公开(公告)号：US08294166B2

公开(公告)日：2012-10-23

申请号：US11954154

申请日：2007-12-11

申请人： Shuji Nakamura ,  Steven P. DenBaars ,  Hirokuni Asamizu

发明人： Shuji Nakamura ,  Steven P. DenBaars ,  Hirokuni Asamizu

IPC分类号： H01L33/00

CPC分类号： H01L33/62 ,  G02B19/0028 ,  G02B19/0061 ,  H01L33/22 ,  H01L33/387 ,  H01L33/54 ,  H01L33/58 ,  H01L33/60 ,  H01L2224/0554 ,  H01L2224/05568 ,  H01L2224/05573 ,  H01L2224/16245 ,  H01L2224/48247 ,  H01L2224/48257 ,  H01L2224/49107 ,  H01L2224/73265 ,  H01L2924/00014 ,  H01L2924/1815 ,  H01L2933/0091 ,  H01L2224/48091 ,  H01L2224/05599 ,  H01L2224/0555 ,  H01L2224/0556

摘要： A transparent light emitting diode (LED) includes a plurality of III-nitride layers, including an active region that emits light, wherein all of the layers except for the active region are transparent for an emission wavelength of the light, such that the light is extracted effectively through all of the layers and in multiple directions through the layers. Moreover, the surface of one or more of the III-nitride layers may be roughened, textured, patterned or shaped to enhance light extraction.

摘要翻译： 透明发光二极管（LED）包括多个III族氮化物层，包括发射光的有源区，除了有源区以外的所有层对于光的发射波长是透明的，使得光是 通过所有层有效提取，并在多个方向通过层提取。 此外，一个或多个III族氮化物层的表面可以被粗糙化，纹理化，图案化或成形以增强光提取。

公开(公告)号：US08278128B2

公开(公告)日：2012-10-02

申请号：US12364272

申请日：2009-02-02

申请人： Hisashi Masui ,  Hisashi Yamada ,  Kenji Iso ,  Asako Hirai ,  Makoto Saito ,  James S. Speck ,  Shuji Nakamura ,  Steven P. DenBaars

发明人： Hisashi Masui ,  Hisashi Yamada ,  Kenji Iso ,  Asako Hirai ,  Makoto Saito ,  James S. Speck ,  Shuji Nakamura ,  Steven P. DenBaars

IPC分类号： H01L21/00

CPC分类号： H01L33/32 ,  H01L33/16

摘要： An off-axis cut of a nonpolar III-nitride wafer towards a polar (−c) orientation results in higher polarization ratios for light emission than wafers without such off-axis cuts. A 5° angle for an off-axis cut has been confirmed to provide the highest polarization ratio (0.9) than any other examined angles for off-axis cuts between 0° and 27°.

摘要翻译： 非极性III族氮化物晶片向极（-c）取向的偏轴切割导致比没有这种离轴切割的晶片更高的发光偏振比。 已经确认了用于离轴切割的5°角，以提供比在0°和27°之间的离轴切割的任何其它检查角度最高的偏振比（0.9）。

公开(公告)号：US20120180868A1

公开(公告)日：2012-07-19

申请号：US13279131

申请日：2011-10-21

申请人： Robert M. Farrell ,  Carl J. Neufeld ,  Nikholas G. Toledo ,  Steven P. DenBaars ,  Umesh K. Mishra ,  James S. Speck ,  Shuji Nakamura

发明人： Robert M. Farrell ,  Carl J. Neufeld ,  Nikholas G. Toledo ,  Steven P. DenBaars ,  Umesh K. Mishra ,  James S. Speck ,  Shuji Nakamura

IPC分类号： H01L31/0264 ,  H01L31/18

CPC分类号： H01L31/02363 ,  H01L31/02366 ,  H01L31/056 ,  H01L31/0735 ,  H01L31/075 ,  H01L31/076 ,  H01L31/1848 ,  H01L31/1852 ,  Y02E10/52 ,  Y02E10/544 ,  Y02E10/548 ,  Y02P70/521

摘要： A III-nitride photovoltaic device structure and method for fabricating the III-nitride photovoltaic device that increases the light collection efficiency of the III-nitride photovoltaic device. The III-nitride photovoltaic device includes one or more III-nitride device layers, and the III-nitride photovoltaic device functions by collecting light that is incident on the back-side of the III-nitride device layers. The III-nitride device layers are grown on a substrate, wherein the III-nitride device layers are exposed when the substrate is removed and the exposed III-nitride device layers are then intentionally roughened to enhance their light collection efficiency. The collection of the incident light via the back-side of the device simplifies the fabrication of the multiple junctions in the device. The III-nitride photovoltaic device may include grid-like contacts, transparent or semi-transparent contacts, or reflective contacts.

