半导体装置
    9.
    发明公开
    半导体装置 审中-实审

    公开(公告)号:CN117355936A

    公开(公告)日:2024-01-05

    申请号:CN202280037252.4

    申请日:2022-04-21

    Abstract: 半导体装置具备在两面具有主电极(40D、40S)的半导体元件(40)、电连接着主电极(40D)的基板(50)、将主电极与基板接合的烧结部件(100A)、以及封固体。基板的表面金属体(52)具有通过激光的照射而形成的凹凸氧化膜。凹凸氧化膜包括厚膜部(520X)以及与厚膜部相比膜厚较薄且凸部的高度较低的薄膜部(520Y)。表面金属体具有与第1主电极接合的安装部(529a)、设置厚膜部且在平面观察中将半导体元件包围的外周部(529b)、以及设置薄膜部且在安装部与外周部之间将安装部包围的中间部(529c)。烧结部件在平面观察中以与安装部及中间部重叠的方式配置,与薄膜部接触。

    半导体装置
    10.
    发明授权

    公开(公告)号:CN112753101B

    公开(公告)日:2023-12-08

    申请号:CN201980063390.8

    申请日:2019-09-02

    Abstract: 半导体装置具备:半导体芯片(12),在SiC基板中形成有元件,在一面及背面分别形成有主电极;配置在一面侧的第1散热片(16)及配置在背面侧的第2散热片(24);接线部(20),介于第2散热片与半导体芯片之间,将背面侧的主电极和第2散热片电中继;以及接合部件(18、22、26),分别配置在一面侧的主电极与第1散热片之间、背面侧的主电极与接线部之间、接线部与第2散热片之间。接线部在板厚方向上层叠有多种金属层(20a、20b、20c、20d),至少与板厚方向正交的方向的线膨胀系数被设为比半导体芯片大且比第2散热片小的范围内;在接线部中,多种金属层在

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