公开(公告)号：US08557684B2

公开(公告)日：2013-10-15

申请号：US13215959

申请日：2011-08-23

申请人： Chih-Wei Wu ,  Szu Wei Lu ,  Jing-Cheng Lin ,  Shin-Puu Jeng ,  Chen-Hua Yu

发明人： Chih-Wei Wu ,  Szu Wei Lu ,  Jing-Cheng Lin ,  Shin-Puu Jeng ,  Chen-Hua Yu

IPC分类号： H01L21/301

CPC分类号： H01L21/78 ,  H01L21/561 ,  H01L23/3128 ,  H01L23/49816 ,  H01L24/13 ,  H01L24/14 ,  H01L24/16 ,  H01L24/48 ,  H01L24/81 ,  H01L24/94 ,  H01L24/97 ,  H01L25/0657 ,  H01L25/50 ,  H01L2224/0401 ,  H01L2224/05025 ,  H01L2224/05026 ,  H01L2224/05572 ,  H01L2224/13022 ,  H01L2224/13082 ,  H01L2224/131 ,  H01L2224/13147 ,  H01L2224/13155 ,  H01L2224/1403 ,  H01L2224/14181 ,  H01L2224/16145 ,  H01L2224/16225 ,  H01L2224/17181 ,  H01L2224/32145 ,  H01L2224/32225 ,  H01L2224/48145 ,  H01L2224/48227 ,  H01L2224/73204 ,  H01L2224/81193 ,  H01L2224/83104 ,  H01L2224/9202 ,  H01L2224/94 ,  H01L2224/97 ,  H01L2225/06506 ,  H01L2225/06513 ,  H01L2225/06541 ,  H01L2225/06568 ,  H01L2924/00014 ,  H01L2924/01029 ,  H01L2924/12042 ,  H01L2924/15311 ,  H01L2924/181 ,  H01L2924/18161 ,  Y02P80/30 ,  H01L2924/00 ,  H01L2224/81 ,  H01L2224/11 ,  H01L2924/00012 ,  H01L2924/014 ,  H01L2224/85 ,  H01L2224/05552 ,  H01L2224/45099 ,  H01L2224/45015 ,  H01L2924/207

摘要： A method includes performing a laser grooving to remove a dielectric material in a wafer to form a trench, wherein the trench extends from a top surface of the wafer to stop at an intermediate level between the top surface and a bottom surface of the wafer. The trench is in a scribe line between two neighboring chips in the wafer. A polymer is filled into the trench and then cured. After the step of curing the polymer, a die saw is performed to separate the two neighboring chips, wherein a kerf line of the die saw cuts through a portion of the polymer filled in the trench.

摘要翻译： 一种方法包括执行激光切槽以去除晶片中的电介质材料以形成沟槽，其中沟槽从晶片的顶表面延伸以在晶片的顶表面和底表面之间的中间水平处停止。 沟槽在晶片中的两个相邻芯片之间的划线中。 将聚合物填充到沟槽中，然后固化。 在固化聚合物的步骤之后，执行模锯以分离两个相邻的芯片，其中模具的切口线切割填充在沟槽中的聚合物的一部分。

公开(公告)号：US20130122659A1

公开(公告)日：2013-05-16

申请号：US13296922

申请日：2011-11-15

申请人： Chih-Wei Wu ,  Szu Wei Lu ,  Jing-Cheng Lin ,  Shin-Puu Jeng ,  Chen-Hua Yu

发明人： Chih-Wei Wu ,  Szu Wei Lu ,  Jing-Cheng Lin ,  Shin-Puu Jeng ,  Chen-Hua Yu

IPC分类号： H01L21/56

CPC分类号： H01L24/97 ,  H01L21/563 ,  H01L23/3128 ,  H01L23/49816 ,  H01L23/49827 ,  H01L24/16 ,  H01L24/32 ,  H01L24/73 ,  H01L24/81 ,  H01L24/92 ,  H01L25/0655 ,  H01L2224/16225 ,  H01L2224/32225 ,  H01L2224/73204 ,  H01L2224/81005 ,  H01L2224/81192 ,  H01L2224/92125 ,  H01L2224/97 ,  H01L2924/15311 ,  H01L2924/3512 ,  H01L2224/81 ,  H01L2924/00012 ,  H01L2924/00

摘要： A method comprises attaching a first side of an interposer on a carrier wafer. The first side of the interposer comprises a plurality of bumps. The carrier wafer comprises a plurality of cavities formed in the carrier wafer. Each bump on the first side of the interposer can fit into its corresponding cavity on the carrier wafer. Subsequently, the method comprises attaching a semiconductor die on the second side of the interposer to form a wafer stack, detaching the wafer stack from the carrier wafer and attaching the wafer stack to a substrate.

