公开(公告)号：US20150122211A1

公开(公告)日：2015-05-07

申请号：US14399946

申请日：2013-05-07

申请人： Mahle International GmbH

发明人： Kurt Maier

IPC分类号： F16J9/26 ,  C23C16/44

CPC分类号： F16J9/26 ,  C23C14/0641 ,  C23C14/0676 ,  C23C14/083 ,  C23C14/325 ,  C23C16/44 ,  C23C28/322 ,  C23C28/347 ,  C23C28/36 ,  C23C28/42

摘要： A sliding body for an internal combustion engine may include a main part and a coating which at least partially covers the main part. The coating may have a first main layer. The first main layer may include main components which are molybdenum, nitrogen and oxygen.

摘要翻译： 用于内燃机的滑动体可以包括主要部分和至少部分地覆盖主要部分的涂层。 涂层可以具有第一主层。 第一主层可以包括主要成分是钼，氮和氧。

公开(公告)号：US08980366B2

公开(公告)日：2015-03-17

申请号：US13433509

申请日：2012-03-29

申请人： Takashi Chino ,  Yojiro Aoki

发明人： Takashi Chino ,  Yojiro Aoki

IPC分类号： C23C16/00 ,  C23C16/52 ,  C23C16/44

CPC分类号： C23C16/00 ,  C23C16/44 ,  C23C16/4401 ,  C23C16/52

摘要： In a conditioning method conditions interiors of a plurality of process chambers of a substrate processing apparatus, conditioning of the interior of the first process chamber is performed if a first integrated value set in connection with the process of the substrate reaches a set value N1. The second process chamber is set in a standby state when the conditioning of the first process chamber starts and the series of processes is stopped. By determining whether a second integrated value set in connection with process of the substrate in the second process chamber is equal to or greater than a set value N2, count of a third integrated value in the second process chamber is started if the second integrated value is equal to or greater than the set value N2. A conditioning of the second process chamber is performed if the third integrated value exceeds a set value N3.

摘要翻译： 在调节方法中，如果与衬底的处理相关联地设置的第一积分值达到设定值N1，则执行衬底处理设备的多个处理室的内部，执行第一处理室内部的调节。 当第一处理室的调节开始并且一系列处理停止时，第二处理室被置于待机状态。 通过确定与第二处理室中的衬底的处理相关的第二积分值是否等于或大于设定值N2，如果第二积分值是第二积分值，则开始第二处理室中的第三积分值的计数 等于或大于设定值N2。 如果第三积分值超过设定值N3，则执行第二处理室的调节。

公开(公告)号：US08957351B2

公开(公告)日：2015-02-17

申请号：US13435646

申请日：2012-03-30

申请人： Masaki Shima ,  Yoshinori Wakamiya ,  Shuji Osono ,  Satohiro Okayama ,  Hideyuki Ogata

发明人： Masaki Shima ,  Yoshinori Wakamiya ,  Shuji Osono ,  Satohiro Okayama ,  Hideyuki Ogata

IPC分类号： H05B3/68 ,  C23C16/44 ,  C23C16/24 ,  H01L21/687

CPC分类号： C23C16/44 ,  C23C16/24 ,  C23C16/325 ,  C23C16/345 ,  C23C16/4404 ,  C23C16/481 ,  H01L21/68757

摘要： In a catalytic CVD equipment, a holder includes an antireflective structure for preventing reflection of a radiant ray that is ejected from the catalytic wire toward the side of the substrate.

摘要翻译： 在催化CVD设备中，保持器包括防反射结构，用于防止从催化丝向衬底侧喷射的辐射线的反射。

公开(公告)号：US20150037612A1

公开(公告)日：2015-02-05

申请号：US14378087

申请日：2012-08-10

申请人： Anongsack Paseuth ,  Susumu Okuno ,  Hideaki Kanaoka ,  Erika Iwai ,  Takahiro Ichikawa

发明人： Anongsack Paseuth ,  Susumu Okuno ,  Hideaki Kanaoka ,  Erika Iwai ,  Takahiro Ichikawa

IPC分类号： B23B27/14 ,  C23C16/44 ,  C23C16/06

CPC分类号： B23B27/148 ,  B23B2224/00 ,  C23C16/06 ,  C23C16/38 ,  C23C16/44

摘要： A surface-coated cutting tool of the present invention includes a base material and a coating film formed on the base material. The coating film includes at least one TiB2 layer. The TiB2 layer has TC (100) that shows a maximum value in an orientation index TC (hkl), or has a ratio I (100)/I (101) of 1.2 or more between an X-ray diffraction intensity I (100) of a (100) plane and an X-ray diffraction intensity I (101) of a (101) plane.

