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公开(公告)号：CN103548129A
公开(公告)日：2014-01-29
申请号：CN201180071145.5
申请日：2011-08-30
申请人： EV集团E·索尔纳有限责任公司
IPC分类号： H01L21/60 , H01L23/488
CPC分类号： H01L21/76251 , B23K20/021 , B23K20/023 , B23K35/001 , B23K35/0255 , B23K35/262 , B23K35/302 , B23K2101/40 , H01L21/185 , H01L24/05 , H01L24/08 , H01L24/27 , H01L24/29 , H01L24/32 , H01L24/83 , H01L24/94 , H01L25/0657 , H01L25/50 , H01L2224/038 , H01L2224/0384 , H01L2224/04026 , H01L2224/05557 , H01L2224/05647 , H01L2224/0801 , H01L2224/08501 , H01L2224/2745 , H01L2224/27452 , H01L2224/275 , H01L2224/27505 , H01L2224/278 , H01L2224/2784 , H01L2224/29019 , H01L2224/2908 , H01L2224/29111 , H01L2224/29124 , H01L2224/29144 , H01L2224/29147 , H01L2224/29166 , H01L2224/29181 , H01L2224/29184 , H01L2224/29211 , H01L2224/29311 , H01L2224/29347 , H01L2224/3201 , H01L2224/325 , H01L2224/32501 , H01L2224/7565 , H01L2224/83013 , H01L2224/83022 , H01L2224/83191 , H01L2224/83193 , H01L2224/83203 , H01L2224/83345 , H01L2224/83365 , H01L2224/83385 , H01L2224/838 , H01L2224/8383 , H01L2224/8384 , H01L2224/94 , H01L2924/01029 , H01L2924/01327 , H01L2924/1434 , H01L2924/351 , H01L2924/3511 , H01L2924/0105 , H01L2224/83
摘要： 本发明涉及用于使第一固体衬底（1）与含有第一材料的第二固体衬底（2）粘合的方法，该方法通过下面的步骤，尤其是下面的顺序进行：-在第二固体衬底（2）上形成或施加含有第二材料的功能层（5），-使第一固体衬底（1）与第二固体衬底（2）在功能层（5）上接触，-将固体衬底（1、2）一起压制用于在第一和第二固体衬底（1、2）之间形成永久粘合，该粘合通过第一材料与第二材料的固体扩散和/或相变至少部分地得到增强，其中在功能层（5）上产生体积增加。在粘合过程中，没有或仅仅稍微超出了第一材料对第二材料的溶解度极限，从而尽可能避免金属间相的沉积并与此相反地形成混合晶体。第一材料可以是铜，而第二材料可以是锡。
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公开(公告)号：CN103548129B
公开(公告)日：2017-05-10
申请号：CN201180071145.5
申请日：2011-08-30
申请人： EV 集团 E·索尔纳有限责任公司
IPC分类号： H01L21/60 , H01L23/488
CPC分类号： H01L21/76251 , B23K20/021 , B23K20/023 , B23K35/001 , B23K35/0255 , B23K35/262 , B23K35/302 , B23K2101/40 , H01L21/185 , H01L24/05 , H01L24/08 , H01L24/27 , H01L24/29 , H01L24/32 , H01L24/83 , H01L24/94 , H01L25/0657 , H01L25/50 , H01L2224/038 , H01L2224/0384 , H01L2224/04026 , H01L2224/05557 , H01L2224/05647 , H01L2224/0801 , H01L2224/08501 , H01L2224/2745 , H01L2224/27452 , H01L2224/275 , H01L2224/27505 , H01L2224/278 , H01L2224/2784 , H01L2224/29019 , H01L2224/2908 , H01L2224/29111 , H01L2224/29124 , H01L2224/29144 , H01L2224/29147 , H01L2224/29166 , H01L2224/29181 , H01L2224/29184 , H01L2224/29211 , H01L2224/29311 , H01L2224/29347 , H01L2224/3201 , H01L2224/325 , H01L2224/32501 , H01L2224/7565 , H01L2224/83013 , H01L2224/83022 , H01L2224/83191 , H01L2224/83193 , H01L2224/83203 , H01L2224/83345 , H01L2224/83365 , H01L2224/83385 , H01L2224/838 , H01L2224/8383 , H01L2224/8384 , H01L2224/94 , H01L2924/01029 , H01L2924/01327 , H01L2924/1434 , H01L2924/351 , H01L2924/3511 , H01L2924/0105 , H01L2224/83
摘要： 本发明涉及用于使第一固体衬底（1）与含有第一材料的第二固体衬底（2）粘合的方法，该方法通过下面的步骤，尤其是下面的顺序进行：‑在第二固体衬底（2）上形成或施加含有第二材料的功能层（5），‑使第一固体衬底（1）与第二固体衬底（2）在功能层（5）上接触，‑将固体衬底（1、2）一起压制用于在第一和第二固体衬底（1、2）之间形成永久粘合，该粘合通过第一材料与第二材料的固体扩散和/或相变至少部分地得到增强，其中在功能层（5）上产生体积增加。在粘合过程中，没有或仅仅稍微超出了第一材料对第二材料的溶解度极限，从而尽可能避免金属间相的沉积并与此相反地形成混合晶体。第一材料可以是铜，而第二材料可以是锡。