摘要翻译： 一种方法包括将插入件的第一侧附着在载体晶片上。 插入器的第一侧包括多个凸块。 载体晶片包括形成在载体晶片中的多个空腔。 插入器的第一侧上的每个凸块可以装配到载体晶片上的相应空腔中。 随后，该方法包括在插入器的第二侧上附加半导体管芯以形成晶片堆叠，将晶片堆叠与载体晶片分离并将晶片堆叠连接到基板。

公开(公告)号：US20130049234A1

公开(公告)日：2013-02-28

申请号：US13216825

申请日：2011-08-24

申请人： Jing-Cheng Lin ,  Chih-Wei Wu ,  Szu Wei Lu ,  Shin-Puu Jeng ,  Chen-Hua Yu

发明人： Jing-Cheng Lin ,  Chih-Wei Wu ,  Szu Wei Lu ,  Shin-Puu Jeng ,  Chen-Hua Yu

IPC分类号： H01L21/78 ,  H01L23/28

CPC分类号： H01L23/49816 ,  H01L21/563 ,  H01L21/78 ,  H01L23/3185 ,  H01L23/49822 ,  H01L23/49827 ,  H01L24/97 ,  H01L2224/73204 ,  H01L2924/01322 ,  H01L2924/12042 ,  H01L2924/15311 ,  H01L2924/181 ,  H01L2924/18161 ,  H01L2924/00 ,  H01L2924/00012

摘要： A method and apparatus for separating a substrate into individual dies and the resulting structure is provided. A modification layer, such as an amorphous layer, is formed within the substrate. A laser focused within the substrate may be used to create the modification layer. The modification layer creates a relatively weaker region that is more prone to cracking than the surrounding substrate material. As a result, the substrate may be pulled apart into separate sections, causing cracks the substrate along the modification layers. Dice or other components may be attached to the substrate before or after separation.

摘要翻译： 提供了一种用于将基底分离成单个模具的方法和装置，并且提供了所得到的结构。 在衬底内形成诸如非晶层的改性层。 可以使用聚焦在衬底内的激光来产生修饰层。 改性层产生比周围的基材更容易破裂的相对较弱的区域。 结果，衬底可以被拉开到分开的部分中，从而沿着修饰层裂开衬底。 在分离之前或之后，骰子或其它组分可附着于基底。

公开(公告)号：US08816498B2

公开(公告)日：2014-08-26

申请号：US13189127

申请日：2011-07-22

申请人： Cheng-Chieh Hsieh ,  Cheng-Lin Huang ,  Po-Hao Tsai ,  Shang-Yun Hou ,  Jing-Cheng Lin ,  Shin-Puu Jeng

发明人： Cheng-Chieh Hsieh ,  Cheng-Lin Huang ,  Po-Hao Tsai ,  Shang-Yun Hou ,  Jing-Cheng Lin ,  Shin-Puu Jeng

IPC分类号： H01L23/485 ,  H01L21/768

摘要： A system and method for conductive pillars is provided. An embodiment comprises a conductive pillar having trenches located around its outer edge. The trenches are used to channel conductive material such as solder when a conductive bump is formed onto the conductive pillar. The conductive pillar may then be electrically connected to another contact through the conductive material.

公开(公告)号：US20120045611A1

公开(公告)日：2012-02-23

申请号：US12858211

申请日：2010-08-17

申请人： Ying-Ching Shih ,  Weng-Jin Wu ,  Jing-Cheng Lin ,  Wen-Chih Chiou ,  Shin-Puu Jeng ,  Chen-Hua Yu

发明人： Ying-Ching Shih ,  Weng-Jin Wu ,  Jing-Cheng Lin ,  Wen-Chih Chiou ,  Shin-Puu Jeng ,  Chen-Hua Yu

