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5862 条记录 (耗时 0.039 秒)

    Lithography aware leakage analysis
    54.
    发明授权
    Lithography aware leakage analysis 有权
    光刻感知泄漏分析

    公开(公告)号：US09576098B2

    公开(公告)日：2017-02-21

    申请号：US14066272

    申请日：2013-10-29

    申请人： Synopsys, Inc.

    发明人： Emre Tuncer ,  Hui Zheng ,  Vivek Raghavan ,  Anirudh Devgan ,  Amir Ajami ,  Alessandra Nardi ,  Tao Lin ,  Pramod Thazhathethil ,  Alfred Wong

    IPC分类号： G06F17/50 ,  G06F19/00 ,  G03F1/00 ,  G21K5/00

    CPC分类号： G06F17/5081 ,  G06F17/5036 ,  G06F17/5068 ,  G06F2217/12

    摘要： A method for performing leakage analysis includes receiving information specifying an integrated circuit. A neighborhood of shapes associated with the integrated circuit is then determined. Leakage information associated with the integrated circuit is generated based on the neighborhood of shapes. The neighborhood of shapes may be determined by determining a first set of spacings to a boundary of a first cell from an internal shape. A second set of spacings may be determined from the boundary of the first cell to a shape of a second cell. A lithography process may be characterized using the first and second set of spacings.

    摘要翻译： 执行泄漏分析的方法包括接收指定集成电路的信息。 然后确定与集成电路相关联的形状的邻域。 基于形状附近生成与集成电路相关的泄漏信息。 可以通过从内部形状确定第一单元的边界的第一组间距来确定形状的邻域。 可以从第一单元的边界到第二单元的形状来确定第二组间隔。 可以使用第一和第二组间隔来表征光刻工艺。

    Lithographic apparatus, substrate and device manufacturing method
    56.
    发明授权
    Lithographic apparatus, substrate and device manufacturing method 有权
    平版印刷设备，基板和器件制造方法

    公开(公告)号：US09563131B2

    公开(公告)日：2017-02-07

    申请号：US14934734

    申请日：2015-11-06

    申请人： ASML Netherlands B.V.

    发明人： Richard Quintanilha

    IPC分类号： G03B27/54 ,  G03B27/52 ,  G03F7/20 ,  G03F1/00 ,  G01N21/93 ,  G01N21/956

    CPC分类号： G03F7/70308 ,  G01N21/93 ,  G01N21/956 ,  G03F1/144 ,  G03F7/70641 ,  G03F7/70683

    摘要： A method uses a lithographic apparatus to form an inspection target structure upon a substrate. The method comprises forming the periphery of the inspection target structure so as to provide a progressive optical contrast transition between the inspection target structure and its surrounding environment. This may be achieved by providing a progressive change in the optical index at the periphery of the target structure.

    摘要翻译： 一种方法使用光刻设备在基板上形成检查目标结构。 该方法包括形成检查对象结构的周边，以便在检查目标结构及其周围环境之间提供逐行的光学对比度过渡。 这可以通过提供目标结构的周边处的光学折射率的逐渐变化来实现。

    Cut mask design layers to provide compact cell height
    58.
    发明授权
    Cut mask design layers to provide compact cell height 有权
    切割面膜设计层以提供紧凑的细胞高度

    公开(公告)号：US09551923B2

    公开(公告)日：2017-01-24

    申请号：US14247409

    申请日：2014-04-08

    申请人： Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd.

    发明人： Yen-Sen Wang ,  Ming-Yi Lin ,  Chen-Hung Lu ,  Jyh-Kang Ting

    IPC分类号： G06F17/50 ,  G03F1/00

    CPC分类号： G03F1/00 ,  H01L27/0207 ,  H01L27/11807 ,  H01L2027/11874

    摘要： Some embodiments relate to a method of designing an integrated circuit layout. In this method, a plurality of design shapes are provided on different design layers over an active area within a graphical representation of the layout. A connection extends perpendicularly between a first design shape formed on a first design layer and a second design shape formed on the first design layer. First and second cut mask shapes on first and second cut mask design layers, respectively, are generated. The first cut shape removes portions of the first design layer and the second cut shape removes portions of the second design layer.

