積層体フィルムと電極基板フィルムおよびこれ等の製造方法
    46.
    发明申请
    積層体フィルムと電極基板フィルムおよびこれ等の製造方法 审中-公开
    层压膜,电极基板及其制造方法

    公开(公告)号:WO2016031801A1

    公开(公告)日:2016-03-03

    申请号:PCT/JP2015/073800

    申请日:2015-08-25

    Inventor: 大上 秀晴

    Abstract: 【課題】高輝度照明下においても金属製細線から成る回路パターンが視認され難い電極基板フィルムとこれに用いる積層体フィルムを提供する。 【解決手段】透明基板52と金属製の積層細線を有する電極基板フィルムは、積層細線が、線幅20μm以下で透明基板側から数えて第1層目の膜厚が20nm以上30nm以下である金属吸収層51と第2層目の金属層50を有し、可視波長領域(400~780nm)における金属吸収層の光学定数が、波長400nmの屈折率が2.0~2.2、消衰係数が1.8~2.1、波長500nmの屈折率が2.4~2.7、消衰係数が1.9~2.3、波長600nmの屈折率が2.8~3.2、消衰係数が1.9~2.5、波長700nmの屈折率が3.2~3.6、消衰係数が1.7~2.5、波長780nmの屈折率が3.5~3.8、消衰係数が1.5~2.4で、透明基板と金属吸収層の界面反射による可視波長領域の平均反射率が20%以下、可視波長領域の最高透過率と最低透過率の差が10%以下であることを特徴とする。

    Abstract translation: 为了提供即使在高强度照明下也难以看见包括细金属线的电路图形的电极基片,以及用于电极基片的叠层膜。 [方案]具有透明基板52和由金属制成的层叠薄线的电极基板薄膜,其特征在于,所述层叠薄线的线宽为20μm以下,具有第一金属吸收层51, 20-30nm,第二金属层50,从透明基板侧计数; 并且可见光波长区域(400-780nm)中的金属吸收层的光学常数使得波长400nm处的折射率和消光系数分别为2.0-2.2和1.8-2.1,折射率 波长500nm处的消光系数分别为2.4-2.7和1.9-2.3,波长600nm处的折射率和消光系数分别为2.8-3.2和1.9-2.5,折射率和 波长700nm的消光系数分别为3.2-3.6和1.7-2.5,波长780nm处的折射率和消光系数分别为3.5-3.8和1.5-2.4,可见波长区域的平均反射率 由于透明基板和金属吸收层之间的界面反射为20%以下,可见光波长区域的最大透射率与最小透射率之差为10%以下。

    인쇄회로기판 및 그 제조방법
    48.
    发明申请
    인쇄회로기판 및 그 제조방법 审中-公开
    印刷电路板及其制造方法

    公开(公告)号:WO2014088357A1

    公开(公告)日:2014-06-12

    申请号:PCT/KR2013/011247

    申请日:2013-12-06

    Inventor: 최양윤 백옥기

    Abstract: 알루미늄을 이용하여 방열 및 휨 강도를 증가시킬 수 있는 인쇄회로기판 및 그 제조방법이 개시된다. 인쇄회로기판은, 절연체 재질의 절연층, 상기 절연층의 양측면 상에 접합 형성되고 표면에 회로 패턴이 형성된 알루미늄 재질의 베이스층, 상기 베이스층을 상기 절연층에 접합시키기 위해서 개재되는 접합 부재를 포함하여 형성된 양면 기판, 상기 양면 기판에서 상기 베이스층 상에 형성된 제2 절연층, 상기 제2 절연층 상에 제2 접합부재를 이용하여 접합되는 제2 베이스층, 상기 양면 기판 및 상기 제2 절연층과 상기 제2 베이스층을 관통하여 형성되는 비아홀, 상기 제2 베이스층의 표면과 상기 비아홀 내부로 노출된 부분을 아연화시키는 표면 처리하여 형성된 치환층, 상기 치환층 상에 형성되는 도금층 및 상기 도금층 상에 형성되는 제2 회로 패턴을 포함하여 구성된다.

    Abstract translation: 公开了能够通过使用铝来增加散热和弯曲强度的印刷电路板及其制造方法。 印刷电路板包括:双面基板,其包括绝缘材料的绝缘层,基底层,其结合在绝缘层的任一侧并且具有形成在其表面上的电路图案,并且由铝制成 材料和粘合构件,其被插入以将所述基底层粘合到所述绝缘层; 形成在双面基板的基底层上的第二绝缘层; 第二基层,其通过第二接合构件接合在所述第二绝缘层上; 穿过双面基板,第二绝缘层和第二基层的通孔; 通过对所述第二基底层的表面和所述通孔的暴露的内部部分进行镀锌的表面处理而形成的取代层; 形成在取代层上的镀层; 以及形成在镀层上的第二电路图案。

    SUBSTRAT VERRIER TEXTURÉ À PROPRIÉTÉS OPTIQUES AMÉLIORÉES POUR DISPOSITIF OPTOÉLECTRONIQUE
    49.
    发明申请
    SUBSTRAT VERRIER TEXTURÉ À PROPRIÉTÉS OPTIQUES AMÉLIORÉES POUR DISPOSITIF OPTOÉLECTRONIQUE 审中-公开
    具有光电装置的增强光学特性的纹理玻璃基板

    公开(公告)号:WO2013178702A1

    公开(公告)日:2013-12-05

    申请号:PCT/EP2013/061109

    申请日:2013-05-29

    Abstract: Substrat verrier à propriétés optiques améliorées pour dispositifs optoélectroniques, tel que ledit substrat est texturé, par attaque chimique, totalement ou partiellement sur au moins une de ses faces par un ensemble de motifs géométriques tel que l'arctangente du rapport entre la hauteur moyenne des motifs, R z , et la moitié de la distance moyenne séparant les sommets de deux motifs contigus, R Sm , est au moins égal à un angle de 35° et au plus égal à un angle de 80°.

    Abstract translation: 本发明涉及一种具有增强的光电器件光学特性的玻璃基片,其中所述基底通过化学侵蚀在其至少一个表面上具有全部或部分纹理,具有一组几何图案,使得反射器 图案的平均高度Rz与两个连续图案的峰值之间的平均距离的一半RSm的比至少等于35°的角度并且最多等于80°的角度。

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