IPC分类号： H01L23/12 ,  B32B3/24 ,  B32B3/26 ,  B32B38/10 ,  H01L21/50 ,  B32B37/02 ,  B32B37/12 ,  B32B17/06 ,  B32B7/12

CPC分类号： G07F17/3213 ,  B32B17/10 ,  B32B37/1207 ,  B32B37/182 ,  B32B37/185 ,  B32B2457/14 ,  H01L21/6835 ,  H01L2221/68318 ,  H01L2221/68327 ,  H01L2221/6834 ,  H01L2221/68381

摘要： A composite carrier structure for manufacturing semiconductor devices is provided. The composite carrier structure utilizes multiple carrier substrates, e.g., glass or silicon substrates, coupled together by interposed adhesive layers. The composite carrier structure may be attached to a wafer or a die for, e.g., backside processing, such as thinning processes. In an embodiment, the composite carrier structure comprises a first carrier substrate having through-substrate vias formed therethrough. The first substrate is attached to a second substrate using an adhesive such that the adhesive may extend into the through-substrate vias.

摘要翻译： 提供了一种用于制造半导体器件的复合载体结构。 复合载体结构利用多个载体衬底，例如玻璃或硅衬底，通过插入的粘合剂层耦合在一起。 复合载体结构可以附接到晶片或模具，用于例如背面处理，例如变薄处理。 在一个实施例中，复合载体结构包括具有贯穿其中形成的贯通基板通孔的第一载体基板。 使用粘合剂将第一衬底附接到第二衬底，使得粘合剂可以延伸到贯穿衬底通孔中。

公开(公告)号：US08426961B2

公开(公告)日：2013-04-23

申请号：US12823851

申请日：2010-06-25

申请人： Ying-Ching Shih ,  Jing-Cheng Lin ,  Wen-Chih Chiou ,  Shin-Puu Jeng ,  Chen-Hua Yu

发明人： Ying-Ching Shih ,  Jing-Cheng Lin ,  Wen-Chih Chiou ,  Shin-Puu Jeng ,  Chen-Hua Yu

IPC分类号： H01L23/14 ,  H01L23/498 ,  H01L23/538 ,  H01L25/065 ,  H01L21/48

CPC分类号： H01L21/76885 ,  H01L21/486 ,  H01L21/56 ,  H01L23/13 ,  H01L23/147 ,  H01L23/3128 ,  H01L23/49816 ,  H01L23/49827 ,  H01L23/5389 ,  H01L24/94 ,  H01L24/97 ,  H01L25/0657 ,  H01L2224/04105 ,  H01L2224/11002 ,  H01L2224/12105 ,  H01L2224/13025 ,  H01L2224/14181 ,  H01L2224/16148 ,  H01L2224/16238 ,  H01L2224/2518 ,  H01L2224/32145 ,  H01L2224/32225 ,  H01L2224/73204 ,  H01L2224/73267 ,  H01L2224/92244 ,  H01L2224/94 ,  H01L2224/97 ,  H01L2225/06513 ,  H01L2225/06517 ,  H01L2225/06524 ,  H01L2225/06548 ,  H01L2924/01322 ,  H01L2924/14 ,  H01L2924/15153 ,  H01L2924/181 ,  H05K1/0306 ,  H05K1/185 ,  H05K3/4007 ,  H05K2203/016 ,  H05K2203/025 ,  H01L2224/83 ,  H01L2224/82 ,  H01L2224/16225 ,  H01L2924/00 ,  H01L2224/16145 ,  H01L2924/00012

摘要： A device includes an interposer, which includes a substrate; and at least one dielectric layer over the substrate. A plurality of through-substrate vias (TSVs) penetrate through the substrate. A first metal bump is in the at least one dielectric layer and electrically coupled to the plurality of TSVs. A second metal bump is over the at least one dielectric layer. A die is embedded in the at least one dielectric layer and bonded to the first metal bump.

摘要翻译： 一种装置包括：插入件，其包括基板; 以及衬底上的至少一个电介质层。 多个穿通基板通孔（TSV）穿透基板。 第一金属凸块在至少一个电介质层中并电耦合到多个TSV。 第二金属凸块在至少一个电介质层的上方。 模具嵌入在至少一个电介质层中并结合到第一金属凸块。

公开(公告)号：US08846499B2

公开(公告)日：2014-09-30

申请号：US12858211

申请日：2010-08-17

申请人： Ying-Ching Shih ,  Weng-Jin Wu ,  Jing-Cheng Lin ,  Wen-Chih Chiou ,  Shin-Puu Jeng ,  Chen-Hua Yu

