  H01L21/02362

摘要： A method includes forming an insulating film over a substrate by introducing a cyclic siloxane compound having a cyclic siloxane as a skeleton and having at least one volatile hydrocarbon group bonded to a side chain, and a silicon-containing compound into a plasma, and converting the insulating film to a porous insulating film by adding energy to the insulating film. The silicon-containing compound is decomposed using less energy as compared with the skeleton of the cyclic siloxane compound, the volatile hydrocarbon group, and the bond between the cyclic siloxane compound and the volatile hydrocarbon group.

摘要翻译： 一种方法包括通过引入具有环状硅氧烷作为骨架并具有至少一个与侧链结合的挥发性烃基的环状硅氧烷化合物，将含硅化合物引入等离子体中，在基板上形成绝缘膜， 通过向绝缘膜添加能量将绝缘膜与多孔绝缘膜接合。 与环状硅氧烷化合物，挥发性烃基，环状硅氧烷化合物和挥发性烃基的键相比，含硅化合物的分解能力较少。

公开(公告)号：US08133579B2

公开(公告)日：2012-03-13

申请号：US12666540

申请日：2008-06-26

申请人： Martin Mennig ,  Helmut Schmidt

发明人： Martin Mennig ,  Helmut Schmidt

IPC分类号： B32B7/02 ,  B05D3/02

CPC分类号： C23C18/1279 ,  C23C18/1212 ,  C23C18/1225 ,  C23C18/1241 ,  C23C18/1254 ,  C23C18/1266 ,  C23C18/1275 ,  Y10T428/24388 ,  Y10T428/249921 ,  Y10T428/25 ,  Y10T428/252 ,  Y10T428/256 ,  Y10T428/257 ,  Y10T428/258 ,  Y10T428/259 ,  Y10T428/265

摘要： The invention relates to a metal substrate comprising an ultra-hard composite layer consisting of an inorganic, vitreous matrix containing one or more abrasive fillers. According to the invention, the diameter of the filler particles or, if the filler particles have a platelet-type form, the thickness of the filler particles is less than the layer thickness of the composite layer.

摘要翻译： 本发明涉及包含由含有一种或多种磨料填料的无机玻璃质基质组成的超硬复合层的金属基材。 根据本发明，填料颗粒的直径，或者如果填料颗粒具有血小板形式，填料颗粒的厚度小于复合层的层厚度。

公开(公告)号：US08088216B2

公开(公告)日：2012-01-03

申请号：US12141381

申请日：2008-06-18

申请人： Katsumi Kishimoto

发明人： Katsumi Kishimoto

IPC分类号： C04B28/26 ,  C04B35/66 ,  C09D1/02 ,  B28B7/28 ,  B28B7/34

CPC分类号： C04B28/34 ,  C04B28/26 ,  C23C18/1212 ,  C23C18/127 ,  C04B14/062 ,  C04B14/30 ,  C04B14/305 ,  C04B22/0013 ,  C04B22/16 ,  C04B2103/54 ,  C04B12/04

摘要： The invention provides a water-borne complete inorganic alkali silicate composition capable of solving the problem of gelation occurred in a preservation solution without using anionic organic substances, expanding the range of application dramatically, additionally solving the problem of efflorescence after coating, which is the biggest problem when the molar ratio is low, and furthermore curing at normal temperature without baking, enabling long-lasting effects.The water-borne complete inorganic alkali silicate composition is comprised of a mixture of an alkali metal silicate including a simple or a mixture of potassium silicate or sodium silicate, a colloidal silica, and a simple or a mixture of a sodium phosphate compound or a potassium phosphate compound.

摘要翻译： 本发明提供了一种能够解决在不使用阴离子有机物质的保存溶液中发生凝胶化问题的水性完全无机碱性硅酸盐组合物，显着扩大应用范围，另外解决了涂层后的风化问题，这是最大的 摩尔比低的问题，并且在常温下进行固化而不进行烘烤，具有长久的效果。 水性完全无机碱性硅酸盐组合物由包括硅酸钾或硅酸钠的简单或混合物的碱金属硅酸盐，胶体二氧化硅和磷酸钠化合物或钾的混合物的混合物组成 磷酸盐化合物。

公开(公告)号：US20110318587A1

公开(公告)日：2011-12-29

申请号：US13229577

申请日：2011-09-09

申请人： Joseph D. Lichtenhan ,  Xuan Fu ,  Paul Wheeler

发明人： Joseph D. Lichtenhan ,  Xuan Fu ,  Paul Wheeler

IPC分类号： B32B15/04

CPC分类号： C23C18/1212 ,  C08K5/5415 ,  C23C18/122 ,  C23C18/1233 ,  C23C18/1287 ,  H01L23/293 ,  H01L2224/16225 ,  H01L2224/48091 ,  H01L2224/48227 ,  H01L2924/00011 ,  H01L2924/00014 ,  H01L2924/15311 ,  H01L2224/0401

摘要： Nanoscopic metallized and nonmetallized nanoscopic silicon containing agents including polyhedral oligomeric silsesquioxane and polyhedral oligomeric silicate provide radiation absorption and in situ formation of nanoscopic glass layers on material surfaces. These property improvements are useful in space-survivable materials, microelectronic packaging, and radiation absorptive paints, coatings and molded articles.

摘要翻译： 包括多面体低聚倍半硅氧烷和多面体低聚硅酸盐的纳米金属化和非金属化的纳米级含硅试剂提供材料表面上的纳米级玻璃层的辐射吸收和原位形成。 这些性能改进在空间生存材料，微电子封装和辐射吸收涂料，涂料和模制品中是有用的。