具有貫穿電極之半導體裝置及其製造方法 SEMICONDUCTOR DEVICE INCLUDING THROUGH-ELECTRODE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME
    1.
    发明专利
    具有貫穿電極之半導體裝置及其製造方法 SEMICONDUCTOR DEVICE INCLUDING THROUGH-ELECTRODE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME 审中-公开
    具有贯穿电极之半导体设备及其制造方法 SEMICONDUCTOR DEVICE INCLUDING THROUGH-ELECTRODE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME

    公开(公告)号:TW201117346A

    公开(公告)日:2011-05-16

    申请号:TW099119134

    申请日:2010-06-11

    IPC分类号: H01L

    摘要: 半導體裝置係具備:第1絕緣膜,被形成於半導體基板之第1主面上;電極焊墊,被形成於上述第1主面上之上述第1絕緣膜內,上述電極焊墊係由導電膜構成,在該導電膜之至少一部分具有不存在上述導電膜的空區域;外部連接端子,被形成於上述半導體基板之和上述第1主面呈對向的第2主面上;及貫穿電極,被形成於由上述半導體基板之上述第2主面側起被挖空而到達上述電極焊墊的貫穿孔內,上述貫穿電極係用於電連接上述電極焊墊與上述外部連接端子。在上述電極焊墊所具有之上述空區域存在著上述第1絕緣膜,存在於上述空區域的上述第1絕緣膜與上述電極焊墊間之於貫穿電極側之段差為上述電極焊墊之厚度以下。

    简体摘要: 半导体设备系具备:第1绝缘膜,被形成于半导体基板之第1主面上;电极焊垫,被形成于上述第1主面上之上述第1绝缘膜内,上述电极焊垫系由导电膜构成,在该导电膜之至少一部分具有不存在上述导电膜的空区域;外部连接端子,被形成于上述半导体基板之和上述第1主面呈对向的第2主面上;及贯穿电极,被形成于由上述半导体基板之上述第2主面侧起被挖空而到达上述电极焊垫的贯穿孔内,上述贯穿电极系用于电连接上述电极焊垫与上述外部连接端子。在上述电极焊垫所具有之上述空区域存在着上述第1绝缘膜,存在于上述空区域的上述第1绝缘膜与上述电极焊垫间之于贯穿电极侧之段差为上述电极焊垫之厚度以下。