发明人： Ying-Ching Shih ,  Weng-Jin Wu ,  Jing-Cheng Lin ,  Wen-Chih Chiou ,  Shin-Puu Jeng ,  Chen-Hua Yu

IPC分类号： H01L21/30

CPC分类号： G07F17/3213 ,  B32B17/10 ,  B32B37/1207 ,  B32B37/182 ,  B32B37/185 ,  B32B2457/14 ,  H01L21/6835 ,  H01L2221/68318 ,  H01L2221/68327 ,  H01L2221/6834 ,  H01L2221/68381

摘要： A composite carrier structure for manufacturing semiconductor devices is provided. The composite carrier structure utilizes multiple carrier substrates, e.g., glass or silicon substrates, coupled together by interposed adhesive layers. The composite carrier structure may be attached to a wafer or a die for, e.g., backside processing, such as thinning processes. In an embodiment, the composite carrier structure comprises a first carrier substrate having through-substrate vias formed therethrough. The first substrate is attached to a second substrate using an adhesive such that the adhesive may extend into the through-substrate vias.

摘要翻译： 提供了一种用于制造半导体器件的复合载体结构。 复合载体结构利用多个载体衬底，例如玻璃或硅衬底，通过插入的粘合剂层耦合在一起。 复合载体结构可以附接到晶片或模具，用于例如背面处理，例如变薄处理。 在一个实施例中，复合载体结构包括具有贯穿其中形成的贯通基板通孔的第一载体基板。 使用粘合剂将第一衬底附接到第二衬底，使得粘合剂可以延伸到贯穿衬底通孔中。

公开(公告)号：US20110316147A1

公开(公告)日：2011-12-29

申请号：US12823851

申请日：2010-06-25

申请人： Ying-Ching Shih ,  Jing-Cheng Lin ,  Wen-Chih Chiou ,  Shin-Puu Jeng ,  Chen-Hua Yu

发明人： Ying-Ching Shih ,  Jing-Cheng Lin ,  Wen-Chih Chiou ,  Shin-Puu Jeng ,  Chen-Hua Yu

IPC分类号： H01L23/488

CPC分类号： H01L21/76885 ,  H01L21/486 ,  H01L21/56 ,  H01L23/13 ,  H01L23/147 ,  H01L23/3128 ,  H01L23/49816 ,  H01L23/49827 ,  H01L23/5389 ,  H01L24/94 ,  H01L24/97 ,  H01L25/0657 ,  H01L2224/04105 ,  H01L2224/11002 ,  H01L2224/12105 ,  H01L2224/13025 ,  H01L2224/14181 ,  H01L2224/16148 ,  H01L2224/16238 ,  H01L2224/2518 ,  H01L2224/32145 ,  H01L2224/32225 ,  H01L2224/73204 ,  H01L2224/73267 ,  H01L2224/92244 ,  H01L2224/94 ,  H01L2224/97 ,  H01L2225/06513 ,  H01L2225/06517 ,  H01L2225/06524 ,  H01L2225/06548 ,  H01L2924/01322 ,  H01L2924/14 ,  H01L2924/15153 ,  H01L2924/181 ,  H05K1/0306 ,  H05K1/185 ,  H05K3/4007 ,  H05K2203/016 ,  H05K2203/025 ,  H01L2224/83 ,  H01L2224/82 ,  H01L2224/16225 ,  H01L2924/00 ,  H01L2224/16145 ,  H01L2924/00012

摘要： A device includes an interposer, which includes a substrate; and at least one dielectric layer over the substrate. A plurality of through-substrate vias (TSVs) penetrate through the substrate. A first metal bump is in the at least one dielectric layer and electrically coupled to the plurality of TSVs. A second metal bump is over the at least one dielectric layer. A die is embedded in the at least one dielectric layer and bonded to the first metal bump.

