Abstract:
A conductive layer is deposited into a trench in a sacrificial layer on a substrate. An etch stop layer is deposited over the conductive layer. The sacrificial layer is removed to form a gap. In one embodiment, a beam is over a substrate. An interconnect is on the beam. An etch stop layer is over the beam. A gap is between the beam and the etch stop layer.
Abstract:
According to various embodiments, there is provided a method for fabricating a semiconductor package, the method including forming a cap structure and a pillar from a first wafer; bonding the first wafer to a second wafer; and filling a gap between the pillar and the cap structure with a mold compound.
Abstract:
Die vorliegende Erfindung schafft ein elektronisches Funktionsbauteil und ein Herstellungsverfahren für ein elektronisches Funktionsbauteil. Das elektronische Funktionsbauteil umfasst ein elektronisches Bauteil (20), das mittels eines dreidimensionalen Druckprozesses in das Funktionsbauteil eingebettet wird. Durch den dreidimensionalen Druckprozess kann dabei neben dem Umschließen des elektronischen Bauteils auch eine individuelle Anpassung der bezüglich Formgebung und mechanischen Eigenschaften des Funktionsbauteils erfolgen. Ferner werden die elektrischen Anschüsse (21) des elektronischen Bauteils in geeigneter Form an die Oberfläche (30a) des Funktionsbauteils geführt.
Abstract:
Embodiments in accordance with the present invention relate generally to polymer compositions useful in the forming of microelectronic assemblies, and more specifically to such compositions that encompass a thermally decomposable polymer and that provide both tackiness and solder fluxing.
Abstract:
This disclosure provides systems, methods and apparatus for providing packaged microelectromechanical systems (MEMS) devices. In one aspect, package can include a cover glass joined to a device substrate, the cover glass including integrated electrical connectivity and configured to encapsulate one or more MEMS devices on the device substrate. The cover glass can include one or more spin-on glass layers and electrically conductive routing and interconnects. The package can include a narrow seal surrounding the one or more encapsulated MEMS devices.
Abstract:
Es wird ein hermetisches Waferlevelpackage aus zwei vorzugsweise materialgleichen piezoelektrischen Wafern und ein Herstellungsverfahren dafür vorgestellt. Die elektrisch und mechanische Verbindung zwischen den beiden Wafern gelingt mit Rahmenstrukturen und Pillars, deren auf zwei Wafer verteilte Teilstrukturen mit Hilfe von Verbindungsschichten wafergebondet werden.
Abstract:
Es wird ein Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterbauelements (166) vorgeschlagen. Das Verfahren umfasst die folgenden Schritte: a) ein Halbleiterchip (110) wird auf einem Ausgangssubstrat (112) erzeugt, wobei der Halbleiterchip (110) in mindestens einer Stützstelle (116) mit dem Ausgangssubstrat (112) verbunden ist, wobei der Halbleiterchip (110) eine dem Ausgangssubstrat (112) abgewandte Vorderseite (130) und eine dem Ausgangssubstrat (112) zuweisende Rückseite (132) aufweist, b) in mindestens einem Durchkontaktierungsschritt wird mindestens ein Durchkontakt-Füllmaterial (142) auf den Halbleiterchip (110) aufgebracht, wobei zumindest ein Teilbereich (140) der Rückseite (132) mit dem Durchkontakt- Füllmaterial (142) beschichtet wird, c) der Halbleiterchip (110) wird von dem Ausgangssubstrat (1 12) getrennt, und d) der Halbleiterchip (110) wird auf mindestens ein Trägersubstrat (150) aufgebracht, wobei der mit dem Durchkontakt-Füllmaterial (142) beschichtete Teilbereich (140) der Rückseite (132) des Halbleiterchips (110) mit mindestens einem Bondpad (152) auf dem Trägersubstrat (150) verbunden wird.
Abstract:
Microelectromechanical systems (MEMS) are small integrated devices or systems that combine electrical and mechanical components. It would be beneficial for such MEMS devices to be integrated with silicon CMOS electronics and packaged in controlled environments and support industry standard mounting interconnections such as solder bump through the provisioning of through-wafer via-based electrical interconnections. However, the fragile nature of the MEMS devices, the requirement for vacuum, hermetic sealing, and stresses placed on metallization membranes are not present in packaging conventional CMOS electronics. Accordingly there is provided a means of reinforcing the through-wafer vias for such integrated MEMS-CMOS circuits by in¬ filling a predetermined portion of the through-wafer electrical vias with low temperature deposited ceramic materials which are deposited at temperatures below 350°C, and potentially to below 250°C, thereby allowing the re-inforcing ceramic to be deposited after fabrication of the CMOS electronics.
Abstract:
Verfahren zur Herstellung eines Verkapselungsmoduls (A) und/oder zur Verkapselung einer mikromechanischen Anordnung, wobei aus einem Rohkörper (1) elektrisch leitenden Halbleitermaterials, insbesondere aus dotierten Silizium, elektronische Anschlussmittel, wie Durchkontaktierungen (2), elektrische Leitungen, Kontakte und/oder elektronische Strukturen, durch einen oder mehrere Strukturierungsprozesse und/oder Ätzprozesse ausgebildet werden, wobei im Zuge der Ausbildung der elektronischen Anschlussmittel ein Sockel (6) des Halbleitermaterials entsteht, auf welchem die elektronischen Anschlussmittel angeordnet sind, wobei diese anschließend mit einem Einbettungsmaterial (9) eingebettet werden und das Einbettungsmaterial und/oder der Halbleitersockel (6) nach dem Einbetten soweit entfernt werden, dass eine definierte Anzahl der elektronischen Anschlussmittel elektrische Kontakte an mindestens einer der Außenflächen (7, 8) des so hergestellten Verkapselungsmoduls (A) aufweist, wobei im Zuge der Ausbildung der elektronischen Anschlussmittel, durch den mindestens einen Strukturierungs- und/oder Ätzprozess, auf dem Sockel des Halbleitermaterials (6), mindestens ein inselförmiger Materialhügel, auf dem/denen insbesondere jeweils eine Durchkontaktierung (2) angeordnet ist, ausgebildet wird, welcher eine Halbleiter-Elektrode (3) verkörpert. Die Erfindung betrifft zusätzlich ein Verkapselungsmodul und/oder eine mikromechanische Anordnung mit wenigstens einer Durchkontaktierung (2) und mindestens einer Halbleiter-Elektrode (3) sowie die Verwendung in Kraftfahrzeugen.