半导体封装结构的制造方法

    公开(公告)号:CN108122788A

    公开(公告)日:2018-06-05

    申请号:CN201710140203.4

    申请日:2017-03-10

    Abstract: 一种半导体封装结构的制造方法至少包括以下步骤。形成第一半导体装置。第一半导体装置包括顶表面及底表面。第一半导体装置包括金属层,且金属层具有暴露出的第一表面。在第一半导体装置的顶表面及侧壁上形成电磁干扰(Electromagnetic Interference,EMI)膜,且电磁干扰膜与金属层的暴露出的第一表面电接触。在电磁干扰膜上形成模制化合物。

    封装结构及其制造方法
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN107644848A

    公开(公告)日:2018-01-30

    申请号:CN201610894159.1

    申请日:2016-10-14

    Abstract: 本发明实施例提供一种封装结构及其制造方法。封装结构包括第一芯片、第二芯片、封装模塑体、第一布线层、第一贯穿介层孔、第二贯穿介层孔、电磁干扰屏蔽层及导电部件。第一芯片包覆在封装模塑体内。第二芯片设置在封装模塑体上。第一布线层位在封装模塑体和导电部件之间并电性连接第一芯片及第二芯片。封装模塑体位于第二芯片和第一布线层之间。第一贯穿介层孔及第二贯穿介层孔包覆在封装模塑体内并电性连接第一布线层。第二贯穿介层孔位于第一芯片和第一贯穿介层孔之间。电磁干扰屏蔽层设置在第二芯片上并与第一贯穿介层孔接触。导电部件连接第一布线层。

    层叠封装器件及其形成方法

    公开(公告)号:CN107452692B

    公开(公告)日:2021-11-09

    申请号:CN201610999256.7

    申请日:2016-11-14

    Abstract: 本发明涉及一种提供多种层叠封装器件,有利于改良层叠封装的接合效能。一种层叠封装器件包括第一封装结构及第二封装结构。第一封装结构包括:第一晶粒;以及位于第一晶粒侧边的多个有源集成扇出型通孔以及多个虚设集成扇出型通孔。第二封装结构包括:接合至有源集成扇出型通孔的多个有源凸块;以及接合至虚设集成扇出型通孔的多个虚设凸块。位于第一晶粒的第一侧的有源集成扇出型通孔及虚设集成扇出型通孔的总数目实质上相同于位于第一晶粒的第二侧的有源集成扇出型通孔及虚设集成扇出型通孔的总数目。

    半导体器件
    8.
    发明公开

    公开(公告)号:CN107393865A

    公开(公告)日:2017-11-24

    申请号:CN201611119841.X

    申请日:2016-12-08

    Abstract: 本发明提供了一种半导体器件及其制造方法。特别地,半导体器件包括位于顶封装件和再分布层(RDL)之间并且连接顶封装件和再分布层(RDL)的第一组贯通孔、第一组贯通孔与模塑料物理接触并且与管芯分离。半导体器件还包括位于顶封装件和RDL之间并且连接顶封装件和RDL的第一互连结构,第一互连结构通过模塑料与管芯和第一组贯通孔分离。第一互连结构包括第二组贯通孔和至少一个集成无源器件。

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