公开(公告)号：US20120171852A1

公开(公告)日：2012-07-05

申请号：US13266978

申请日：2010-08-02

申请人： Zheng Yuan ,  Mandar B. Pandit ,  Francimar C. Schmitt ,  Yi Zheng ,  Fan Yang ,  Lipan Li ,  Alan Tso ,  Dustin W. Ho ,  Tom K. Cho ,  Randhir Thakur

发明人： Zheng Yuan ,  Mandar B. Pandit ,  Francimar C. Schmitt ,  Yi Zheng ,  Fan Yang ,  Lipan Li ,  Alan Tso ,  Dustin W. Ho ,  Tom K. Cho ,  Randhir Thakur

IPC分类号： H01L21/20 ,  C23C16/50

CPC分类号： H01L21/02532 ,  C23C16/24 ,  C23C16/452 ,  C23C16/505 ,  H01J37/32357 ,  H01J37/32449 ,  H01L21/02576 ,  H01L21/02579 ,  H01L21/0262 ,  H01L31/076 ,  H01L31/1804 ,  H01L31/1824 ,  H01L31/202 ,  Y02E10/545 ,  Y02E10/547 ,  Y02E10/548 ,  Y02P70/521

摘要： Methods for forming and treating a silicon containing layer in a thin film transistor structure or solar cell devices are provided. In one embodiment, a method for forming a silicon containing layer on a substrate includes providing a substrate into a processing chamber, providing a gas mixture having a silicon containing gas into the processing chamber, providing a hydrogen containing gas from a remote plasma source coupled to the processing chamber, applying a RF power less than 17.5 mWatt/cm2 to the processing chamber, and forming a silicon containing layer on the substrate.

摘要翻译： 提供了在薄膜晶体管结构或太阳能电池器件中形成和处理含硅层的方法。 在一个实施例中，在衬底上形成含硅层的方法包括将衬底提供到处理室中，将具有含硅气体的气体混合物提供到处理室中，从远程等离子体源提供含氢气体，其耦合到 处理室，向处理室施加小于17.5mW / cm 2的RF功率，并在基板上形成含硅层。

公开(公告)号：US20130012030A1

公开(公告)日：2013-01-10

申请号：US13634526

申请日：2010-03-17

申请人： Annamalai Lakshmanan ,  Jianshe Tang ,  Dustin W. Ho ,  Francimar C. Schmitt ,  Alan Tso ,  Tom K. Cho ,  Brian Sy-Yuan Shieh ,  Hari K. Ponnekanti ,  Chris Eberspacher ,  Zheng Yuan

发明人： Annamalai Lakshmanan ,  Jianshe Tang ,  Dustin W. Ho ,  Francimar C. Schmitt ,  Alan Tso ,  Tom K. Cho ,  Brian Sy-Yuan Shieh ,  Hari K. Ponnekanti ,  Chris Eberspacher ,  Zheng Yuan

IPC分类号： H01L21/31

CPC分类号： H01L31/1824 ,  C23C16/24 ,  C23C16/452 ,  C23C16/45514 ,  C23C16/45565 ,  C23C16/4557 ,  C23C16/45574 ,  C23C16/5096 ,  H01L31/202 ,  Y02E10/545 ,  Y02P70/521

摘要： An apparatus and methods for depositing amorphous and microcrystalline silicon films during the formation of solar cells are provided. In one embodiment, a method and apparatus is provided for generating and introducing hydrogen radicals directly into a processing region of a processing chamber for reaction with a silicon-containing precursor for film deposition on a substrate. In one embodiment, the hydrogen radicals are generated by a remote plasma source and directly introduced into the processing region via a line of sight path to minimize the loss of energy by the hydrogen radicals prior to reaching the processing region.

摘要翻译： 提供了在形成太阳能电池期间沉积非晶硅和微晶硅膜的装置和方法。 在一个实施方案中，提供了一种方法和装置，用于将氢自由基直接生成并引入到处理室的处理区域中，以与用于在基底上沉积膜的含硅前体反应。 在一个实施方案中，氢自由基由远程等离子体源产生，并且经由视线路径直接引入处理区域，以在到达处理区域之前最小化氢自由基的能量损失。

公开(公告)号：US07692171B2

公开(公告)日：2010-04-06

申请号：US11686900

申请日：2007-03-15

申请人： Andrzei Kaszuba ,  Juan Carlos Rocha-Alvarez ,  Sanjeev Baluja ,  Tom K. Cho ,  Hichem M'Saad ,  Scott A. Hendrickson ,  Dustin W. Ho ,  Thomas Nowak