摘要翻译： 一种装置包括：插入件，其包括基板; 以及衬底上的至少一个电介质层。 多个穿通基板通孔（TSV）穿透基板。 第一金属凸块在至少一个电介质层中并电耦合到多个TSV。 第二金属凸块在至少一个电介质层的上方。 模具嵌入在至少一个电介质层中并结合到第一金属凸块。

公开(公告)号：US20130199577A1

公开(公告)日：2013-08-08

申请号：US13369138

申请日：2012-02-08

申请人： I-Ting Chen ,  Ying-Ching Shih ,  Szu Wei Lu ,  Jing-Cheng Lin

发明人： I-Ting Chen ,  Ying-Ching Shih ,  Szu Wei Lu ,  Jing-Cheng Lin

IPC分类号： B08B7/04 ,  B08B5/00 ,  B08B3/08 ,  B08B3/02 ,  B08B3/12

CPC分类号： H01L21/02041 ,  H01L21/4864 ,  H01L21/67028 ,  H01L24/81 ,  H01L2224/16225 ,  H01L2224/16227 ,  H01L2224/32225 ,  H01L2224/73204 ,  H01L2224/81815 ,  H01L2224/81911 ,  H01L2924/00014 ,  H01L2924/07802 ,  H01L2924/00 ,  H01L2224/0401

摘要： A flux residue cleaning system includes first and second immersion chambers, first and second spray chambers, and a drying chamber. The first immersion chamber softens an outer region of a flux residue formed around microbumps interposed between a wafer and a die when the wafer is immersed in a first chemical. The first spray chamber removes the outer region of the flux residue when the wafer is impinged upon by a first chemical spray in order to expose an inner region of the flux residue. The second immersion chamber softens the inner region of the flux residue when the wafer is immersed in a second chemical. The second spray chamber removes the inner region of the flux residue when the wafer is impinged upon by a second chemical spray in order to clean the wafer to a predetermined standard. The drying chamber dries the wafer.

摘要翻译： 助焊剂残渣清洁系统包括第一和第二浸没室，第一和第二喷雾室以及干燥室。 当晶片浸入第一化学品中时，第一浸入室软化在介于晶片和管芯之间的微胶片周围形成的焊剂残余物的外部区域。 当晶片通过第一化学喷雾冲击以便暴露焊剂残余物的内部区域时，第一喷雾室除去焊剂残余物的外部区域。 当晶片浸入第二种化学品中时，第二浸入室软化助焊剂残余物的内部区域。 当晶片被第二化学喷雾冲击时，第二喷雾室去除焊剂残余物的内部区域，以便将晶​​片清洁至预定的标准。 干燥室干燥晶片。

公开(公告)号：US09406500B2

公开(公告)日：2016-08-02

申请号：US13369138

申请日：2012-02-08

申请人： I-Ting Chen ,  Ying-Ching Shih ,  Szu Wei Lu ,  Jing-Cheng Lin

发明人： I-Ting Chen ,  Ying-Ching Shih ,  Szu Wei Lu ,  Jing-Cheng Lin

IPC分类号： H01L21/02 ,  H01L21/67 ,  H01L21/48 ,  H01L23/00

CPC分类号： H01L21/02041 ,  H01L21/4864 ,  H01L21/67028 ,  H01L24/81 ,  H01L2224/16225 ,  H01L2224/16227 ,  H01L2224/32225 ,  H01L2224/73204 ,  H01L2224/81815 ,  H01L2224/81911 ,  H01L2924/00014 ,  H01L2924/07802 ,  H01L2924/00 ,  H01L2224/0401

摘要： A flux residue cleaning system includes first and second immersion chambers, first and second spray chambers, and a drying chamber. The first immersion chamber softens an outer region of a flux residue formed around microbumps interposed between a wafer and a die when the wafer is immersed in a first chemical. The first spray chamber removes the outer region of the flux residue when the wafer is impinged upon by a first chemical spray in order to expose an inner region of the flux residue. The second immersion chamber softens the inner region of the flux residue when the wafer is immersed in a second chemical. The second spray chamber removes the inner region of the flux residue when the wafer is impinged upon by a second chemical spray in order to clean the wafer to a predetermined standard. The drying chamber dries the wafer.

摘要翻译： 助焊剂残渣清洁系统包括第一和第二浸没室，第一和第二喷雾室以及干燥室。 当晶片浸入第一化学品中时，第一浸入室软化在介于晶片和管芯之间的微胶片周围形成的焊剂残余物的外部区域。 当晶片通过第一化学喷雾撞击以暴露焊剂残留物的内部区域时，第一喷雾室除去焊剂残余物的外部区域。 当晶片浸入第二种化学品中时，第二浸入室软化助焊剂残余物的内部区域。 当晶片被第二化学喷雾冲击时，第二喷雾室去除焊剂残余物的内部区域，以便将晶​​片清洁至预定的标准。 干燥室干燥晶片。