セラミック多層基板およびその製造方法

    公开(公告)号:JPWO2012014692A1

    公开(公告)日:2013-09-12

    申请号:JP2012526417

    申请日:2011-07-14

    Abstract: 表面の平坦性が良好で、部品実装性に優れたセラミック多層基板および該セラミック多層基板を効率良く製造することが可能なセラミック多層基板の製造方法を提供する。積層された複数のセラミック層1と、セラミック層を介して積層され、少なくとも一部が積層方向から見て互いに重なるように配設された複数の内部導体3と、内部導体とは異なる層に配設され、積層方向から見て互いに重なる内部導体のうちの少なくとも2層が重なる内部導体重なり領域と積層方向から見て重なり、かつ平面面積が内部導体重なり領域の平面面積の2倍以下の、焼結していない無機材料粉末を含んでなる拘束層2とを備えた構成とする。拘束層2の平面面積をセラミック層1の平面面積の1/2以下にする。拘束層2を、内部導体重なり領域の全てを覆うように配設する。

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