发明人： Andrzei Kaszuba ,  Juan Carlos Rocha-Alvarez ,  Sanjeev Baluja ,  Tom K. Cho ,  Hichem M'Saad ,  Scott A. Hendrickson ,  Dustin W. Ho ,  Thomas Nowak

IPC分类号： H01J49/00 ,  H01J49/44

CPC分类号： G21K1/062 ,  B82Y10/00 ,  G21K2201/061 ,  G21K2201/064 ,  G21K2201/067 ,  H01L21/67115

摘要： Embodiments of the invention relate generally to an ultraviolet (UV) cure chamber for curing a dielectric material disposed on a substrate and to methods of curing dielectric materials using UV radiation. A substrate processing tool according to one embodiment comprises a body defining a substrate processing region; a substrate support adapted to support a substrate within the substrate processing region; an ultraviolet radiation lamp spaced apart from the substrate support, the lamp configured to transmit ultraviolet radiation to a substrate positioned on the substrate support; and a motor operatively coupled to rotate at least one of the ultraviolet radiation lamp or substrate support at least 180 degrees relative to each other. The substrate processing tool may further comprise one or more reflectors adapted to generate a flood pattern of ultraviolet radiation over the substrate that has complementary high and low intensity areas which combine to generate a substantially uniform irradiance pattern if rotated. Other embodiments are also disclosed.

摘要翻译： 本发明的实施方案一般涉及用于固化设置在基底上的介电材料的紫外（UV）固化室和使用UV辐射固化电介质材料的方法。 根据一个实施例的基板处理工具包括限定基板处理区域的主体; 衬底支撑件，适于支撑衬底处理区域内的衬底; 与衬底支撑件间隔开的紫外线辐射灯，所述灯被配置为将紫外线辐射透射到位于所述衬底支撑件上的衬底; 以及可操作地耦合以使所述紫外线辐射灯或衬底支撑体中的至少一个相对于彼此旋转至少180度的电动机。 衬底处理工具还可以包括一个或多个反射器，其适于在衬底上产生具有互补的高和低强度区域的紫外线辐射的泛化图案，其结合以在旋转时产生基本上均匀的辐照度图案。 还公开了其他实施例。

公开(公告)号：US08203126B2

公开(公告)日：2012-06-19

申请号：US12841935

申请日：2010-07-22

申请人： Juan Carlos Rocha-Alvarez ,  Thomas Nowak ,  Dale R. Du Bois ,  Sanjeev Baluja ,  Scott A. Hendrickson ,  Dustin W. Ho ,  Andrzei Kaszuba ,  Tom K. Cho

发明人： Juan Carlos Rocha-Alvarez ,  Thomas Nowak ,  Dale R. Du Bois ,  Sanjeev Baluja ,  Scott A. Hendrickson ,  Dustin W. Ho ,  Andrzei Kaszuba ,  Tom K. Cho

IPC分类号： G01N21/00 ,  G01N21/33 ,  B01J19/08 ,  B29C35/08

CPC分类号： B05D3/0209 ,  B05D3/0493 ,  B05D3/067 ,  H01L21/31058 ,  H01L21/67115

摘要： Embodiments of the invention relate generally to an ultraviolet (UV) cure chamber for curing a dielectric material disposed on a substrate and to methods of curing dielectric materials using UV radiation. A substrate processing tool according to one embodiment comprises a body defining a substrate processing region; a substrate support adapted to support a substrate within the substrate processing region; an ultraviolet radiation lamp spaced apart from the substrate support, the lamp configured to transmit ultraviolet radiation to a substrate positioned on the substrate support; and a motor operatively coupled to rotate at least one of the ultraviolet radiation lamp or substrate support at least 180 degrees relative to each other. The substrate processing tool may further comprise one or more reflectors adapted to generate a flood pattern of ultraviolet radiation over the substrate that has complementary high and low intensity areas which combine to generate a substantially uniform irradiance pattern if rotated. Other embodiments are also disclosed.

