内埋图形衬底及其制造方法及半导体封装结构

    公开(公告)号:CN105321922B

    公开(公告)日:2018-05-08

    申请号:CN201410258047.8

    申请日:2014-06-11

    IPC分类号: H01L23/498 H01L21/48

    CPC分类号: H01L2224/16225

    摘要: 本发明涉及一种内埋图形衬底及其制造方法及半导体封装。所述内埋图形衬底包括衬底本体、第一线路层、多个导电通道及第二线路层。所述第一线路层内埋于所述衬底本体的第一表面中且显露于所述衬底本体的第一表面。所述第一线路层包括彼此间隔开的多个个别接垫。所述导电通道位于所述衬底本体的一通孔中且彼此间隔开。每一导电通道连接每一个别接垫及所述第二线路层。

    封装结构及其制作方法
    4.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101916751B

    公开(公告)日:2012-05-23

    申请号:CN201010243789.5

    申请日:2010-07-30

    发明人: 陈家庆 丁一权

    摘要: 本发明公开了一种封装结构及其制作方法。该封装结构包括基板、芯片、第一金属层、第二金属层、第三金属层及防焊层。基板具有第一表面、第二表面及至少一贯孔。芯片配置于基板上且位于第一表面上。第一金属层配置于第一表面上且延伸至芯片上。第二金属层配置于第二表面上。第三金属层覆盖贯孔的内壁且连接第一金属层与第二金属层。芯片通过第一金属层与第三金属层及第二金属层电性连接。防焊层填充贯孔且包覆芯片、至少部分第一金属层、至少部分第二金属层及第三金属层。