直立式電鍍設備及其電鍍方法 VERTICAL PLATING EQUIPMENT AND PLATING METHOD THEREOF
    4.
    发明专利
    直立式電鍍設備及其電鍍方法 VERTICAL PLATING EQUIPMENT AND PLATING METHOD THEREOF 审中-公开
    直立式电镀设备及其电镀方法 VERTICAL PLATING EQUIPMENT AND PLATING METHOD THEREOF

    公开(公告)号:TW201139758A

    公开(公告)日:2011-11-16

    申请号:TW099114609

    申请日:2010-05-07

    IPC: C25D

    Abstract: 一種直立式電鍍設備,用以對一晶圓進行電鍍,包括一電鍍槽、一晶座以及一磁致動單元。電鍍槽呈放一電鍍液。晶座夾持該晶圓,並將該晶圓浸入該電鍍液之中。磁致動單元旋轉該晶座,藉此以在該電鍍液中旋轉該晶圓,以均勻化該晶圓的電鍍效果。

    Abstract in simplified Chinese: 一种直立式电镀设备,用以对一晶圆进行电镀,包括一电镀槽、一晶座以及一磁致动单元。电镀槽呈放一电镀液。晶座夹持该晶圆,并将该晶圆浸入该电镀液之中。磁致动单元旋转该晶座,借此以在该电镀液中旋转该晶圆,以均匀化该晶圆的电镀效果。

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