使用热与机械强化层的装置及其制造方法

    公开(公告)号:CN106952831B

    公开(公告)日:2020-01-03

    申请号:CN201611135570.7

    申请日:2016-12-09

    Abstract: 本发明实施例提供一种使用热与机械强化层的装置及其制造方法。本发明实施例提供的方法包含将第一层级装置裸片附接到虚设裸片,将所述第一层级装置裸片囊封于第一囊封材料中,在所述第一层级装置裸片上方形成贯穿通路并且将其电耦合到所述第一层级装置裸片,将第二层级装置裸片附接于所述第一层级装置裸片上方,以及将所述贯穿通路与所述第二层级装置裸片于囊封第二囊封材料中。重布线形成于所述贯穿通路与所述第二层级装置裸片上方并且电耦合到所述贯穿通路与所述第二层级装置裸片。所述虚设裸片、所述第一层级装置裸片、所述第一囊封材料、所述第二层级装置裸片、以及所述第二囊封材料形成复合晶片的部分。

    制造半导体装置的方法
    35.
    发明公开

    公开(公告)号:CN110021533A

    公开(公告)日:2019-07-16

    申请号:CN201811440668.2

    申请日:2018-11-29

    Abstract: 一种包括测试垫接触件的半导体装置及一种制造所述半导体装置的方法。在实施例中,半导体装置可包括以单一顶部金属层形式设置在衬底之上的第一金属特征及第二金属特征。可在第一金属特征之上形成测试垫且可将测试垫电连接到第一金属特征。可在第二金属特征及测试垫之上形成第一钝化层且第一钝化层可覆盖测试垫的顶表面及侧表面。可形成穿透第一钝化层并接触测试垫的第一通孔,且可形成穿透第一钝化层并接触第二金属特征的第二通孔。

    多芯片集成扇出封装件
    36.
    发明公开

    公开(公告)号:CN109786260A

    公开(公告)日:2019-05-21

    申请号:CN201811355127.X

    申请日:2018-11-14

    Inventor: 陈洁 陈宪伟

    Abstract: 方法包括用模制材料包围管芯和接近管芯的导电柱,其中,管芯和导电柱设置在第一再分布结构的第一侧上方,其中,第一再分布结构的与第一侧相对的第二侧附接至第一载体;将设置在预制第二再分布结构的第一表面上的导电焊盘接合至管芯和导电柱,其中,预制第二再分布结构的与第一表面相对的第二表面附接至第二载体;在接合导电焊盘之后,去除第二载体以暴露预制第二再分布结构的接近第二表面的导电部件;并且在预制第二再分布结构的导电部件上方形成电连接至预制第二再分布结构的导电部件的导电凸块。本发明的实施例还涉及多芯片集成扇出封装件。

    具有堆叠通孔的再分布线
    37.
    发明授权

    公开(公告)号:CN106409810B

    公开(公告)日:2019-03-15

    申请号:CN201510797011.1

    申请日:2015-11-18

    Inventor: 陈宪伟 黄立贤

    Abstract: 一种方法,包括:在导电部件上方形成第一介电层;在第一介电层中形成开口;以及镀金属材料以形成电耦合至导电部件的第一再分布线。再分布线包括位于开口中的通孔和金属迹线。该金属迹线包括直接位于通孔上方的第一部分和与通孔不重合的第二部分。金属迹线的第一部分的第一顶面与第二部分的第二顶面基本共面。本发明还提供了一种具有堆叠通孔的再分布线。

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