摘要翻译： 本发明的表面覆盖切削工具包括基材和形成在基材上的涂膜。 涂膜包括至少一个TiB 2层。 TiB 2层具有在取向指数TC（hk1）中显示最大值的TC（100），或者在X射线衍射强度I（100）/（100））之间具有1.2以上的比率I（100）/ I 的（100）面和（101）面的X射线衍射强度I（101）。

公开(公告)号：US08940367B2

公开(公告)日：2015-01-27

申请号：US13375938

申请日：2010-05-13

申请人： Tino Harig ,  Markus Höfer ,  Artur Laukart ,  Lothar Schäfer ,  Markus Armgardt

发明人： Tino Harig ,  Markus Höfer ,  Artur Laukart ,  Lothar Schäfer ,  Markus Armgardt

IPC分类号： C23C16/00 ,  C23C16/22 ,  C23C16/24 ,  C23C16/26 ,  C23C16/44 ,  C23C16/52

CPC分类号： C23C16/22 ,  C23C16/24 ,  C23C16/26 ,  C23C16/44 ,  C23C16/4405 ,  C23C16/52

摘要： A coating installation includes at least one recipient which can be evacuated and which is provided to receive a substrate, at least one gas supply device which can introduce at least one gaseous precursor into the recipient, and at least one activation device which contains at least one heatable activation element, the end thereof being secured to a securing point on a support element. A shielding element which can protect at least the securing point at least partially against the effect of the gaseous precursor is provided. The shielding element has a longitudinal extension having a first side and a second side, the first side being arranged on the support element and a locking element being arranged on the second side of the shielding element, the locking element having at least one outlet. At least one separation wall is arranged inside the shielding element, the wall separating the inner volume of the shielding element into a first partial volume and into a second partial volume.

摘要翻译： 一种涂覆装置包括至少一个可被抽空的接收器，其被提供以接收基底，至少一个气体供应装置，其能够将至少一种气态前体引入接收器;以及至少一个激活装置，其包含至少一个 可加热激活元件，其端部固定到支撑元件上的固定点。 提供了可以至少部分地抵御气态前体的影响来保护至少保护点的屏蔽元件。 屏蔽元件具有纵向延伸部，其具有第一侧面和第二侧面，第一侧面布置在支撑元件上，锁定元件布置在屏蔽元件的第二侧上，锁定元件具有至少一个出口。 至少一个分隔壁布置在屏蔽元件内部，壁将屏蔽元件的内部容积分成第一部分体积并进入第二部分体积。

公开(公告)号：US20150004317A1

公开(公告)日：2015-01-01

申请号：US14372105

申请日：2013-07-19

申请人： American Air Liquide, Inc.

发明人： Christian Dussarrat ,  Glenn Kuchenbeiser ,  Venkateswara R. Pallem

IPC分类号： H01L21/02 ,  B05D1/00

CPC分类号： C07F7/025 ,  B05D1/60 ,  C23C16/30 ,  C23C16/345 ,  C23C16/36 ,  C23C16/401 ,  C23C16/402 ,  C23C16/44 ,  C23C16/45553 ,  H01L21/02216 ,  H01L21/02271 ,  H01L21/0228 ,  H01L21/02532

摘要： Disclosed are Si-containing thin film forming precursors, methods of synthesizing the same, and methods of using the same to deposit silicon-containing films using vapor deposition processes for manufacturing semiconductors, photovoltaics, LCD-TFT, flat panel-type devices, refractory materials, or aeronautics.

公开(公告)号：US20140335272A1

公开(公告)日：2014-11-13

申请号：US14445651

申请日：2014-07-29

申请人： BENEQ OY

发明人： Milja MAKELA ,  Pekka SOININEN ,  Sami SNECK

IPC分类号： C23C16/40 ,  C23C16/44

CPC分类号： C23C16/403 ,  A44C27/005 ,  C23C16/405 ,  C23C16/44 ,  C23C16/45525 ,  C23C16/45555

摘要： In the method, silver is protected against tarnishing using an Atomic Layer Deposition method. In the Atomic Layer Deposition method, a thin film coating is formed on the surface of silver by depositing successive molecule layers of the coating material. For example aluminium oxide (Al2O3) or zirconium oxide may be used as the coating material.

摘要翻译： 在该方法中，使用原子层沉积法来防止银变色。 在原子层沉积方法中，通过沉积涂层材料的连续分子层，在银的表面上形成薄膜涂层。 例如，可以使用氧化铝（Al 2 O 3）或氧化锆作为涂料。

公开(公告)号：US20140334106A1

公开(公告)日：2014-11-13

申请号：US14352381

申请日：2011-10-20

申请人： Christopher D. Prest ,  Joseph Poole ,  Joseph W. Stevick ,  Quoc Tran PHAM ,  Theodore Andrew Waniuk

发明人： Christopher D. Prest ,  Joseph Poole ,  Joseph W. Stevick ,  Quoc Tran PHAM ,  Theodore Andrew Waniuk

IPC分类号： H05K7/20 ,  B21D22/02 ,  B23P19/00 ,  C23C16/44 ,  F28F21/08 ,  F25B21/02 ,  C23C16/27 ,  C23C16/513 ,  C21D9/00 ,  B21D22/04

