ヘテロ接合バイポーラトランジスタ用エピタキシャルウェハ及びヘテロ接合バイポーラトランジスタ
    5.
    发明专利

    公开(公告)号:JP2015225883A

    公开(公告)日:2015-12-14

    申请号:JP2014108047

    申请日:2014-05-26

    CPC classification number: H01L21/20 H01L29/737

    Abstract: 【課題】ターンオン電圧をより低下させることが可能なヘテロ接合バイポーラトランジスタ用エピタキシャルウェハ及びヘテロ接合バイポーラトランジスタを提供する。 【解決手段】GaAsからなるコレクタ層103と、コレクタ層103上に形成されると共にInGaAsからなるベース層104と、ベース層104上に形成されると共にInGaPからなるエミッタ層105と、を備えるヘテロ接合バイポーラトランジスタ用エピタキシャルウェハ100において、ベース層104は、コレクタ層103からエミッタ層105に向けてIn組成が低下しているものである。 【選択図】図1

    Abstract translation: 要解决的问题:提供一种用于异质结双极晶体管的外延晶片,其中可以进一步降低导通电压,并提供异质结双极晶体管。解决方案:在用于异质结双极晶体管100的外延晶片中,包括集成层103 的GaAs,形成在集电极层103上并由InGaAs构成的基极层104和形成在基极层104上并由InGaP构成的发射极层105,基极层104的In组成从集电极层103向着 发射极层105。

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