摘要翻译： 本发明的实施方案一般涉及用于固化设置在基底上的介电材料的紫外（UV）固化室和使用UV辐射固化电介质材料的方法。 根据一个实施例的基板处理工具包括限定基板处理区域的主体; 衬底支撑件，适于支撑衬底处理区域内的衬底; 与衬底支撑件间隔开的紫外线辐射灯，所述灯被配置为将紫外线辐射透射到位于所述衬底支撑件上的衬底; 以及可操作地耦合以使所述紫外线辐射灯或衬底支撑体中的至少一个相对于彼此旋转至少180度的电动机。 衬底处理工具还可以包括一个或多个反射器，其适于在衬底上产生具有互补的高和低强度区域的紫外线辐射的泛化图案，其结合以在旋转时产生基本上均匀的辐照度图案。 还公开了其他实施例。

公开(公告)号：US20100285240A1

公开(公告)日：2010-11-11

申请号：US12841935

申请日：2010-07-22

申请人： Juan Carlos Rocha-Alvarez ,  Thomas Nowak ,  Dale R. Du Bois ,  Sanjeev Baluja ,  Scott A. Hendrickson ,  Dustin W. Ho ,  Andrzei Kaszuba ,  Tom K. Cho

发明人： Juan Carlos Rocha-Alvarez ,  Thomas Nowak ,  Dale R. Du Bois ,  Sanjeev Baluja ,  Scott A. Hendrickson ,  Dustin W. Ho ,  Andrzei Kaszuba ,  Tom K. Cho

IPC分类号： B05D3/06

CPC分类号： B05D3/0209 ,  B05D3/0493 ,  B05D3/067 ,  H01L21/31058 ,  H01L21/67115

摘要： Embodiments of the invention relate generally to an ultraviolet (UV) cure chamber for curing a dielectric material disposed on a substrate and to methods of curing dielectric materials using UV radiation. A substrate processing tool according to one embodiment comprises a body defining a substrate processing region; a substrate support adapted to support a substrate within the substrate processing region; an ultraviolet radiation lamp spaced apart from the substrate support, the lamp configured to transmit ultraviolet radiation to a substrate positioned on the substrate support; and a motor operatively coupled to rotate at least one of the ultraviolet radiation lamp or substrate support at least 180 degrees relative to each other. The substrate processing tool may further comprise one or more reflectors adapted to generate a flood pattern of ultraviolet radiation over the substrate that has complementary high and low intensity areas which combine to generate a substantially uniform irradiance pattern if rotated. Other embodiments are also disclosed.

摘要翻译： 本发明的实施方案一般涉及用于固化设置在基底上的介电材料的紫外（UV）固化室和使用UV辐射固化电介质材料的方法。 根据一个实施例的基板处理工具包括限定基板处理区域的主体; 衬底支撑件，适于支撑衬底处理区域内的衬底; 与衬底支撑件间隔开的紫外线辐射灯，所述灯被配置为将紫外线辐射透射到位于所述衬底支撑件上的衬底; 以及可操作地耦合以使所述紫外线辐射灯或衬底支撑体中的至少一个相对于彼此旋转至少180度的电动机。 衬底处理工具还可以包括一个或多个反射器，其适于在衬底上产生具有互补的高和低强度区域的紫外线辐射的泛化图案，其结合以在旋转时产生基本上均匀的辐照度图案。 还公开了其他实施例。

公开(公告)号：US07777198B2

公开(公告)日：2010-08-17

申请号：US11686881

申请日：2007-03-15

申请人： Juan Carlos Rocha-Alvarez ,  Thomas Nowak ,  Dale R. Du Bois ,  Sanjeev Baluja ,  Scott A. Hendrickson ,  Dustin W. Ho ,  Andrzei Kaszuba ,  Tom K. Cho

发明人： Juan Carlos Rocha-Alvarez ,  Thomas Nowak ,  Dale R. Du Bois ,  Sanjeev Baluja ,  Scott A. Hendrickson ,  Dustin W. Ho ,  Andrzei Kaszuba ,  Tom K. Cho

IPC分类号： H01J37/20

CPC分类号： B05D3/0209 ,  B05D3/0493 ,  B05D3/067 ,  H01L21/31058 ,  H01L21/67115

摘要： Embodiments of the invention relate generally to an ultraviolet (UV) cure chamber for curing a dielectric material disposed on a substrate and to methods of curing dielectric materials using UV radiation. A substrate processing tool according to one embodiment comprises a body defining a substrate processing region; a substrate support adapted to support a substrate within the substrate processing region; an ultraviolet radiation lamp spaced apart from the substrate support, the lamp configured to transmit ultraviolet radiation to a substrate positioned on the substrate support; and a motor operatively coupled to rotate at least one of the ultraviolet radiation lamp or substrate support at least 180 degrees relative to each other. The substrate processing tool may further comprise one or more reflectors adapted to generate a flood pattern of ultraviolet radiation over the substrate that has complementary high and low intensity areas which combine to generate a substantially uniform irradiance pattern if rotated. Other embodiments are also disclosed.

