公开(公告)号：US08603723B2

公开(公告)日：2013-12-10

申请号：US13014285

申请日：2011-01-26

申请人： Hsi-Wen Chang ,  Wei-Jen Lai ,  Pi-Ju Chiang ,  Chun-Hung Lin ,  Jung Ya Hsieh

发明人： Hsi-Wen Chang ,  Wei-Jen Lai ,  Pi-Ju Chiang ,  Chun-Hung Lin ,  Jung Ya Hsieh

IPC分类号： G03C5/16 ,  G03F1/00 ,  G02F1/03

CPC分类号： G03C11/12 ,  D06P1/0012 ,  D06P5/2005

摘要： The present invention relates to an image transfer process. The process includes the steps of: a) providing an image carrying device including at least one photoluminescent surface; b) displaying a luminous image on a display surface of a light-emitting medium; and c) positioning the display surface of the light-emitting medium that is displaying the luminous image at a distance from the at least one photoluminescent surface of the image carrying device shorter than a predetermined effective distance, for a predetermined period of time.

摘要翻译： 本发明涉及图像转印处理。 该方法包括以下步骤：a）提供包括至少一个光致发光表面的图像承载装置; b）在发光介质的显示表面上显示发光图像; 以及c）将显示所述发光图像的所述发光介质的显示表面定位在比所述图像承载装置的所述至少一个光致发光表面短一预定有效距离的预定时间段。

公开(公告)号：US20130206369A1

公开(公告)日：2013-08-15

申请号：US13371480

申请日：2012-02-13

申请人： Wei-I Lin ,  Chien-Chih Yeh ,  Wen-Shiang Chen ,  Chun-Hung Lin

发明人： Wei-I Lin ,  Chien-Chih Yeh ,  Wen-Shiang Chen ,  Chun-Hung Lin

IPC分类号： F28D15/04

CPC分类号： F28D15/043

摘要： A heat dissipating device includes a chamber body, a heat sink, a pipe, a first capillary structure and N vapor channels. The chamber body has an evaporation chamber and a compensation chamber, wherein the evaporation chamber has a vapor outlet and the compensation chamber has a liquid inlet. The heat sink is disposed on an outer wall of a first side of the chamber body and at least covers the compensation chamber. The pipe is installed within the heat sink, wherein a first end of the pipe is connected to the vapor outlet and a second end of the pipe is connected to the liquid inlet. The first capillary structure is formed in the evaporation chamber. The N vapor channels are formed in the first capillary structure. The N vapor channels and the compensation chamber are isolated by the first capillary structure.

摘要翻译： 散热装置包括室主体，散热器，管，第一毛细管结构和N个蒸气通道。 腔体具有蒸发室和补偿室，其中蒸发室具有蒸汽出口，并且补偿室具有液体入口。 散热器设置在室主体的第一侧的外壁上，并且至少覆盖补偿室。 管道安装在散热器内，其中管道的第一端连接到蒸汽出口，并且管道的第二端连接到液体入口。 第一毛细结构形成在蒸发室中。 N蒸汽通道形成在第一毛细管结构中。 N蒸气通道和补偿室由第一毛细管结构隔离。

公开(公告)号：US20130187277A1

公开(公告)日：2013-07-25

申请号：US13443556

申请日：2012-04-10

申请人： Yu-Feng Chen ,  Chun-Hung Lin ,  Han-Ping Pu ,  Chih-Hang Tung ,  Kai-Chiang Wu ,  Ming-Che Ho

发明人： Yu-Feng Chen ,  Chun-Hung Lin ,  Han-Ping Pu ,  Chih-Hang Tung ,  Kai-Chiang Wu ,  Ming-Che Ho