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公开(公告)号：CN103681525B
公开(公告)日：2016-08-10
申请号：CN201310317704.7
申请日：2013-07-25
申请人： 英飞凌科技股份有限公司
CPC分类号： H01L24/83 , H01L24/28 , H01L24/29 , H01L24/32 , H01L2224/27332 , H01L2224/275 , H01L2224/29006 , H01L2224/29294 , H01L2224/29339 , H01L2224/29347 , H01L2224/32225 , H01L2224/48227 , H01L2224/83191 , H01L2224/83192 , H01L2224/83204 , H01L2224/8384 , H01L2224/83986 , H01L2224/9205 , H01L2924/1305 , H01L2924/13055 , H01L2924/00 , H01L2924/00012 , H01L2224/83203 , H01L2924/00014
摘要： 将半导体芯片和干烧结料抵压在基片上形成一种烧结连接，所述干烧结料位于基片和半导体芯片之间，该干烧结料具有烧结颗粒和溶剂。在半导体芯片被压在基片上时，将基片加热至低于干烧结料的烧结温度，以在相邻烧结颗粒间形成局部烧结连接。局部烧结连接在烧结之前共同提供将半导体芯片固定至基片上的固定接合。在形成固定接合后，由干烧结料形成在半导体芯片与基片间的烧结连接。
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公开(公告)号：CN102292802B
公开(公告)日：2014-11-19
申请号：CN201080005228.X
申请日：2010-01-20
申请人： 日亚化学工业株式会社
CPC分类号： H01L33/44 , H01L23/08 , H01L23/293 , H01L23/49579 , H01L23/49582 , H01L24/17 , H01L24/27 , H01L24/29 , H01L24/32 , H01L24/45 , H01L24/83 , H01L33/62 , H01L2224/05568 , H01L2224/16 , H01L2224/16225 , H01L2224/2712 , H01L2224/2745 , H01L2224/275 , H01L2224/29023 , H01L2224/2908 , H01L2224/29083 , H01L2224/29101 , H01L2224/29111 , H01L2224/29139 , H01L2224/29187 , H01L2224/2919 , H01L2224/29339 , H01L2224/32225 , H01L2224/45144 , H01L2224/73265 , H01L2224/83048 , H01L2224/83055 , H01L2224/83075 , H01L2224/83201 , H01L2224/83203 , H01L2224/83205 , H01L2224/83207 , H01L2224/83439 , H01L2224/83487 , H01L2224/8383 , H01L2224/8384 , H01L2224/83894 , H01L2224/83895 , H01L2224/83896 , H01L2224/83907 , H01L2924/00014 , H01L2924/01004 , H01L2924/01005 , H01L2924/01006 , H01L2924/01012 , H01L2924/01013 , H01L2924/01014 , H01L2924/01019 , H01L2924/0102 , H01L2924/01022 , H01L2924/01024 , H01L2924/01025 , H01L2924/01027 , H01L2924/01028 , H01L2924/01029 , H01L2924/0103 , H01L2924/01032 , H01L2924/01033 , H01L2924/01038 , H01L2924/0104 , H01L2924/01045 , H01L2924/01047 , H01L2924/01049 , H01L2924/0105 , H01L2924/01056 , H01L2924/01057 , H01L2924/01058 , H01L2924/01063 , H01L2924/01064 , H01L2924/01074 , H01L2924/01078 , H01L2924/01079 , H01L2924/01082 , H01L2924/01105 , H01L2924/0132 , H01L2924/01322 , H01L2924/014 , H01L2924/04941 , H01L2924/0541 , H01L2924/0665 , H01L2924/09701 , H01L2924/12035 , H01L2924/12036 , H01L2924/12041 , H01L2924/12042 , H01L2924/14 , H01L2924/15747 , H01L2924/1576 , H01L2924/15787 , H01L2924/15788 , H01L2924/1579 , H01L2924/181 , H01L2924/19041 , H01L2924/19043 , H01L2924/201 , H01L2924/20105 , H01L2924/20106 , H01L2924/20107 , H01L2924/20108 , H01L2924/20109 , H01L2924/2011 , H01L2924/20111 , H01L2924/3025 , H01L2933/0066 , H01S5/0226 , H01L2924/00015 , H01L2924/00 , H01L2924/3512 , H01L2224/48 , H01L2224/05599
摘要： 本发明目的是提供一种制造产生较低的电阻值的导电性材料的方法，该导电性材料是使用不含有粘接剂的便宜且稳定的导电性材料用的组成物而得到的导电性材料。一种将对基体的表面设置的银或氧化银与对半导体元件的表面设置的银或氧化银接合的半导体装置的制造方法，经过以下的工序制造半导体装置：在对基体的表面设置的银或氧化银之上配置对半导体元件的表面设置的银或氧化银以使两者接触的工序；对半导体元件或基体施加压力或施加超声波振动、将半导体元件与基体临时接合的工序；对半导体元件及基体施加150℃～900℃的温度、将半导体元件与基体正式接合的工序。