CPC分类号： H05K7/2039 ,  B21D22/02 ,  B21D22/04 ,  B23P19/00 ,  C21D9/0006 ,  C22C45/00 ,  C22C45/003 ,  C22C45/10 ,  C23C16/27 ,  C23C16/44 ,  C23C16/513 ,  F25B21/02 ,  F28F21/085 ,  F28F21/086 ,  F28F21/087 ,  H01L21/4871 ,  H01L23/3672 ,  H01L23/3736 ,  H01L23/427 ,  H01L23/467 ,  H01L23/473 ,  H01L2924/0002 ,  H05K7/20 ,  Y10T29/49826 ,  H01L2924/00

摘要： Embodiments herein relate to a heat sink having nano- and/or micro-replication directly embossed in a bulk solidifying amorphous alloy comprising a metal alloy, wherein the heat sink is configured to transfer heat out of the heat sink by natural convection by air or forced convection by air, or by fluid phase change of a fluid and/or liquid cooling by a liquid. Other embodiments relate apparatus having the heat sink. Yet other embodiments relate to methods of manufacturing the heat sink and apparatus having the heat sink.

摘要翻译： 本文的实施方案涉及具有直接在包含金属合金的大量固化非晶合金中压花的纳米和/或微复制的散热器，其中所述散热器被配置为通过空气或被强制的自然对流将热量传导出散热器 通过空气对流，或通过流体的流体相变和/或由液体冷却的液体。 其他实施例涉及具有散热器的设备。 其它实施例涉及制造具有散热器的散热器和设备的方法。

公开(公告)号：US08883258B2

公开(公告)日：2014-11-11

申请号：US12162051

申请日：2007-01-31

申请人： Milja Makela ,  Pekka Soininen ,  Sami Sneck

发明人： Milja Makela ,  Pekka Soininen ,  Sami Sneck

IPC分类号： C23C16/455 ,  A44C27/00 ,  C23C16/40

CPC分类号： C23C16/403 ,  A44C27/005 ,  C23C16/405 ,  C23C16/44 ,  C23C16/45525 ,  C23C16/45555

摘要： In the method, silver is protected against tarnishing using an Atomic Layer Deposition method. In the Atomic Layer Deposition method, a thin film coating is formed 5 on the surface of silver by depositing successive molecule layers of the coating material. For example aluminum oxide (Al 2O3) or zirconium oxide may be used as the coating material.

摘要翻译： 在该方法中，使用原子层沉积法来防止银变色。 在原子层沉积法中，通过沉积涂层材料的连续分子层，在银的表面上形成薄膜5。 例如，可以使用氧化铝（Al 2 O 3）或氧化锆作为涂料。

公开(公告)号：US08883246B2

公开(公告)日：2014-11-11

申请号：US12747338

申请日：2008-12-12

申请人： Mihai Nicolescu ,  Äke Hjalmarsson ,  Klim Kouznetsov

发明人： Mihai Nicolescu ,  Äke Hjalmarsson ,  Vladimir Kouznetsov

IPC分类号： C23C16/52 ,  H01J37/32 ,  C23C14/22 ,  C23C14/34 ,  C23C16/44 ,  C23C16/515 ,  H01J37/34

CPC分类号： H01J37/32174 ,  C23C14/22 ,  C23C14/3485 ,  C23C16/44 ,  C23C16/515 ,  H01J37/32091 ,  H01J37/32559 ,  H01J37/3467 ,  H01J2237/3321

摘要： In plasma activated chemical vapour deposition a plasma decomposition unit is used that is arranged in or connected to a vacuum vessel having a relatively low pressure or vacuum, to which an operating gas is provided. Periodically repeated voltage pulses are applied between the anode and the cathode of the plasma decomposition unit in such a manner that pulsed electric discharges are produced between the cathode and the surrounding anode of the plasma decomposition unit. The anode is arranged in a special way so that at least a portion thereof will obtain only an electrically conductive coating or substantially no coating when operating the unit. For that purpose, the anode includes a portion located in the direct vicinity of the free surface of the cathode. The portion is a flange or edge portion which is located or extends over margins of the free surface of the cathode. In that way, the anode will include a portion that is shielded for direct coating with particles from the plasma formed and that hence will obtain e.g. substantially no dielectric coating at all.

摘要翻译： 在等离子体激活的化学气相沉积中，使用等离子体分解单元，其被布置在具有相对低的压力或真空的真空容器中或与其连接，操作气体被提供给该真空容器。 在等离子体分解单元的阳极和阴极之间施加周期性重复的电压脉冲，使得在等离子体分解单元的阴极和周围阳极之间产生脉冲放电。 阳极以特殊方式布置，使得当操作该单元时，其至少一部分将仅获得导电涂层或基本上不涂层。 为此，阳极包括位于阴极自由表面附近的部分。 该部分是位于或延伸在阴极的自由表面的边缘上的凸缘或边缘部分。 以这种方式，阳极将包括屏蔽的部分，其直接涂覆有来自形成的等离子体的颗粒。 完全没有电介质涂层。