集成电路元件、其形成方法及封装组件

    公开(公告)号:CN106206520A

    公开(公告)日:2016-12-07

    申请号:CN201610674177.9

    申请日:2010-10-29

    IPC分类号: H01L23/488 H01L21/60

    摘要: 本发明提供用于铜柱凸块技术的L型侧壁保护工艺,L型侧壁保护结构由至少一非金属材料层形成。本发明还提供一种集成电路元件、其形成方法及封装组件,该集成电路元件包括:一凸块下金属层和一凸块结构,设置于一半导体基底上,其中该凸块结构包括一顶部表面及一侧壁表面,且凸块结构包括一导电柱以及一焊锡层在该导电柱之上,该半导体基底包括一表面区邻接凸块结构的侧壁表面,凸块下金属层设置于凸块结构与半导体基底之间,且凸块下金属层的侧壁和凸块结构的侧壁组成一垂直于半导体基底的表面的平面;以及一L型保护结构,覆盖凸块结构的侧壁表面,且延伸至半导体基底的表面区。本发明可以应用在微细间距的凸块架构。