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公开(公告)号：CN103681525A
公开(公告)日：2014-03-26
申请号：CN201310317704.7
申请日：2013-07-25
申请人： 英飞凌科技股份有限公司
CPC分类号： H01L24/83 , H01L24/28 , H01L24/29 , H01L24/32 , H01L2224/27332 , H01L2224/275 , H01L2224/29006 , H01L2224/29294 , H01L2224/29339 , H01L2224/29347 , H01L2224/32225 , H01L2224/48227 , H01L2224/83191 , H01L2224/83192 , H01L2224/83204 , H01L2224/8384 , H01L2224/83986 , H01L2224/9205 , H01L2924/1305 , H01L2924/13055 , H01L2924/00 , H01L2924/00012 , H01L2224/83203 , H01L2924/00014
摘要： 将半导体芯片和干烧结料抵压在基片上形成一种烧结连接，所述干烧结料位于基片和半导体芯片之间，该干烧结料具有烧结颗粒和溶剂。在半导体芯片被压在基片上时，将基片加热至低于干烧结料的烧结温度，以在相邻烧结颗粒间形成局部烧结连接。局部烧结连接在烧结之前共同提供将半导体芯片固定至基片上的固定接合。在形成固定接合后，由干烧结料形成在半导体芯片与基片间的烧结连接。
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公开(公告)号：CN102292802A
公开(公告)日：2011-12-21
申请号：CN201080005228.X
申请日：2010-01-20
申请人： 日亚化学工业株式会社
CPC分类号： H01L33/44 , H01L23/08 , H01L23/293 , H01L23/49579 , H01L23/49582 , H01L24/17 , H01L24/27 , H01L24/29 , H01L24/32 , H01L24/45 , H01L24/83 , H01L33/62 , H01L2224/05568 , H01L2224/16 , H01L2224/16225 , H01L2224/2712 , H01L2224/2745 , H01L2224/275 , H01L2224/29023 , H01L2224/2908 , H01L2224/29083 , H01L2224/29101 , H01L2224/29111 , H01L2224/29139 , H01L2224/29187 , H01L2224/2919 , H01L2224/29339 , H01L2224/32225 , H01L2224/45144 , H01L2224/73265 , H01L2224/83048 , H01L2224/83055 , H01L2224/83075 , H01L2224/83201 , H01L2224/83203 , H01L2224/83205 , H01L2224/83207 , H01L2224/83439 , H01L2224/83487 , H01L2224/8383 , H01L2224/8384 , H01L2224/83894 , H01L2224/83895 , H01L2224/83896 , H01L2224/83907 , H01L2924/00014 , H01L2924/01004 , H01L2924/01005 , H01L2924/01006 , H01L2924/01012 , H01L2924/01013 , H01L2924/01014 , H01L2924/01019 , H01L2924/0102 , H01L2924/01022 , H01L2924/01024 , H01L2924/01025 , H01L2924/01027 , H01L2924/01028 , H01L2924/01029 , H01L2924/0103 , H01L2924/01032 , H01L2924/01033 , H01L2924/01038 , H01L2924/0104 , H01L2924/01045 , H01L2924/01047 , H01L2924/01049 , H01L2924/0105 , H01L2924/01056 , H01L2924/01057 , H01L2924/01058 , H01L2924/01063 , H01L2924/01064 , H01L2924/01074 , H01L2924/01078 , H01L2924/01079 , H01L2924/01082 , H01L2924/01105 , H01L2924/0132 , H01L2924/01322 , H01L2924/014 , H01L2924/04941 , H01L2924/0541 , H01L2924/0665 , H01L2924/09701 , H01L2924/12035 , H01L2924/12036 , H01L2924/12041 , H01L2924/12042 , H01L2924/14 , H01L2924/15747 , H01L2924/1576 , H01L2924/15787 , H01L2924/15788 , H01L2924/1579 , H01L2924/181 , H01L2924/19041 , H01L2924/19043 , H01L2924/201 , H01L2924/20105 , H01L2924/20106 , H01L2924/20107 , H01L2924/20108 , H01L2924/20109 , H01L2924/2011 , H01L2924/20111 , H01L2924/3025 , H01L2933/0066 , H01S5/0226 , H01L2924/00015 , H01L2924/00 , H01L2924/3512 , H01L2224/48 , H01L2224/05599
摘要： 本发明目的是提供一种制造产生较低的电阻值的导电性材料的方法，该导电性材料是使用不含有粘接剂的便宜且稳定的导电性材料用的组成物而得到的导电性材料。一种将对基体的表面设置的银或氧化银与对半导体元件的表面设置的银或氧化银接合的半导体装置的制造方法，经过以下的工序制造半导体装置：在对基体的表面设置的银或氧化银之上配置对半导体元件的表面设置的银或氧化银以使两者接触的工序；对半导体元件或基体施加压力或施加超声波振动、将半导体元件与基体临时接合的工序；对半导体元件及基体施加150℃～900℃的温度、将半导体元件与基体正式接合的工序。
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