半导体封装件以及其制造方法

    公开(公告)号:CN111244043A

    公开(公告)日:2020-06-05

    申请号:CN201911191820.2

    申请日:2019-11-28

    Abstract: 本发明实施例公开了半导体封装件以及其形成方法。半导体封装件中的一个包含第一重布线层结构、封装结构、总线管芯以及多个连接件。封装结构安置在第一重布线层结构上方,且包含多个封装组件。总线管芯和连接件由封装结构与第一重布线层结构之间的第一包封体包封。总线管芯电连接到多个封装组件中的两个或两个以上,且封装结构通过多个连接件电连接到第一重布线层结构。

    半导体结构及其制造方法
    12.
    发明公开

    公开(公告)号:CN109427745A

    公开(公告)日:2019-03-05

    申请号:CN201711224895.7

    申请日:2017-11-29

    Abstract: 本发明实施例涉及半导体结构及其制造方法。根据本发明的一些实施例,一种半导体结构包含:第一裸片,其包含第一表面及与所述第一表面相对的第二表面;模塑物,其环绕所述第一裸片;第一通路,其延伸穿过所述模塑物;互连结构,其包含介电层及导电部件,其中所述介电层放置于所述第一裸片的所述第一表面及所述模塑物下方,且所述导电部件放置于所述介电层内;及第二裸片,其放置于所述模塑物上方,其中所述第二裸片电连接到所述第一通路。

    FEOL/MOL/BEOL中的不同缩放比率

    公开(公告)号:CN104657533A

    公开(公告)日:2015-05-27

    申请号:CN201410036107.1

    申请日:2014-01-24

    Abstract: 本发明提供了FEOL/MOL/BEOL中的不同缩放比率。本发明涉及一种通过以不同缩放比率对初始IC设计的FEOL和BEOL进行缩放来生成缩放集成芯片设计的方法,及其相关设备。在一些实施例中,通过形成集成芯片的图示的初始集成芯片(IC)设计来实施方法。初始IC设计具有前道工序(FEOL)部分、后道工序(BEOL)部分和设置在FEOL部分和BEOL部分之间的中间工序(MOL)部分。通过以不同缩放比率对初始集成芯片设计的FEOL部分和BEOL部分进行缩放(即,缩小),并且通过以不同缩放比率对MOL部分内的不同设计层进行缩放来形成缩放集成芯片设计,以避免FEOL部分和BEOL部分之间的未对准误差。

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