半導体装置、配線基板の形成方法及び基板処理装置
    4.
    发明申请
    半導体装置、配線基板の形成方法及び基板処理装置 审中-公开
    半导体装置,接线板成型方法和基板处理装置

    公开(公告)号:WO2004053967A1

    公开(公告)日:2004-06-24

    申请号:PCT/JP2003/015808

    申请日:2003-12-10

    Abstract: 支持面(201a)が平坦とされた基板支持台(201)を用意し、この支持面(201a)に吸着、例えば真空吸着により配線形成面(1a)を吸着させて半導体基板(1)を基板支持台(201)に固定する。このとき、配線形成面(1a)は支持面(201a)への吸着により強制的に平坦とされており、これにより配線形成面(1a)が裏面(1b)の平坦化の基準面となる。この状態で、裏面(1b)を機械研削し、裏面(1b)の凸部(12)を研削除去して平坦化処理する。これにより、基板(特に半導体基板)の厚みばらつきを均一化し、ディッシング等の不都合を発生させることなく容易且つ安価に配線デザインの制約も無く高速な平坦化を実現する。

    Abstract translation: 一种布线板形成方法,其中制备具有平坦支撑表面(201a)的基板支撑基座(201),并且通过吸附布线形成表面(1a)将半导体基板(1)固定到基板支撑基座(201) )到支撑面(201a)上,例如通过真空吸附。 布线形成面(1a)通过其吸附被强制地平坦化到支撑面(201a)上,使得布线形成面(1a)能够用作用于平坦化后表面(1b)的基准面。 在这种状态下,机械地研磨后表面(1b),以从后表面(1b)研磨突出部分(12)以进行平坦化处理。 因此,平坦化可以以低成本容易且快速地进行,而不会产生诸如凹陷的任何不便,并且不受布线设计的限制,通过使基板(特别是半导体基板)的厚度的变化均匀化。

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