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    Electrostatic deflection system with low aberrations and vertical beam incidence
    1.
    发明授权
    Electrostatic deflection system with low aberrations and vertical beam incidence 有权
    具有低像差和垂直光束入射的静电偏转系统

    公开(公告)号：US07315029B2

    公开(公告)日：2008-01-01

    申请号：US11241880

    申请日：2005-09-30

    申请人： Dieter Winkler ,  Henry Pearce-Percy ,  Juergen Frosien ,  William J. Devore

    发明人： Dieter Winkler ,  Henry Pearce-Percy ,  Juergen Frosien ,  William J. Devore

    IPC分类号： G21K1/08 ,  H01J3/14 ,  H01J3/26 ,  H01J49/42

    CPC分类号： H01J37/1477 ,  H01J2237/1518 ,  H01J2237/28 ,  H01J2237/3175

    摘要： Embodiments of the present invention may be utilized to improve electron beam deflection. One embodiment provides an electrostatic deflection system with electrodes that minimize aberrations and to achieve vertical incidence simultaneously. By using at least two stages of deflection for a deflection direction, the present invention allows the deflected electron beam to pass a back focal plane of an objective lens while deflection capacitors are not disposed across the back focal plane. As a result, deflection electrodes can have an angle of 120° to minimize aberrations and simultaneously achieve vertical incidence of the electron beam on a target to avoid distortions or changes in magnification with height variations of the target or focus variations.

    摘要翻译： 本发明的实施例可用于改善电子束偏转。 一个实施例提供一种静电偏转系统，其具有最小化像差并且同时实现垂直入射的电极。 通过对偏转方向使用至少两个偏转级，本发明允许偏转的电子束通过物镜的后焦平面，而偏转电容器不跨过后焦平面设置。 结果，偏转电极可以具有120°的角度以最小化像差并且同时实现电子束在靶上的垂直入射，以避免目标或焦点变化的高度变化引起的变形或放大变化。

    High resolution gas field ion column with reduced sample load
    3.
    发明授权
    High resolution gas field ion column with reduced sample load 有权
    高分辨率气田离子柱，样品负荷降低

    公开(公告)号：US08735847B2

    公开(公告)日：2014-05-27

    申请号：US12277818

    申请日：2008-11-25

    申请人： Helmut Banzhof ,  Juergen Frosien ,  Dieter Winkler

    发明人： Helmut Banzhof ,  Juergen Frosien ,  Dieter Winkler

    IPC分类号： G21K1/08

    CPC分类号： H01J37/04 ,  H01J37/28 ,  H01J2237/0473 ,  H01J2237/0475 ,  H01J2237/0492 ,  H01J2237/08 ,  H01J2237/0807

    摘要： A method of operating a focused ion beam device having a gas field ion source is described. According to some embodiments, the method includes emitting an ion beam from a gas field ion source, providing an ion beam column ion beam energy in the ion beam column which is higher than the final beam energy, decelerating the ion beam for providing a final beam energy on impingement of the ion beam on the specimen of 1 keV to 4 keV, and imaging the specimen.

    摘要翻译： 描述了具有气体场离子源的聚焦离子束装置的操作方法。 根据一些实施例，该方法包括从气体场离子源发射离子束，在离子束列中提供高于最终光束能量的离子束柱离子束能量，使离子束减速以提供最终光束 将离子束撞击在1keV至4keV的样品上的能量，并对样品进行成像。

    Chamber with low electron stimulated desorption
    5.
    发明申请
    Chamber with low electron stimulated desorption 审中-公开
    具有低电子刺激解吸的室

    公开(公告)号：US20070138404A1

    公开(公告)日：2007-06-21

    申请号：US10571519

    申请日：2004-09-09

    申请人： Juergen Frosien ,  Thomas Jasinski ,  Dieter Winkler

    发明人： Juergen Frosien ,  Thomas Jasinski ,  Dieter Winkler

    IPC分类号： G01K1/08

    CPC分类号： H01J37/16 ,  H01J5/02 ,  H01J2237/188

    摘要： The present invention provides a charged particle emission component (100) for providing a charged particle beam (17) to a chamber of a charged particle beam column. The device comprises a gun chamber for housing the charged particle emission component; an emitter (16) for emitting a beam of charged particles; at least one beam shaping element (109; 18; 108; 402); and a residual gas diffusion barrier (106; 206) directly subsequent the emitter.

    摘要翻译： 本发明提供了一种用于向带电粒子束柱的腔室提供带电粒子束（17）的带电粒子发射部件（100）。 该装置包括用于容纳带电粒子发射部件的枪室; 用于发射带电粒子束的发射器（16）; 至少一个光束成形元件（109; 18; 108; 402）; 和直接在发射器之后的残留气体扩散阻挡层（106; 206）。

    Electrostatic deflection system with low aberrations and vertical beam incidence
    8.
    发明申请
    Electrostatic deflection system with low aberrations and vertical beam incidence 有权
    具有低像差和垂直光束入射的静电偏转系统

    公开(公告)号：US20070075262A1

    公开(公告)日：2007-04-05

    申请号：US11241880

    申请日：2005-09-30

    申请人： Dieter Winkler ,  Henry Pearce-Percy ,  Juergen Frosien ,  William Devore

    发明人： Dieter Winkler ,  Henry Pearce-Percy ,  Juergen Frosien ,  William Devore

    IPC分类号： H01J37/147

    CPC分类号： H01J37/1477 ,  H01J2237/1518 ,  H01J2237/28 ,  H01J2237/3175

    摘要： Embodiments of the present invention may be utilized to improve electron beam deflection. One embodiment provides an electrostatic deflection system with electrodes that minimize aberrations and to achieve vertical incidence simultaneously. By using at least two stages of deflection for a deflection direction, the present invention allows the deflected electron beam to pass a back focal plane of an objective lens while deflection capacitors are not disposed across the back focal plane. As a result, deflection electrodes can have an angle of 120° to minimize aberrations and simultaneously achieve vertical incidence of the electron beam on a target to avoid distortions or changes in magnification with height variations of the target or focus variations.

