包含含有酰胺基的聚酯的抗蚀剂下层膜形成用组合物

    公开(公告)号:CN109843852A

    公开(公告)日:2019-06-04

    申请号:CN201780062564.X

    申请日:2017-10-03

    摘要: 本发明提供能够获得特别是在KrF工艺中发挥充分的防反射功能、高耐溶剂性和干蚀刻速度的抗蚀剂下层膜、并可以形成良好的截面形状的光致抗蚀剂图案的抗蚀剂下层膜形成用组合物。一种抗蚀剂下层膜形成用组合物,其包含共聚物,所述共聚物包含:来源于二环氧化合物的结构单元(A);以及来源于下述式(1)所示的化合物的结构单元(B),(式中,A表示苯环、或环己烷环,X表示氢原子、碳原子数1~10的烷基、碳原子数1~10的烷氧基、或碳原子数2~11的烷氧基羰基,所述碳原子数1~10的烷基和碳原子数1~10的烷氧基可以具有卤素取代基,Y表示-COOH、或-L-NHCO-Z-COOH,Z表示可以被氧原子、硫原子或氮原子中断的碳原子数3~10的亚烷基,L表示单键、或间隔基)。

    一种氨苯砜的制备方法
    7.
    发明公开

    公开(公告)号:CN108329241A

    公开(公告)日:2018-07-27

    申请号:CN201810326136.X

    申请日:2018-04-12

    摘要: 本发明涉及一种药物合成方法,具体涉及到一种氨苯砜的制备方法。本发明的方法以式П化合物为原料,加入溶剂,在双氧水和催化剂条件下进行氧化反应,得式Ш化合物,式Ш化合物在碱性条件下水解,调pH即得式Ι化合物氨苯砜。该方法制备方法简单、安全性高、所使用的催化剂廉价易得,溶剂可回收套用,对环境友好。制备的产品质量好,氨苯砜按照国家标准检测,其单个杂质和总杂质均小于0.1%。