半导体器件及其制造方法

    公开(公告)号:CN110660650B

    公开(公告)日:2022-09-13

    申请号:CN201910043381.4

    申请日:2019-01-17

    IPC分类号: H01L21/027 H01L23/31

    摘要: 提供了半导体器件和制造导电连接件的方法。在实施例中,通过在曝光工艺期间调整对焦区域的中心点,在光刻胶内形成开口。一旦已经显影光刻胶以形成开口,显影后烘烤工艺用于重塑开口。一旦重塑,在开口内形成导电材料以呈现开口的形状。本发明的实施例还涉及半导体器件及其制造方法。

    光刻胶设备
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN111123663A

    公开(公告)日:2020-05-08

    申请号:CN201910232318.5

    申请日:2019-03-26

    IPC分类号: G03F7/38

    摘要: 一种光刻胶设备及一种方法。所述光刻胶设备包括预烘烤设备。所述预烘烤设备包括:热板;第一盖体,位于所述热板之上;第二盖体,位于所述第一盖体之上;第一加热元件,沿所述第一盖体的最顶表面延伸;以及第二加热元件,沿所述第二盖体的最顶表面延伸。

    封装件及其形成方法
    6.
    发明授权

    公开(公告)号:CN113140544B

    公开(公告)日:2024-10-18

    申请号:CN202110055415.9

    申请日:2021-01-15

    摘要: 一种封装件,包括:器件管芯;密封剂,将器件管芯密封在其中;第一多个贯穿过孔,穿过密封剂;第二多个贯穿过孔,穿过密封剂;以及再分布线,位于第一多个贯穿过孔上方,并且电连接至第一多个贯穿过孔。第一多个贯穿过孔包括阵列。第二多个贯穿过孔位于第一阵列的外部,并且第二多个贯穿过孔大于第一多个贯穿过孔。本申请的实施例还涉及封装件及其形成方法。

    封装件及其形成方法
    7.
    发明公开

    公开(公告)号:CN113140544A

    公开(公告)日:2021-07-20

    申请号:CN202110055415.9

    申请日:2021-01-15

    摘要: 一种封装件,包括:器件管芯;密封剂,将器件管芯密封在其中;第一多个贯穿过孔,穿过密封剂;第二多个贯穿过孔,穿过密封剂;以及再分布线,位于第一多个贯穿过孔上方,并且电连接至第一多个贯穿过孔。第一多个贯穿过孔包括阵列。第二多个贯穿过孔位于第一阵列的外部,并且第二多个贯穿过孔大于第一多个贯穿过孔。本申请的实施例还涉及封装件及其形成方法。

    半导体器件及其制造方法

    公开(公告)号:CN110660650A

    公开(公告)日:2020-01-07

    申请号:CN201910043381.4

    申请日:2019-01-17

    IPC分类号: H01L21/027 H01L23/31

    摘要: 提供了半导体器件和制造导电连接件的方法。在实施例中,通过在曝光工艺期间调整对焦区域的中心点,在光刻胶内形成开口。一旦已经显影光刻胶以形成开口,显影后烘烤工艺用于重塑开口。一旦重塑,在开口内形成导电材料以呈现开口的形状。本发明的实施例还涉及半导体器件及其制造方法。