IPC分类号： H01L23/48

CPC分类号： H01L24/13 ,  H01L23/488 ,  H01L24/02 ,  H01L24/05 ,  H01L24/10 ,  H01L24/11 ,  H01L24/16 ,  H01L2224/0401 ,  H01L2224/05027 ,  H01L2224/05111 ,  H01L2224/05144 ,  H01L2224/05147 ,  H01L2224/05155 ,  H01L2224/05166 ,  H01L2224/05181 ,  H01L2224/05186 ,  H01L2224/05551 ,  H01L2224/05555 ,  H01L2224/05572 ,  H01L2224/05611 ,  H01L2224/05644 ,  H01L2224/05647 ,  H01L2224/05655 ,  H01L2224/05666 ,  H01L2224/05681 ,  H01L2224/05686 ,  H01L2224/10125 ,  H01L2224/1146 ,  H01L2224/1147 ,  H01L2224/11849 ,  H01L2224/13012 ,  H01L2224/13076 ,  H01L2224/13111 ,  H01L2224/13113 ,  H01L2224/13116 ,  H01L2224/13139 ,  H01L2224/13144 ,  H01L2224/13147 ,  H01L2224/13155 ,  H01L2224/16237 ,  H01L2224/16238 ,  H01L2224/81191 ,  H01L2924/00014 ,  H01L2924/01029 ,  H01L2924/12042 ,  H01L2924/00012 ,  H01L2924/014 ,  H01L2924/04941 ,  H01L2924/04953 ,  H01L2924/01047 ,  H01L2224/05552 ,  H01L2924/00

摘要： A semiconductor die includes a crack stopper on an under-bump metallization (UBM) layer. The crack stopper is in the shape of hollow cylinder with at least two openings.

摘要翻译： 半导体管芯包括在凸块下金属化（UBM）层上的裂纹阻挡层。 裂缝止动器为具有至少两个开口的中空圆筒形状。

公开(公告)号：US20130175705A1

公开(公告)日：2013-07-11

申请号：US13348449

申请日：2012-01-11

申请人： Chun-Hung Lin ,  Yu-Feng Chen ,  Han-Ping Pu ,  Hung-Jui Kuo

发明人： Chun-Hung Lin ,  Yu-Feng Chen ,  Han-Ping Pu ,  Hung-Jui Kuo

IPC分类号： H01L23/52 ,  H01L21/56

CPC分类号： H01L23/562 ,  H01L21/565 ,  H01L23/3121 ,  H01L23/3128 ,  H01L23/49822 ,  H01L25/105 ,  H01L2224/16225 ,  H01L2225/1023 ,  H01L2225/1058 ,  H01L2924/01322 ,  H01L2924/15311 ,  H01L2924/15321 ,  H01L2924/18161 ,  H01L2924/3511 ,  H01L2924/00

摘要： A stress compensation for use in packaging, and a method of forming, is provided. The stress compensation layer is placed on an opposing side of a substrate from an integrated circuit die. The stress compensation layer is designed to counteract at least some of the stress exerted structures on the die side of the substrate, such as stresses exerted by a molding compound that at least partially encapsulates the first integrated circuit die. A package may also be electrically coupled to the substrate.

摘要翻译： 提供了用于包装的应力补偿，以及形成方法。 应力补偿层从集成电路管芯放置在衬底的相对侧上。 应力补偿层被设计成抵抗基板的模具侧上的应力施加结构中的至少一些，例如由至少部分地封装第一集成电路管芯的模制化合物施加的应力。 封装还可以电耦合到衬底。

公开(公告)号：US08316796B2

公开(公告)日：2012-11-27

申请号：US11954843

申请日：2007-12-12

申请人： Chi-Hung Liu ,  Chih-Ming Chen ,  Chun-Hsien Su ,  Chih-Wei Chen ,  Wen-Tung Hsu ,  Chun-Hung Lin

发明人： Chi-Hung Liu ,  Chih-Ming Chen ,  Chun-Hsien Su ,  Chih-Wei Chen ,  Wen-Tung Hsu ,  Chun-Hung Lin

IPC分类号： C23C16/00

CPC分类号： H01J37/32568 ,  H01J37/3244 ,  H01J37/32825 ,  H01J2237/20214

摘要： A film coating system for coating an object includes a working station and an isolating device. The object is disposed on the working station, and the isolating device is utilized to isolate the object. The isolating device includes a body generating a first power, a first working fluid, a second working fluid, a first guiding portion and a second guiding portion. The first guiding portion guides the first working fluid to pass through the body, thereby forming a first working region to coat the object thereon. The second guiding portion guides the second working fluid excited by the first power of the body to pass through the body, thereby forming a second working region to separate the first working region from the object.