摘要翻译： 本发明的实施方案一般涉及用于固化设置在基底上的介电材料的紫外（UV）固化室和使用UV辐射固化电介质材料的方法。 根据一个实施例的基板处理工具包括限定基板处理区域的主体; 衬底支撑件，适于支撑衬底处理区域内的衬底; 与衬底支撑件间隔开的紫外线辐射灯，所述灯被配置为将紫外线辐射透射到位于所述衬底支撑件上的衬底; 以及可操作地耦合以使所述紫外线辐射灯或衬底支撑体中的至少一个相对于彼此旋转至少180度的电动机。 衬底处理工具还可以包括一个或多个反射器，其适于在衬底上产生具有互补的高和低强度区域的紫外线辐射的泛化图案，其结合以在旋转时产生基本上均匀的辐照度图案。 还公开了其他实施例。

公开(公告)号：US07566891B2

公开(公告)日：2009-07-28

申请号：US11686878

申请日：2007-03-15

申请人： Juan Carlos Rocha-Alvarez ,  Thomas Nowak ,  Dale R. Du Bois ,  Sanjeev Baluja ,  Scott A. Hendrickson ,  Dustin W. Ho ,  Andrzei Kaszuba ,  Tom K. Cho

发明人： Juan Carlos Rocha-Alvarez ,  Thomas Nowak ,  Dale R. Du Bois ,  Sanjeev Baluja ,  Scott A. Hendrickson ,  Dustin W. Ho ,  Andrzei Kaszuba ,  Tom K. Cho

IPC分类号： G01N21/00 ,  G01N21/33 ,  B01J19/08 ,  B29C35/08

CPC分类号： B05D3/067

摘要： Embodiments of the invention relate generally to an ultraviolet (UV) cure chamber for curing a dielectric material disposed on a substrate and to methods of curing dielectric materials using UV radiation. A substrate processing tool according to one embodiment comprises a body defining a substrate processing region; a substrate support adapted to support a substrate within the substrate processing region; an ultraviolet radiation lamp spaced apart from the substrate support, the lamp configured to transmit ultraviolet radiation to a substrate positioned on the substrate support; and a motor operatively coupled to rotate at least one of the ultraviolet radiation lamp or substrate support at least 180 degrees relative to each other. The substrate processing tool may further comprise one or more reflectors adapted to generate a flood pattern of ultraviolet radiation over the substrate that has complementary high and low intensity areas which combine to generate a substantially uniform irradiance pattern if rotated. Other embodiments are also disclosed.

摘要翻译： 本发明的实施方案一般涉及用于固化设置在基底上的介电材料的紫外（UV）固化室和使用UV辐射固化电介质材料的方法。 根据一个实施例的基板处理工具包括限定基板处理区域的主体; 衬底支撑件，适于支撑衬底处理区域内的衬底; 与衬底支撑件间隔开的紫外线辐射灯，所述灯被配置为将紫外线辐射透射到位于所述衬底支撑件上的衬底; 以及可操作地耦合以使所述紫外线辐射灯或衬底支撑体中的至少一个相对于彼此旋转至少180度的电动机。 衬底处理工具还可以包括一个或多个反射器，其适于在衬底上产生具有互补的高和低强度区域的紫外线辐射的泛化图案，其结合以在旋转时产生基本上均匀的辐照度图案。 还公开了其他实施例。

公开(公告)号：US07611996B2

公开(公告)日：2009-11-03

申请号：US11085416

申请日：2005-03-21

申请人： Francimar Schmitt ,  Yi Zheng ,  Kang Sub Yim ,  Sang H. Ahn ,  Lester A. D'Cruz ,  Dustin W. Ho ,  Alexandros T. Demos ,  Li-Qun Xia ,  Derek R. Witty ,  Hichem M'Saad

发明人： Francimar Schmitt ,  Yi Zheng ,  Kang Sub Yim ,  Sang H. Ahn ,  Lester A. D'Cruz ,  Dustin W. Ho ,  Alexandros T. Demos ,  Li-Qun Xia ,  Derek R. Witty ,  Hichem M'Saad

