摘要:
Die Erfindung beschreibt ein Edelmetallverbindungsmittel in Folienform, sein Herstellungsverfahren sowie ein Verfahren zur Anwendung. Das Edelmetallverbindungsmittel weist eine Feststoffanteil und einen Flüssiganteil mit einem zugeordneten Mischungsverhältnis in Volumenprozent von 99,8:0,2 bis 95:5 der beiden auf, wobei der Feststoffanteil einen Volumenanteil an einer ersten Komponente Silber von mindestens 60% aufweist und wobei der Flüssiganteil aus einer Lösungsmittelkomponente und mindestens einem hierin gelösten organischen Bindemittel besteht. Die erste Komponente des Feststoffanteils liegt als Partikel mit einer Längenabmessung zwischen 50nm und 20µm liegt. Die Herstellung der Folie erfolgt nach einem Foliengussverfahren und deren Verwendung in der Ausbildung einer stoffschlüssigen Verbindung durch Wärmeeinwirkung.
摘要:
Die Erfindung beschreibt ein Edelmetallverbindungsmittel mit einem Feststoffanteil und einem Flüssiganteil mit einem zugeordneten Mischungsverhältnis in Volumenprozent von 99,5:0,5 bis 80:20 der beiden. Hierbei weist der Feststoffanteil einen Volumenanteil an einer ersten Komponente Silber von 60% bis 95% und einen Volumenanteil an einer zweiten Komponente Silberoxid von 5% bis 40% auf. Die jeweiligen Komponenten des Feststoffanteils liegen als Partikel mit Längenabmessungen zwischen 50nm und 20µm vor. Die Verwendung des Edelmetallverbindungsmittels dient der Ausbildung einer stoffschlüssigen Verbindung zweier metallischer Verbindungspartner, wobei die Ausbildung der Verbindung durch Wärmeeinwirkung erfolgt.
摘要:
A metallic particle paste (10) includes a polar solvent (4) and particles (10) dispersed in the polar solvent and containing a first metal. A second metal different from the first metal is dissolved in the polar solvent. The second metal is present in solvent (10) of the metallic particle paste (10) in the form of a complex ion, an organometallic ion or an ion of a metal salt. The paste (10) may be used for forming wiring and a heat-radiation portion of an electronic substrate or for bonding members (5, 7) in a semiconductor device through a bonding layer (6).
摘要:
Embodiments of the present invention provide for the dissipation of heat from semiconductor-on-insulator (SOI) structures. In one embodiment, a method for fabricating an integrated circuit is disclosed. In a first step, active circuitry is formed in an active layer of a SOI wafer. In a second step, substrate material is removed from a substrate layer disposed on a back side of the SOI wafer. In a third step, insulator material is removed from the back side of the SOI wafer to form an excavated insulator region. In a fourth step, a thermal dissipation layer is deposited on said excavated insulator region. The thermal dissipation layer is thermally conductive and electrically insulating.
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Die Erfindung beschreibt ein Edelmetallverbindungsmittel in Folienform, sein Herstellungsverfahren sowie ein Verfahren zur Anwendung. Das Edelmetallverbindungsmittel weist eine Feststoffanteil und einen Flüssiganteil mit einem zugeordneten Mischungsverhältnis in Volumenprozent von 99,8:0,2 bis 95:5 der beiden auf, wobei der Feststoffanteil einen Volumenanteil an einer ersten Komponente Silber von mindestens 60% aufweist und wobei der Flüssiganteil aus einer Lösungsmittelkomponente und mindestens einem hierin gelösten organischen Bindemittel besteht. Die erste Komponente des Feststoffanteils liegt als Partikel mit einer Längenabmessung zwischen 50nm und 20µm liegt. Die Herstellung der Folie erfolgt nach einem Foliengussverfahren und deren Verwendung in der Ausbildung einer stoffschlüssigen Verbindung durch Wärmeeinwirkung.
摘要:
Provided is an inkjet adhesive which is applied using an inkjet device, wherein the adhesive can suppress generation of voids in the adhesive layer and, after bonding, can enhance adhesiveness, moisture-resistant adhesion reliability, and cooling/heating cycle reliability. An inkjet adhesive according to the present invention comprises a photocurable compound, a photo-radical initiator, a thermosetting compound having one or more cyclic ether groups or cyclic thioether groups, and a compound capable of reacting with the thermosetting compound, and the compound capable of reacting with the thermosetting compound contains aromatic amine.
摘要:
The present disclosure relates to a method for curing a heat-curable material (1) in an embedded curing zone (2) and an assembly resulting from such method. The method comprises providing a heat-conducting strip (3) partially arranged between a component (9) and a substrate (10) that form the embedded curing zone (2) therein between. The heat-conducting strip (3) extends from the embedded curing zone (2) to a radiation-accessible zone (7) that is distanced from the embedded curing zone (2) and at least partially free of the component (9) and the substrate (10). The method further comprises irradiating the heat-conducting strip (3) in the radiation- accessible zone (7) by means of electromagnetic radiation (6). Heat (4a) generated by absorption of the electromagnetic radiation (6) in the heat-conducting strip (3) is conducted from the radiation- accessible zone (7) along a length of the heat-conducting strip (3) to the embedded curing zone (2) to cure the heat-curable material (1) by conducted heat (4b) emanating from the heat-conducting strip (3) into the embedded curing zone (2).
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Embodiments of the present invention provide for the dissipation of heat from semiconductor-on-insulator (SOI) structures. In one embodiment, a method for fabricating an integrated circuit is disclosed. In a first step, active circuitry is formed in an active layer of a SOI wafer. In a second step, substrate material is removed from a substrate layer disposed on a back side of the SOI wafer. In a third step, insulator material is removed from the back side of the SOI wafer to form an excavated insulator region. In a fourth step, a thermal dissipation layer is deposited on said excavated insulator region. The thermal dissipation layer is thermally conductive and electrically insulating.
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Die Erfindung beschreibt ein Edelmetallverbindungsmittel mit einem Feststoffanteil und einem Flüssiganteil mit einem zugeordneten Mischungsverhältnis in Volumenprozent von 99,5:0,5 bis 80:20 der beiden. Hierbei weist der Feststoffanteil einen Volumenanteil an einer ersten Komponente Silber von 60% bis 95% und einen Volumenanteil an einer zweiten Komponente Silberoxid von 5% bis 40% auf. Die jeweiligen Komponenten des Feststoffanteils liegen als Partikel mit Längenabmessungen zwischen 50nm und 20µm vor. Die Verwendung des Edelmetallverbindungsmittels dient der Ausbildung einer stoffschlüssigen Verbindung zweier metallischer Verbindungspartner, wobei die Ausbildung der Verbindung durch Wärmeeinwirkung erfolgt.
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Provided is an inkjet adhesive which is applied using an inkjet device, wherein the adhesive can suppress generation of voids in the adhesive layer and, after bonding, can enhance adhesiveness, moisture-resistant adhesion reliability, and cooling/heating cycle reliability. An inkjet adhesive according to the present invention comprises a photocurable compound, a photo-radical initiator, a thermosetting compound having one or more cyclic ether groups or cyclic thioether groups, and a compound capable of reacting with the thermosetting compound, and the compound capable of reacting with the thermosetting compound contains aromatic amine.