Abstract:
A method of manufacturing a printed wiring board is provided, which includes the capability of improving manufacturing yield and efficiently forming a metal film by electroplating. In this method, a metal thin film is formed on a substrate (1) having a thin-walled portion (10). Then, an initial circuit pattern is formed on the substrate by patterning the metal thin film. The initial circuit pattern comprises first and second circuit patterns (20, 22) isolated from each other and a conductive layer (40) formed on the thin-walled portion (10) to make a temporary electrical connection between these circuit patterns (20, 22). Electroplating is carried out by the passage of electric current through the initial circuit pattern to form an additional metal film (50) on the initial circuit pattern. After the electroplating, electrical insulation between the first and second circuit patterns (20, 22) is obtained by punching the thin-walled portion (10) with the conductive layer (40).
Abstract:
A high silica content substrate, such as for a device, is provided. The substrate has a high silica content and is thin. The substrate may include a surface with a topography or profile that facilitates bonding with a conductive metal layer, such as a metal layer for a circuit or antenna. The substrate may be flexible, have high temperature resistance, very low CTE, high strength and/or be non-reactive. The substrate may be suitable for use in circuits intended for use in high temperature environments, low temperature environments, reactive environments, or other harsh environments. The substrate may be suitable for high frequency antenna applications.
Abstract:
Изобретение относится к способам изготовления печатных плат и может быть использовано в электронной технике, микроэлектронике, при изготовлении печатных плат для электронных схем и полупроводниковых приборов. Технический результат - повышение качества рисунка металлизации, улучшение надежности коммутации между сторонами платы, улучшение электрических параметров токопроводящего слоя, повышение производительности способа. Согласно способу, в непроводящей подложке в заданных координатах топологии печатной платы выполняют сквозные переходные отверстия, далее на поверхность упомянутой подложки с двух сторон и на стенки переходных отверстий в едином процессе наносят адгезионный подслой, токопроводящий слой и слой металлической маски, далее на слой маски с двух сторон подложки и на стенки переходных отверстий наносят растворимый защитный слой, стойкий к химическим травителям, далее формируют рисунок печатной платы путем лазерного испарения с обеих сторон, по крайней мере, защитного слоя и слоя маски на участках, не занятых токопроводящими дорожками, далее удаляют селективным химическим травлением токопроводящий слой и адгезионный подслой на вскрытых лазерным испарением участков, далее удаляют защитный слой с помощью растворителя с не вскрытых лазерным испарением участках (токопроводящих дорожках печатной платы) и в переходных отверстиях, далее удаляют селективным химическим травлением металлический слой маски с токопроводящих дорожек и в переходных отверстиях, наконец, наносят защитный барьерный слой и слой, обеспечивающий паяемость и/или свариваемость поверхности, с двух сторон подложки на токопроводящих дорожках и в переходных отверстиях.
Abstract:
One of a plurality of capacitors embedded in a printed circuit structure includes a first electrode (415) overlaying a first substrate layer (505) of the printed circuit structure, a crystallized dielectric oxide core (405) overlaying the first electrode, a second electrode (615) overlying the crystallized dielectric oxide core, and a high temperature anti-oxidant layer (220) disposed between and contacting the crystallized dielectric oxide core and at least one of the first and second electrodes. The crystallized dielectric oxide core has a thickness that is less than 1 micron and has a capacitance density greater than 1000 pF/mm
Abstract translation:嵌入印刷电路结构中的多个电容器之一包括覆盖印刷电路结构的第一衬底层(505)的第一电极(415),覆盖第一电极的结晶化电介质氧化物芯(405),第二电极 615),以及设置在结晶的电介质氧化物芯和第一和第二电极中的至少一个之间并与其接触的高温抗氧化剂层(220)。 结晶的电介质氧化物芯的厚度小于1微米,电容密度大于1000pF / mm
Abstract:
The present invention provides an apparatus for cutting nonmetal including glass stably, by which the glass substrate for fabricating a module of a display such as TFT-LCD, PDP and OLED can be cut fast and stably with precision without causing a damage to the substrate to enhance productivity and throughput. The present invention includes a laser beam generator (10) generating a UV short wavelength laser beam, an optical system (11) guiding a beam path of the short wavelength laser beam generated from the laser beam generator (10) to a portion specified for irradiation, a torch (6) condensing to apply the short wavelength laser beam to a specific location on a nonmetallic substrate to be cut, and a relative movement means for allowing the substrate and the laser beam to make a relative movement to cut the substrate.
Abstract:
One of a plurality of capacitors embedded in a printed circuit structure includes a first electrode (415) overlaying a first substrate layer (505) of the printed circuit structure, a crystallized dielectric oxide core (405) overlaying the first electrode, a second electrode (615) overlying the crystallized dielectric oxide core, and a high temperature anti-oxidant layer (220) disposed between and contacting the crystallized dielectric oxide core and at least one of the first and second electrodes. The crystallized dielectric oxide core has a thickness that is less than 1 micron and has a capacitance density greater than 1000 pF/mm 2 . The material and thickness are the same for each of the plurality of capacitors. The crystallized dielectric oxide core may be isolated from crystallized dielectric oxide cores of all other capacitors of the plurality of capacitors.
Abstract translation:嵌入印刷电路结构中的多个电容器之一包括覆盖印刷电路结构的第一衬底层(505)的第一电极(415),覆盖第一电极的结晶化电介质氧化物芯(405),第二电极 615),以及设置在结晶的电介质氧化物芯和第一和第二电极中的至少一个之间并与其接触的高温抗氧化剂层(220)。 结晶的电介质氧化物芯的厚度小于1微米,电容密度大于1000pF / mm 2。 多个电容器的材料和厚度相同。 结晶的电介质氧化物芯可以与多个电容器的所有其它电容器的结晶的电介质氧化物芯隔离。