摘要翻译： 用于涂覆物体的涂膜系统包括加工台和隔离装置。 物体设置在工作站上，隔离装置用于隔离物体。 隔离装置包括产生第一功率的主体，第一工作流体，第二工作流体，第一引导部分和第二引导部分。 第一引导部引导第一工作流体穿过主体，从而形成第一工作区域以在其上涂覆物体。 第二引导部分引导由身体的第一功率激发的第二工作流体穿过主体，从而形成第二工作区域以将第一工作区域与物体分开。

公开(公告)号：US08281741B2

公开(公告)日：2012-10-09

申请号：US13019269

申请日：2011-02-01

申请人： Chia-Chiang Chang ,  Chin-Jyi Wu ,  Shin-Chih Liaw ,  Chun-Hung Lin

发明人： Chia-Chiang Chang ,  Chin-Jyi Wu ,  Shin-Chih Liaw ,  Chun-Hung Lin

IPC分类号： C23C16/455 ,  C23C16/452 ,  C23C16/50 ,  C23F1/00 ,  H01L21/306 ,  C23C16/06 ,  C23C16/22

CPC分类号： C23C16/402 ,  C23C16/345 ,  C23C16/45563 ,  C23C16/45595 ,  C23C16/513

摘要： A plasma deposition apparatus is provided. The plasma deposition apparatus comprises a chamber. A pedestal is placed in the chamber. A plasma generator is placed in the chamber and over the pedestal. The plasma generator comprises a plasma jet for plasma thin film deposition having a discharge direction angle θ1 larger than 0° and less than 90° between a normal direction of the pedestal and the discharge direction of the plasma jet. A gas-extracting pipe extends into the chamber and over the pedestal. The gas-extracting pipe provides a pumping path for particles and side-products having a pumping direction angle θ2 larger than 0° and less than 90° between the normal direction of the pedestal and the pumping direction of the gas-extracting pipe. The chamber is kept at an ambient atmospheric pressure.

摘要翻译： 提供了一种等离子体沉积装置。 等离子体沉积设备包括一个室。 底座放置在腔室中。 等离子体发生器放置在腔室中并在基座上方。 等离子体发生器包括用于等离子体薄膜沉积的等离子体射流，其具有放电方向角度θ;在基座的法线方向与等离子体射流的排出方向之间大于0°且小于90°的1。 气体提取管延伸到腔室中并且在基座上。 气体提取管为具有泵送方向角度的颗粒和副产物提供泵送路径; 2在基座的法线方向与气体提取管的泵送方向之间大于0°且小于90°。 室保持在环境大气压力。

公开(公告)号：US08277616B2

公开(公告)日：2012-10-02

申请号：US11892853

申请日：2007-08-28

申请人： Chi-Hung Liu ,  Chun-Hung Lin ,  Chun-Hsien Su ,  Wen-Tung Hsu

发明人： Chi-Hung Liu ,  Chun-Hung Lin ,  Chun-Hsien Su ,  Wen-Tung Hsu

IPC分类号： B01J19/08

CPC分类号： A61B18/042 ,  A61C5/00 ,  A61C19/066

摘要： A surface treating method for treating a tooth surface and a surface treating device thereof are provided. First, a working gas is filled into a tube. Next, a voltage is provided to the working gas for exciting the working gas into plasma. After that, the plasma is discharged through an opening of the tube for contacting the tooth surface.