摘要翻译： 用于制造III族氮化物光伏器件的III族氮化物光伏器件结构和方法，其增加了III族氮化物光伏器件的光收集效率。 III族氮化物光伏器件包括一个或多个III族氮化物器件层，并且III族氮化物光伏器件通过收集入射在III族氮化物器件层的背面上的光而起作用。 III族氮化物器件层在衬底上生长，其中当除去衬底时，III族氮化物器件层被暴露，然后有意地暴露暴露的III族氮化物器件层以增强它们的光收集效率。 通过设备背面的入射光的收集简化了器件中多个结的制造。 III族氮化物光伏器件可以包括格栅状触点，透明或半透明触点或反射触点。

公开(公告)号：US20120161287A1

公开(公告)日：2012-06-28

申请号：US13351514

申请日：2012-01-17

申请人： Michael Iza ,  Troy J. Baker ,  Benjamin A. Haskell ,  Steven P. DenBaars ,  Shuji Nakamura

发明人： Michael Iza ,  Troy J. Baker ,  Benjamin A. Haskell ,  Steven P. DenBaars ,  Shuji Nakamura

IPC分类号： H01L29/12 ,  C30B25/18 ,  C30B25/02

CPC分类号： C30B25/02 ,  C30B23/025 ,  C30B25/18 ,  C30B25/183 ,  C30B29/403 ,  C30B29/406 ,  H01L21/02378 ,  H01L21/0242 ,  H01L21/02433 ,  H01L21/02458 ,  H01L21/02505 ,  H01L21/0251 ,  H01L21/0254 ,  H01L21/02573 ,  H01L21/02587 ,  H01L21/02609 ,  H01L21/0262 ,  H01L33/007

摘要： A method for growing a semi-polar nitride semiconductor thin film via metalorganic chemical vapor deposition (MOCVD) on a substrate, wherein a nitride nucleation or buffer layer is grown on the substrate prior to the growth of the semi-polar nitride semiconductor thin film.

摘要翻译： 一种通过金属有机化学气相沉积（MOCVD）在衬底上生长半极性氮化物半导体薄膜的方法，其中在半极性氮化物半导体薄膜生长之前，在衬底上生长氮化物成核或缓冲层。

公开(公告)号：US08178373B2

公开(公告)日：2012-05-15

申请号：US12914906

申请日：2010-10-28

申请人： Mathew C. Schmidt ,  Kwang Choong Kim ,  Hitsohi Sato ,  Steven P. DenBaars ,  James S. Speck ,  Shuji Nakamura

发明人： Mathew C. Schmidt ,  Kwang Choong Kim ,  Hitsohi Sato ,  Steven P. DenBaars ,  James S. Speck ,  Shuji Nakamura

IPC分类号： H01L21/00 ,  H01L33/00

CPC分类号： H01L33/0075 ,  B82Y20/00 ,  H01L21/0237 ,  H01L21/02389 ,  H01L21/02458 ,  H01L21/02507 ,  H01L21/0254 ,  H01S5/34333 ,  H01S2304/04

摘要： A method of device growth and p-contact processing that produces improved performance for non-polar III-nitride light emitting diodes and laser diodes. Key components using a low defect density substrate or template, thick quantum wells, a low temperature p-type III-nitride growth technique, and a transparent conducting oxide for the electrodes.

