凹パターンを有する基材の製造方法、組成物、導電膜の形成方法、電子回路および電子デバイス
    48.
    发明专利
    凹パターンを有する基材の製造方法、組成物、導電膜の形成方法、電子回路および電子デバイス 有权
    用于生产具有凹图案,该组合物中,导电膜的方法,形成电子电路和电子器件用基板的方法

    公开(公告)号:JPWO2014178279A1

    公开(公告)日:2017-02-23

    申请号:JP2015514801

    申请日:2014-04-15

    Abstract: 膜形成インクの濡れ広がり、滲みを抑えて高精細なパターンを形成するのに用いられる凹パターンを有する基材の製造方法を提供し、その基材の製造に用いる組成物を提供し、導電膜の形成方法、電子回路および電子デバイスを提供する。凹パターンを有する基材の製造方法は、基板1上に、(i)酸解離性基を有する重合体および酸発生剤を含む組成物を塗布し、塗膜2を形成する工程、並びに、(ii)塗膜2の所定部分に放射線照射を行う工程を含む。導電膜の形成方法は、塗膜2の露光された部分に形成された凹パターンに導電膜形成インクを塗布し、加熱して、パターン6を形成する。導電膜の形成方法を用いて電子回路および電子デバイスを提供する。

    Abstract translation: 润湿膜形成用油墨用于制造具有用于形成通过抑制出血高度精确的图案的凹图案的基板提供一种方法,提供了一种组合物,用于在基板中的用途,所述导电膜 形成的方法中提供了一种电子电路和电子设备。 用于生产具有凹图案的基板的方法,在基板1,将其涂覆有组合物,包含具有(i)聚合物和酸产生剂的酸解离性基团上的步骤中,以形成涂层膜2,和,( 包括与ii进行照射)的被膜2的预定部分的步骤。 形成导电膜的方法中,导电膜形成的墨施加到形成在涂层2,加热的外露部分凹入的图案,以形成图案6。 是提供一种电子电路和使用导电膜的形成方法的电子设备。

    光硬化性熱硬化性樹脂組成物
    49.
    发明专利
    光硬化性熱硬化性樹脂組成物 有权
    光固化性热固化性树脂组合物

    公开(公告)号:JPWO2012173242A1

    公开(公告)日:2015-02-23

    申请号:JP2013520606

    申请日:2012-06-15

    Abstract: 優れた冷熱衝撃耐性を有し、また半導体パッケージ用ソルダーレジストとして重要なPCT耐性、HAST耐性、無電解金メッキ耐性に優れた硬化被膜を形成できるアルカリ現像可能な光硬化性熱硬化性樹脂組成物を提供する。(A)感光性カルボキシル基含有樹脂、(B)光重合開始剤、(C)ブロック共重合体、および、(D)熱硬化性成分を含有することを特徴とするアルカリ現像可能な光硬化性熱硬化性樹脂組成物である。

    Abstract translation: 优异的具有耐热冲击性也很重要PCT电阻作为阻焊剂用于半导体封装,HAST性,碱显影性的光固化热固化性树脂能够在非电解金属镀覆耐性形成优异的固化涂层的组合物 提供。 (A)感光性含羧基树脂,(B)光聚合引发剂,(C)的嵌段共聚物,和碱显影性的光固化,其特征在于它含有(D)热固化性成分 热固性树脂组合物。

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