VERFAHREN ZUM AUFBRINGEN UND ELEKTRISCHEN KONTAKTIEREN VON ELEKTRONISCHEN BAUTEILEN AUF EINE SUBSTRATBAHN
    1.
    发明申请
    VERFAHREN ZUM AUFBRINGEN UND ELEKTRISCHEN KONTAKTIEREN VON ELEKTRONISCHEN BAUTEILEN AUF EINE SUBSTRATBAHN 审中-公开
    方法适用和在基底上火车电子元件电接触

    公开(公告)号:WO2007096220A1

    公开(公告)日:2007-08-30

    申请号:PCT/EP2007/050644

    申请日:2007-01-23

    Abstract: Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Aufbringen und elektrischen Kontaktieren von ersten elektronischen Bauteilen (31) auf eine sich fortbewegende Substratbahn (20), wobei in einem Schritt (26) die ersten Bauteile (31) hintereinander, mindestens einreihig, der Substratbahn (20) zugeführt werden, und in einem weiteren Schritt (32, 35) auf den ersten elektronisehen Bauteilen (31) angeordnete erste Kontaktanschlussflächen mit daneben auf der Substratbahn (20) angeordneten zweiten Kontaktanschlussflächen (23) zweiter Bauteile elektrisch verbunden werden, wobei: die Substratbahn (20) sich kontinuierlich fortbewegt (24), während das erste elektronische Bauteil (31) von einer Zuführeinheit (25, 27) kommend, frei fallend auf einer vorbestimmten Position an einer Oberfläche der Substratbahn (20) auftrifft, die Ausrichtung der positionierten ersten Bauteile (31) relativ zu den zweiten Kontaktanschlussflächen (23) mittels einer optischen Messeinrichtung (29) vermessen werden (30), aus den daraus resultierenden Messergebnissen vorzubestimmende Positionen von elektrisch leitfähigen Verbindungswegen (33a, 33b; 34a, 34b) zwischen den ersten und den ihnen zugeordneten zweiten Kontaktanschlussflächen (23) berechnet werden, und die elektrisch leitfähigen Verbindungswege (33a, 33b; 34a, 34b) mittels mindestens einer gegenüber den Kontaktanschlussflächen (23) beabstandeten ein Leitfluid auftragende Auftrageeinheit (32a) erzeugt werden (32), wobei die Zuführeinheit (26) die Messeinrichtung (29) und die Auftrageeinheit (32a) während des gesamten Verfahrensablaufes die Substratbahn (20), die Bauteile (31) und die Kontaktanschlussflächen (23) nicht berühren.

    Abstract translation: 本发明涉及一种用于其中在步骤(26)一个接一个地在第一部件后面(31),至少一排供给到衬底腹板连续移动的基片带(20),上施加和电接触所述第一电子部件(31)的方法(20) 是,与在所述第一elektronisehen部件的另一步骤(32,35)(31)排列的第一接触垫与旁边的衬底腹板(20)布置的第二接触焊盘(23)第二部件被电连接,其特征在于:所述基片带(20) 连续移动(24),而从进料单元(25,27)在第一电子部件(31)撞击的到来,在预定位置上自由下落衬底腹板(20),所述定位在第一部件的方向的表面上(31) 相对于所述第二接触焊盘(23)是由一个光学测量装置(29)(30)来测量,从 的导电的连接路径(33A,33B所产生的测定结果vorzubestimmende位置; 34A,34B)的)与之(23相关联的第一和第二接触焊盘之间计算,并且导电连接路径(33A,33B; 34A,34B)通过至少一个接触焊盘相对的(23)一个驾驶流体施加施用器单元(32A)间隔开的 生成(32),所述进给单元(26)的整个过程序列期间不接触测量装置(29)和所述施加单元(32a),其基片带(20),所述部件(31)和所述接触垫(23)。

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