IPC分类号： H01L21/469 ,  H01L21/31

CPC分类号： H01L21/76825 ,  C23C16/401 ,  C23C16/56 ,  H01L21/02126 ,  H01L21/02203 ,  H01L21/02208 ,  H01L21/02274 ,  H01L21/02304 ,  H01L21/02351 ,  H01L21/02362 ,  H01L21/3105 ,  H01L21/3121 ,  H01L21/31695 ,  H01L21/76811 ,  H01L21/76813 ,  H01L21/7682 ,  H01L2221/1047 ,  Y10T428/249978

摘要： Embodiments in accordance with the present invention relate to multi-stage curing processes for chemical vapor deposited low K materials. In certain embodiments, a combination of electron beam irradiation and thermal exposure steps may be employed to control selective outgassing of porogens incorporated into the film, resulting in the formation of nanopores. In accordance with one specific embodiment, a low K layer resulting from reaction between a silicon-containing component and a non-silicon containing component featuring labile groups, may be cured by the initial application of thermal energy, followed by the application of radiation in the form of an electron beam.

摘要翻译： 根据本发明的实施方案涉及用于化学气相沉积的低K材料的多阶段固化方法。 在某些实施方案中，可以采用电子束照射和热暴露步骤的组合来控制掺入薄膜中的孔原子的选择性除气，从而形成纳米孔。 根据一个具体实施方案，由含硅组分和含有不稳定基团的不含硅组分之间的反应产生的低K层可以通过初始施加热能来固化，随后在 形式的电子束。

公开(公告)号：US08382885B2

公开(公告)日：2013-02-26

申请号：US12914822

申请日：2010-10-28

申请人： Dustin W. Ho ,  Juan Carlos Rocha-Alvarez ,  Hichem M'Saad

发明人： Dustin W. Ho ,  Juan Carlos Rocha-Alvarez ,  Hichem M'Saad

IPC分类号： B01D53/02

CPC分类号： C23C16/4402 ,  C23C16/4481 ,  C23C16/52

摘要： A filter for filtering a fluid in a substrate processing apparatus comprises first and second stages that are connected to one another. A delivery system provides a vaporized liquid to the filter. The first stage of the filter comprises a basic compound, and the second stage of the filter comprises a desiccant. A second filter comprises a permeation filter with permeable membrane to filter the fluid. Methods of filtering the fluid to reduce formation of undesirable process residues using the filter(s) are also described.

摘要翻译： 用于过滤衬底处理设备中的流体的过滤器包括彼此连接的第一和第二阶段。 输送系统向过滤器提供蒸发的液体。 过滤器的第一阶段包括碱性化合物，并且过滤器的第二阶段包括干燥剂。 第二过滤器包括具有可渗透膜的渗透过滤器以过滤流体。 还描述了使用过滤器过滤流体以减少不期望的工艺残余物的形成的方法。

公开(公告)号：US08338809B2

公开(公告)日：2012-12-25

申请号：US13164745

申请日：2011-06-20

申请人： Yao-Hung Yang ,  Tuan Anh Nguyen ,  Sanjeev Baluja ,  Andrzej Kaszuba ,  Juan Carlos Rocha ,  Thomas Nowak ,  Dustin W. Ho

发明人： Yao-Hung Yang ,  Tuan Anh Nguyen ,  Sanjeev Baluja ,  Andrzej Kaszuba ,  Juan Carlos Rocha ,  Thomas Nowak ,  Dustin W. Ho

IPC分类号： G01N21/33 ,  B01J19/08 ,  B29C35/08

CPC分类号： G21K1/062 ,  B82Y10/00 ,  G21K2201/064 ,  G21K2201/065 ,  G21K2201/067

摘要： A reflector for an ultraviolet lamp can be used in a substrate processing apparatus. The reflector comprises a centrally positioned longitudinal strip and first and second side reflectors to form a parabolic-type surface. The longitudinal strip and first and second side reflectors have curved reflective surfaces with dichroic coatings and the longitudinal strip comprises a plurality of through holes to direct a coolant gas toward the ultraviolet lamp. A chamber that uses an ultraviolet lamp module with the reflector, and a method of ultraviolet treatment are also described.

摘要翻译： 用于紫外灯的反射器可用于基板处理装置。 反射器包括中心定位的纵向条和第一和第二侧反射器以形成抛物线型表面。 纵向条和第一和第二侧反射器具有带有二向色涂层的弯曲反射表面，并且纵向条带包括多个通孔以将冷却剂气体引向紫外线灯。 还描述了使用具有反射器的紫外线灯模块的室以及紫外线处理方法。