    摘要翻译： 本发明的实施例可用于改善电子束偏转。 一个实施例提供一种静电偏转系统，其具有最小化像差并且同时实现垂直入射的电极。 通过对偏转方向使用至少两个偏转级，本发明允许偏转的电子束通过物镜的后焦平面，而偏转电容器不跨过后焦平面设置。 结果，偏转电极可以具有120°的角度以最小化像差并且同时实现电子束在靶上的垂直入射，以避免目标或焦点变化的高度变化引起的变形或放大变化。

    Ultra high precision measurement tool
    9.
    发明授权
    Ultra high precision measurement tool 有权
    超高精度测量工具

    公开(公告)号：US08785849B2

    公开(公告)日：2014-07-22

    申请号：US12133298

    申请日：2008-06-04

    申请人： Juergen Frosien ,  Dieter Winkler ,  Udo Weigel ,  Stefan Grimm

    发明人： Juergen Frosien ,  Dieter Winkler ,  Udo Weigel ,  Stefan Grimm

    IPC分类号： G21K5/04

    CPC分类号： H01J37/08 ,  H01J27/26 ,  H01J37/28 ,  H01J2237/004 ,  H01J2237/061 ,  H01J2237/0807 ,  H01J2237/244 ,  H01J2237/24514 ,  H01J2237/24535 ,  H01J2237/24564 ,  H01J2237/24578 ,  H01J2237/2594 ,  H01J2237/2623 ,  H01J2237/2816 ,  H01J2237/2817

    摘要： A focused ion beam device is described comprising a gas field ion source with an analyzer for analyzing and classifying the structure of a specimen, a controller for controlling and/or modifying the structure of the specimen according to the analysis of the analyzer, an emitter tip, the emitter tip has a base tip comprising a first material and a supertip comprising a material different from the first material, wherein the supertip is a single atom tip and the base tip is a single crystal base tip. Furthermore, the focused ion beam device has a probe current control and a sample charge control. A method of operating a focused ion beam device is provided comprising applying a voltage between a single emission center of the supertip and an electrode, supplying gas to the emitter tip, analyzing and classifying the structure of a specimen, and controlling the structure of the specimen.

    摘要翻译： 描述了一种聚焦离子束装置，其包括气体离子源，其具有用于分析和分类样品结构的分析器，用于根据分析仪的分析来控制和/或改变样品的结构的控制器，发射器尖端 发射极尖端具有包括第一材料和超高压头的基座尖端，所述第一材料和第一材料包括不同于所述第一材料的材料，其中所述超高压是单个原子尖端，并且所述基座尖端是单晶基底尖端。 此外，聚焦离子束装置具有探针电流控制和样品充电控制。 提供了一种操作聚焦离子束装置的方法，包括在超高压的单个发射中心和电极之间施加电压，向发射极尖端供应气体，分析和分类样品的结构，以及控制样品的结构 。

    Dual mode gas field ion source
    10.
    发明授权
    Dual mode gas field ion source 有权
    双模气体离子源

    公开(公告)号：US08026492B2

    公开(公告)日：2011-09-27

    申请号：US12264859

    申请日：2008-11-04

    申请人： Juergen Frosien ,  Dieter Winkler

    发明人： Juergen Frosien ,  Dieter Winkler

    IPC分类号： H01J27/02

    CPC分类号： H01J37/08 ,  H01J37/28 ,  H01J37/3056 ,  H01J2237/006 ,  H01J2237/061 ,  H01J2237/0807 ,  H01J2237/0827 ,  H01J2237/31749

    摘要： A focused ion beam device is provided, including: an ion beam column adapted to house a gas field ion source emitter with an emitter tip and an emitter area for generating ions, a heating means adapted to heat the emitter tip, one or more gas inlets adapted to introduce a first gas and at least one second gas to the emitter area, an objective lens adapted to focus the ion beam generated from the first gas or the second gas, and a controller adapted to switch between a first emitter tip temperature and a second emitter tip temperature for generating an ion beam of ions of the first gas or an ion beam of ions of the at least one second gas.

    摘要翻译： 提供了一种聚焦离子束装置，包括：离子束柱，其适于容纳具有发射极尖端的气体场离子源发射体和用于产生离子的发射极区域，适于加热发射极尖端的加热装置，一个或多个气体入口 适于将第一气体和至少一个第二气体引入发射器区域，适于聚焦由第一气体或第二气体产生的离子束的物镜，以及适于在第一发射极尖端温度和 用于产生所述第一气体的离子离子束或所述至少一个第二气体的离子离子束的第二发射极尖端温度。