摘要翻译： 一种器件生长和p接触处理的方法，其产生非极性III族氮化物发光二极管和激光二极管的改善的性能。 使用低缺陷密度衬底或模板的关键组件，厚量子阱，低温p型III族氮化物生长技术和用于电极的透明导电氧化物。

公开(公告)号：US08110482B2

公开(公告)日：2012-02-07

申请号：US12710181

申请日：2010-02-22

申请人： John F. Kaeding ,  Dong-Seon Lee ,  Michael Iza ,  Troy J. Baker ,  Hitoshi Sato ,  Benjamin A. Haskell ,  James S. Speck ,  Steven P. DenBaars ,  Shuji Nakamura

发明人： John F. Kaeding ,  Dong-Seon Lee ,  Michael Iza ,  Troy J. Baker ,  Hitoshi Sato ,  Benjamin A. Haskell ,  James S. Speck ,  Steven P. DenBaars ,  Shuji Nakamura

IPC分类号： H01L21/20 ,  H01L21/36

CPC分类号： H01L21/02433 ,  C30B23/025 ,  C30B25/02 ,  C30B25/18 ,  C30B25/183 ,  C30B29/403 ,  C30B29/406 ,  H01L21/02378 ,  H01L21/0242 ,  H01L21/02458 ,  H01L21/0254 ,  H01L21/0262 ,  H01L33/007

摘要： A method for improved growth of a semipolar (Al,In,Ga,B)N semiconductor thin film using an intentionally miscut substrate. Specifically, the method comprises intentionally miscutting a substrate, loading a substrate into a reactor, heating the substrate under a flow of nitrogen and/or hydrogen and/or ammonia, depositing an InxGa1-xN nucleation layer on the heated substrate, depositing a semipolar nitride semiconductor thin film on the InxGa1-xN nucleation layer, and cooling the substrate under a nitrogen overpressure.

摘要翻译： 使用有意识的基板改善半极性（Al，In，Ga，B）N半导体薄膜生长的方法。 具体地说，该方法包括有意地将基板，基板加载到反应器中，在氮气和/或氢气和/或氨气流下加热基板，在加热的基板上沉积In x Ga 1-x N成核层，沉积半极性氮化物 半导体薄膜在InxGa1-xN成核层上，并在氮气过压下冷却衬底。

公开(公告)号：US20110266551A1

公开(公告)日：2011-11-03

申请号：US12938948

申请日：2010-11-03

申请人： Daniel B. Thompson ,  Jacob J. Richardson ,  Ingrid Koslow ,  Jun Seok Ha ,  Frederick F. Lange ,  Steven P. DenBaars ,  Shuji Nakamura ,  Maryann E. Lange

发明人： Daniel B. Thompson ,  Jacob J. Richardson ,  Ingrid Koslow ,  Jun Seok Ha ,  Frederick F. Lange ,  Steven P. DenBaars ,  Shuji Nakamura ,  Maryann E. Lange

IPC分类号： H01L33/22 ,  H01L33/42 ,  H01L33/30

CPC分类号： H01L33/44 ,  H01L21/288 ,  H01L33/007 ,  H01L33/14 ,  H01L33/28 ,  H01L33/32 ,  H01L33/40

摘要： A high brightness III-Nitride based Light Emitting Diode (LED), comprising multiple surfaces covered by Zinc Oxide (ZnO) layers, wherein the ZnO layers are grown in a low temperature aqueous solution and each have a (0001) c-orientation and a top surface that is a (0001) plane.

摘要翻译： 一种高亮度III-Nitride型发光二极管（LED），包括由氧化锌（ZnO）层覆盖的多个表面，其中ZnO层在低温水溶液中生长，并且各自具有（0001）c取向和 （0001）面的顶面。

公开(公告)号：US08044383B2

公开(公告)日：2011-10-25

申请号：US12611063

申请日：2009-11-02

申请人： Hong Zhong ,  Anurag Tyagi ,  James S. Speck ,  Steven P. DenBaars ,  Shuji Nakamura

发明人： Hong Zhong ,  Anurag Tyagi ,  James S. Speck ,  Steven P. DenBaars ,  Shuji Nakamura

IPC分类号： H01L29/06 ,  H01L31/00

CPC分类号： H01L33/18 ,  H01L33/02

摘要： A light emitting diode (LED) having a p-type layer having a thickness of 100 nm or less, an n-type layer, and an active layer, positioned between the p-type layer and the n-type layer, for emitting light, wherein the LED does not include a separate electron blocking layer.

