大面积光刻的装置和方法
    161.
    发明授权

    公开(公告)号:CN1890604B

    公开(公告)日:2010-10-13

    申请号:CN200480036055.2

    申请日:2004-11-03

    Abstract: 本发明公开了从具有结构化的表面的模板(10)上向承载可辐射聚合的流体(14)表面层的衬底(12)转移图案的设备和方法。所述设备包括具有相对的表面(104,105)的第一主体部分(101)和第二主体部分(102)、调节所述主体部分之间间隔(115)的装置、在所述结构化的表面面向所述表面层的情况下在所述间隔中以互相平行的接合方式支持所述模板和衬底的支持装置(106)、设计成向所述间隔中发射辐射的辐射源(110)。空腔(115)的第一壁包括被设计成接合所述模板或衬底的柔性膜(113),并且提供装置(114,116)向所述空腔中存在的介质施加可调节的过压,从而在衬底和模板间的整个接触表面上获得力的均匀分布。

    配线电路板的制造方法
    163.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101806753A

    公开(公告)日:2010-08-18

    申请号:CN201010115681.8

    申请日:2010-02-11

    Abstract: 本发明提供一种配线电路板的制造方法。该制造方法包括以下工序:准备包括绝缘层和形成在上述绝缘层上的导体图案的配线电路板;将配线电路板配置在支承台上;通过从配线电路板的上侧朝向配线电路板照射光,来检测光被导体图案反射而成的图案反射光、光经由未被导体图案覆盖的绝缘层被支承台反射而成的台反射光、和光被未被导体图案覆盖的绝缘层上存在的异物反射而成的异物反射光,根据图案反射光、台反射光及异物反射光之间的对比度来检查导体图案及异物。在检查导体图案及异物的工序中,台反射光的反射率为30%~70%;异物反射光的反射率为10%以下。

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