摘要翻译： 提供了一种用于处理牙齿表面的表面处理方法及其表面处理装置。 首先，将工作气体填充到管中。 接下来，向工作气体提供用于将工作气体激发成等离子体的电压。 之后，等离子体通过用于与齿面接触的管的开口排出。

公开(公告)号：US20120189958A1

公开(公告)日：2012-07-26

申请号：US13014285

申请日：2011-01-26

申请人： Hsi-Wen Chang ,  Wei-Jen Lai ,  Pi-Ju Chiang ,  Chun-Hung Lin ,  Jung-Ya Hsieh

发明人： Hsi-Wen Chang ,  Wei-Jen Lai ,  Pi-Ju Chiang ,  Chun-Hung Lin ,  Jung-Ya Hsieh

IPC分类号： G03C5/16

CPC分类号： G03C11/12 ,  D06P1/0012 ,  D06P5/2005

摘要： The present invention relates to an image transfer process. The process includes the steps of: a) providing an image carrying device including at least one photoluminescent surface; b) displaying a luminous image on a display surface of a light-emitting medium; and c) positioning the display surface of the light-emitting medium that is displaying the luminous image at a distance from the at least one photoluminescent surface of the image carrying device shorter than a predetermined effective distance, for a predetermined period of time.

摘要翻译： 本发明涉及图像转印处理。 该方法包括以下步骤：a）提供包括至少一个光致发光表面的图像承载装置; b）在发光介质的显示表面上显示发光图像; 以及c）将显示所述发光图像的所述发光介质的显示表面定位在比所述图像承载装置的所述至少一个光致发光表面短一预定有效距离的预定时间段。

公开(公告)号：US20110065758A1

公开(公告)日：2011-03-17

申请号：US12806084

申请日：2010-08-02

申请人： Chun-Hung Lin

发明人： Chun-Hung Lin

IPC分类号： A61K31/4412 ,  C12N9/24 ,  C12Q1/34 ,  G01N33/573 ,  C40B30/00 ,  A61P31/04 ,  A61P1/04 ,  A61P1/16 ,  A61P1/00 ,  A61P17/00 ,  A61P9/00

CPC分类号： G01N33/56922 ,  A61K31/4412 ,  C12Q1/34 ,  G01N2333/924

摘要： Methods of diagnosing Helicobacter pylori infection or associated conditions are based in part on the correlation of the presence of a α-L-fucosidase 2 marker with the infection. Methods and compositions for treating or preventing Helicobacter pylori infection or associated conditions are based in part on administering an α-L-fucosidase 2 inhibitor to an infected subject or a subject at risk of developing the infection.

摘要翻译： 诊断幽门螺杆菌感染或相关病症的方法部分基于α-L-岩藻糖苷酶2标记物与感染的相关性。 用于治疗或预防幽门螺杆菌感染或相关病症的方法和组合物部分地基于向被感染的受试者或患有发展感染风险的受试者施用α-L-岩藻糖苷酶2抑制剂。

公开(公告)号：US07892994B2

公开(公告)日：2011-02-22

申请号：US11647040

申请日：2006-12-28

申请人： Jia-Peng Lin ,  Pui-Leng Lai ,  Wan-Ling Lu ,  Ding-Han Huang ,  Chao-Huei Liu ,  Chun-Hung Lin

发明人： Jia-Peng Lin ,  Pui-Leng Lai ,  Wan-Ling Lu ,  Ding-Han Huang ,  Chao-Huei Liu ,  Chun-Hung Lin

IPC分类号： D04H1/00

CPC分类号： C08L33/26 ,  C08F212/08 ,  C08F285/00 ,  C08F2438/03 ,  C08L33/02 ,  C08L35/06 ,  C08L51/003 ,  C08L67/02 ,  C08L2203/02 ,  D01F1/10 ,  D01F1/103 ,  Y10T428/249938 ,  Y10T428/2998 ,  Y10T442/68 ,  Y10T442/681 ,  Y10T442/696 ,  Y10T442/698 ,  Y10T442/699 ,  C08F220/06 ,  C08L2666/02 ,  C08L2666/24 ,  C08F220/56

摘要： Amphoteric polymer composite nanoparticles are added into the polymer grains of synthetic fibers. The synthetic fibers are woven to form a textile capable of adjusting pH value.

摘要翻译： 将两性聚合物复合纳米颗粒加入到合成纤维的聚合物颗粒中。 合成纤维被织造以形成能够调节pH值的织物。