可避免因研磨物斷裂而刮傷晶圓之方法及其裝置
    5.
    发明专利
    可避免因研磨物斷裂而刮傷晶圓之方法及其裝置 有权
    可避免因研磨物断裂而刮伤晶圆之方法及其设备

    公开(公告)号:TW536449B

    公开(公告)日:2003-06-11

    申请号:TW090111283

    申请日:2001-05-11

    IPC: B24B H01L

    Abstract: 一種可避免因研磨物斷裂而刮傷晶圓之方法,可用於一化學機械式研磨裝置上,步驟包括首先提供一表面上具有複數研磨物之研磨墊給上述化學機械式研磨裝置用以研磨晶圓;接著,調整上述所有研磨物,使其在上述研磨墊表面上突出一既定高度;其中,上述既定高度係為上述研磨物高度之1/2~2/3。

    Abstract in simplified Chinese: 一种可避免因研磨物断裂而刮伤晶圆之方法,可用于一化学机械式研磨设备上,步骤包括首先提供一表面上具有复数研磨物之研磨垫给上述化学机械式研磨设备用以研磨晶圆;接着,调整上述所有研磨物,使其在上述研磨垫表面上突出一既定高度;其中,上述既定高度系为上述研磨物高度之1/2~2/3。

    去除晶圓對準標記內殘留物之裝置
    6.
    发明专利
    去除晶圓對準標記內殘留物之裝置 有权
    去除晶圆对准标记内残留物之设备

    公开(公告)号:TW493233B

    公开(公告)日:2002-07-01

    申请号:TW090115333

    申请日:2001-06-22

    IPC: H01L

    Abstract: 本發明揭露一種去除晶圓對準標記內殘留物之裝置,於洗邊系統固定位置上,加入至少一組對準標記清洗裝置,接著使用晶圓對位裝置,將位於晶圓上之至少一組對準標記與該至少一組對準標記清洗裝置進行對準,接著該對準標記清洗裝置會噴灑出稀釋硫酸清洗劑,來進行清除對準標記內之銅薄膜工作。

    Abstract in simplified Chinese: 本发明揭露一种去除晶圆对准标记内残留物之设备,于洗边系统固定位置上,加入至少一组对准标记清洗设备,接着使用晶圆对位设备,将位于晶圆上之至少一组对准标记与该至少一组对准标记清洗设备进行对准,接着该对准标记清洗设备会喷洒出稀释硫酸清洗剂,来进行清除对准标记内之铜薄膜工作。

    半導體封裝結構及其製造方法
    8.
    发明专利
    半導體封裝結構及其製造方法 审中-公开
    半导体封装结构及其制造方法

    公开(公告)号:TW201911519A

    公开(公告)日:2019-03-16

    申请号:TW107126040

    申请日:2018-07-27

    Abstract: 本發明實施例提供一種半導體封裝的製造方法,所述方法包含:在載體上方形成離形薄膜;在所述離形薄膜上方形成聚合物緩衝層;在所述聚合物緩衝層上形成金屬支柱;將所述金屬支柱包封於包封材料中;對所述包封材料執行平坦化以暴露所述金屬支柱;在所述包封材料及所述金屬支柱上方形成重佈線結構;以及分解所述離形薄膜之第一部分。所述離形薄膜之第二部分在所述分解之後保留。在所述聚合物緩衝層中形成開口以暴露所述金屬支柱。

    Abstract in simplified Chinese: 本发明实施例提供一种半导体封装的制造方法,所述方法包含:在载体上方形成离形薄膜;在所述离形薄膜上方形成聚合物缓冲层;在所述聚合物缓冲层上形成金属支柱;将所述金属支柱包封于包封材料中;对所述包封材料运行平坦化以暴露所述金属支柱;在所述包封材料及所述金属支柱上方形成重布线结构;以及分解所述离形薄膜之第一部分。所述离形薄膜之第二部分在所述分解之后保留。在所述聚合物缓冲层中形成开口以暴露所述金属支柱。

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