堆叠器件的方法
    8.
    发明授权

    公开(公告)号:CN105097567B

    公开(公告)日:2018-10-12

    申请号:CN201510427008.0

    申请日:2009-06-18

    摘要: 本发明公开一种制造半导体器件的方法,提供第一器件,所述第一器件包括第一穿透硅通孔(TSV)结构;在所述第一器件上方形成第一涂层材料,其中,所述第一涂层材料在所述第一器件上方连续地延伸并且覆盖所述第一穿透硅通孔结构;将第二器件设置在所述第一器件上方以及所述第一涂层材料内,其中,所述第二器件包括第二穿透硅通孔结构和多个导电凸点,设置所述第二器件包括所述多个导电凸点位于所述第一涂层材料内;在所述第二器件上方形成第二涂层材料;将第三器件设置在所述第二涂层材料上方;对所述第一涂层材料和所述第二涂层材料进行预处理;以及此后,同一处理中对所述第一涂层材料和所述第二涂层材料进行固化。