    摘要翻译： 一些实施例涉及设计集成电路布局的方法。 在该方法中，在布局的图形表示内的有效区域上，在不同的设计层上提供多个设计形状。 连接在形成在第一设计层上的第一设计形状和形成在第一设计层上的第二设计形状之间垂直延伸。 产生分别在第一和第二切割掩模设计层上的第一和第二切割掩模形状。 第一切割形状去除第一设计层的部分，并且第二切割形状去除第二设计层的部分。

    Index matched grating inscription
    59.
    发明授权
    Index matched grating inscription 有权
    索引匹配光栅铭文

    公开(公告)号：US09547229B2

    公开(公告)日：2017-01-17

    申请号：US14185564

    申请日：2014-02-20

    申请人： OFS Fitel, LLC

    发明人： Kenneth S Feder ,  Paul S Westbrook

    IPC分类号： G02B6/34 ,  G03F1/00 ,  G03F7/00 ,  G02B6/02

    CPC分类号： G03F1/00 ,  G02B6/02138 ,  G03F7/0005

    摘要： The disclosed embodiments provide systems and methods for mitigating lensing and scattering as an optical fiber is being inscribed with a grating. The disclosed systems and methods mitigate the lensing phenomenon by surrounding an optical fiber with an index-matching material that is held in a vessel with a sealed phase mask. The sealed phase mask allows it to be in contact with a liquid index-matching material without having the liquid index-matching material seep into the grooves of the sealed phase mask. Thus, for some embodiments, the sealed phase mask may be immersed in a liquid index-matching material without adversely affecting the function of the phase mask.

    摘要翻译： 所公开的实施例提供了当光纤正刻有光栅时减轻透镜和散射的系统和方法。 所公开的系统和方法通过用保持在具有密封相位掩模的容器中的折射率匹配材料围绕光纤来减轻透镜现象。 密封相位掩模允许其与液体指数匹配材料接触而不使液体指数匹配材料渗入密封相掩模的凹槽中。 因此，对于一些实施例，密封相掩模可以浸没在液体折射率匹配材料中，而不会不利地影响相位掩模的功能。

    Measuring apparatus and measuring method
    60.
    发明授权
    Measuring apparatus and measuring method 有权
    测量装置和测量方法

    公开(公告)号：US09544558B2

    公开(公告)日：2017-01-10

    申请号：US14558278

    申请日：2014-12-02

    申请人： Lasertec Corporation

    发明人： Koyo Tada ,  Hiroto Nozawa ,  Hideo Takizawa

    IPC分类号： G01B9/02 ,  H04N9/31 ,  G01J9/02 ,  G03F1/00 ,  G01M11/00

    CPC分类号： H04N9/3191 ,  G01B9/02098 ,  G01J9/02 ,  G01M11/00 ,  G03F1/00 ,  G03F1/26

    摘要： Provided is a phase shift amount measuring apparatus and method capable of measuring a phase shift amount and a transmittance of a phase shift mask in one measurement step by using a miniaturized monitor pattern. The phase shift amount and transmittance of the monitor pattern are simultaneously measured using a shearing interferometer. The phase shift amount is obtained from a phase difference of interference light between light passing through the monitor pattern and light passing through a non-pattern area. The transmittance of the monitor pattern is obtained using an amplitude of interference light between light passing through the monitor pattern and light passing through the non-pattern area and an amplitude of interference light between light beams passing through the non-pattern area. The use of common interference images in measuring the phase shift amount and transmittance enables measurement of both the phase shift amount and the transmittance in one measurement operation.

    摘要翻译： 提供一种能够通过使用小型化监视器图案来测量一个测量步骤中的相移掩模的相移量和透射率的相移量测量装置和方法。 使用剪切干涉仪同时测量监视器图案的相移量和透射率。 从穿过监视器图案的光和通过非图案区的光之间的干涉光的相位差获得相移量。 使用通过监视器图案的光和通过非图案区域的光之间的干涉光的幅度和通过非图案区域的光束之间的干涉光的幅度来获得监视器图案的透射率。 在测量相移量和透射率时使用普通干涉图像可以在一次测量操作中测量相移量和透射率。