摘要翻译： 具有厚度为100nm以下的p型层的发光二极管（LED），位于p型层和n型层之间的n型层和有源层，用于发光 ，其中LED不包括单独的电子阻挡层。

公开(公告)号：US07982208B2

公开(公告)日：2011-07-19

申请号：US11472033

申请日：2006-06-21

申请人： Michael D. Craven ,  Stacia Keller ,  Steven P. Denbaars ,  Tal Margalith ,  James Stephen Speck ,  Shuji Nakamura ,  Umesh K. Mishra

发明人： Michael D. Craven ,  Stacia Keller ,  Steven P. Denbaars ,  Tal Margalith ,  James Stephen Speck ,  Shuji Nakamura ,  Umesh K. Mishra

IPC分类号： H01L31/00

CPC分类号： C30B29/403 ,  C30B25/02 ,  C30B25/04 ,  C30B25/105 ,  C30B25/18 ,  C30B29/406 ,  C30B29/605 ,  H01L21/0237 ,  H01L21/0242 ,  H01L21/02433 ,  H01L21/02458 ,  H01L21/0254 ,  H01L21/02609 ,  H01L21/0262 ,  H01L21/02639 ,  H01L21/02647

摘要： A method for forming non-polar (Al,B,In,Ga)N quantum well and heterostructure materials and devices. Non-polar (11 20) a-plane GaN layers are grown on an r-plane (1 102) sapphire substrate using MOCVD. These non-polar (11 20) a-plane GaN layers comprise templates for producing non-polar (Al, B, In, Ga)N quantum well and heterostructure materials and devices.

摘要翻译： 一种形成非极性（Al，B，In，Ga）N量子阱和异质结构材料和器件的方法。 使用MOCVD在非平面（1120）蓝宝石衬底上生长非极性（11 20）a面GaN层。 这些非极性（11 20）a面GaN层包括用于产生非极性（Al，B，In，Ga）N量子阱和异质结构材料和器件的模板。

公开(公告)号：US20110169138A1

公开(公告)日：2011-07-14

申请号：US12909702

申请日：2010-10-21

申请人： You-Da Lin ,  Arpan Chakraborty ,  Shuji Nakamura ,  Steven P. DenBaars

发明人： You-Da Lin ,  Arpan Chakraborty ,  Shuji Nakamura ,  Steven P. DenBaars

IPC分类号： H01L29/20 ,  H01L21/20 ,  H01L21/28

CPC分类号： H01L21/02389 ,  H01L21/0254 ,  H01L21/02579 ,  H01L21/0262 ,  H01L33/0075 ,  H01L33/16 ,  H01L33/40 ,  H01L2933/0016

摘要： A method of fabricating a p-type contact on a nonpolar or semipolar (Al,Ga,In)N device, includes the steps of growing a p-type layer on an (Al,Ga,In)N device, wherein the (Al,Ga,In)N device is a nonpolar or semipolar (Al,Ga,In)N device, and the p-type layer is a nonpolar or semipolar (Al,Ga,In)N layer; and cooling the p-type layer down, in the presence of Bis(Cyclopentadienyl)Magnesium (Cp2Mg), to form a magnesium-nitride (MgxNy) layer on the p-type layer. A metal deposition is performed to fabricate a p-type contact on the p-type layer of the (Al,Ga,In)N device, after the cooling step, wherein the p-type contact has a contact resistivity lower than a p-type contact of a polar (Al,Ga,In)N device with substantially similar composition. A hydrogen chloride (HCl) pre-treatment of the p-type layer may be performed, after the cooling step and before the metal deposition step.

摘要翻译： 在非极性或半极性（Al，Ga，In）N器件上制造p型接触的方法包括在（Al，Ga，In）N器件上生长p型层的步骤，其中（Al ，Ga，In）N器件是非极性或半极性（Al，Ga，In）N器件，p型层是非极性或半极性（Al，Ga，In）N层; 并在双（环戊二烯基）镁（Cp2Mg）的存在下，向下冷却p型层，以在p型层上形成氮化镁（Mg x N y）层。 在冷却步骤之后，进行金属沉积以在（Al，Ga，In）N器件的p型层上制造p型接触，其中p型接触的接触电阻低于p- 极性（Al，Ga，In）N器件的类型接触具有基本相似的组成。 可以在冷却步骤之后和金属沉积步骤之前进行p型层的氯化氢（HCl）预处理。