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    コアシェル触媒の製造方法
    3.
    发明申请
    コアシェル触媒の製造方法 审中-公开
    生产核壳催化剂的方法

    公开(公告)号：WO2015182245A1

    公开(公告)日：2015-12-03

    申请号：PCT/JP2015/060604

    申请日：2015-04-03

    Applicant: トヨタ自動車株式会社

    Inventor： 喜多尾　典之 ,  佐々木　直之 ,  藤沢　次男

    IPC: B01J37/02 ,  B01J23/44 ,  H01M4/86 ,  H01M4/88 ,  H01M4/92 ,  H01M8/10

    CPC classification number: H01M4/8853 ,  B01J23/44 ,  B01J37/02 ,  C23C18/16 ,  C23C18/1635 ,  C23C18/1671 ,  C23C18/1837 ,  C23C18/1844 ,  C23C18/42 ,  C23C18/54 ,  C25D3/38 ,  C25D5/34 ,  C25D5/48 ,  C25D7/00 ,  H01M4/8657 ,  H01M4/925

    Abstract: 　膜電極接合体の発電性能を向上させることができるコアシェル触媒を製造する。　パラジウム含有粒子を導電性担体に担持してなるパラジウム含有粒子担持体を水中に分散させた分散液を準備する。当該分散液に水素ガスをバブリングし、バブリング後、パラジウム含有粒子を酸処理する。酸処理後、銅イオン含有電解液中において、パラジウム含有粒子に銅の酸化還元電位よりも貴な電位を印加することによって、パラジウム含有粒子の表面に銅を析出させる。その後、パラジウム含有粒子の表面に析出した銅に、白金イオン含有溶液を接触させることによって、パラジウム含有粒子の表面に析出した銅を白金に置換することによってシェルを形成する。

    Abstract translation: 产生的是能够提高膜电极组件的发电性能的核 - 壳催化剂。 制备其中通过使导电载体支撑含钯颗粒而获得的含钯颗粒支撑体分散在水中的分散液。 该分散液用氢气鼓泡，并在起泡后用酸处理含钯颗粒。 在酸处理之后，在含铜离子的电解质溶液中的含钯颗粒上施加比铜的氧化还原电位高的电位，使得在含钯粒子的表面上析出铜。 随后，使含铂离子的溶液与沉积在含钯颗粒表面上的铜接触，从而通过用铂代替沉积在每个含钯颗粒表面上的铜而形成壳。

    METHOD OF FORMING CONDUCTIVE TRACKS
    4.
    发明申请
    METHOD OF FORMING CONDUCTIVE TRACKS 审中-公开
    形成导电轨迹的方法

    公开(公告)号：WO2007031712A2

    公开(公告)日：2007-03-22

    申请号：PCT/GB2006003301

    申请日：2006-09-07

    Applicant: EASTMAN KODAK CO ,  FYSON JOHN RICHARD ,  SLATER SEAN DENNIS

    Inventor： FYSON JOHN RICHARD ,  SLATER SEAN DENNIS

    IPC: C23C18/16 ,  C23C18/18 ,  C25D3/46 ,  C25D5/02 ,  C25D5/54 ,  G03C1/035 ,  G03C5/58 ,  H05K3/10 ,  H05K3/18

    CPC classification number: H05K3/106 ,  C23C18/1608 ,  C23C18/1837 ,  C25D3/46 ,  C25D5/022 ,  C25D5/54 ,  G03C1/035 ,  G03C5/58 ,  G03C2007/3025 ,  H05K3/185

    Abstract: A patterned electrical conductor having improved resolution and conductivity is obtained by forming a latent image by exposing, to pressure or sensitising radiation according to a desired conductive track pattern, a pressure-sensitive or photosensitive element having a support substrate and a pressure-sensitive or photosensitive material coated thereon, being capable of providing a latent image upon exposure and comprising a pressure-sensitive or photosensitive metal salt dispersed in a binder, which binder is susceptible to decomposition and/or dissolution upon treatment with an enzyme solution, developing the latent image to form a developed image formed by a first metal (e.g. silver) corresponding to the desired conductive track pattern, treating the developed image with an enzyme capable of decomposing or dissolving the binder and electroless plating and/or electroplating the developed metal image with a plating of a second metal (e.g. silver) to improve the conductivity of the developed metal image to form a conductive track according to the desired pattern, wherein the step of treating the developed image with the enzyme is prior to and/or during the plating step(s).

    Abstract translation: 具有改进的分辨率和导电性的图案化电导体通过根据期望的导电迹线图案暴露于压力或敏化辐射形成潜像而获得，压敏或感光元件具有支撑衬底和压敏或感光 涂覆在其上的材料能够在暴露时提供潜像并且包括分散在粘合剂中的压敏或感光金属盐，该粘合剂在用酶溶液处理时容易分解和/或溶解，将潜像显影成 形成由对应于期望的导电轨道图案的第一金属（例如银）形成的显影图像，用能够分解或溶解粘合剂的酶进行显影的图像，并且将显影的金属图像用电镀 第二金属（例如银），以改善开关的导电性 以形成根据所需图案的导电轨迹，其中用酶处理显影图像的步骤在镀层步骤之前和/或期间。

    AN ELECTROLESS PLATING PROCESS
    5.
    发明申请
    AN ELECTROLESS PLATING PROCESS 审中-公开
    电沉积工艺

    公开(公告)号：WO2012090152A2

    公开(公告)日：2012-07-05

    申请号：PCT/IB2011/055963

    申请日：2011-12-27

    Applicant: COUNCIL OF SCIENTIFIC & INDUSTRIAL RESEARCH ,  RAVINDRA, KALE, Ganesh

    Inventor： RAVINDRA, KALE, Ganesh

    IPC: C23C18/16

    CPC classification number: C23C10/26 ,  C23C18/1619 ,  C23C18/1644 ,  C23C18/1648 ,  C23C18/1658 ,  C23C18/166 ,  C23C18/1682 ,  C23C18/1694 ,  C23C18/1837

    Abstract: An electroless plating method for use in metal plating on a porous substrate is disclosed. It uses selective contact of the plating metal salt solution with a reducing solution on the activated surface on or inside the porous substrate. This electroless plating method in the setup is useful for unmanned, automatic operation resulting in almost 100 % membrane (pure / composite) with substantially no pinholes or cracks.

    Abstract translation: 公开了一种用于多孔基材上的金属电镀的无电镀方法。 它使用电镀金属盐溶液与多孔基材上面或内部的活化表面上的还原溶液的选择性接触。 该设置中的无电镀方法对于无人自动操作是有用的，导致几乎100％的膜（纯/复合），基本上没有针孔或裂纹。

    AN ELECTROLESS PLATING PROCESS
    9.
    发明申请
    AN ELECTROLESS PLATING PROCESS 审中-公开
    电沉积工艺

    公开(公告)号：WO2012090152A3

    公开(公告)日：2014-01-30

    申请号：PCT/IB2011055963

    申请日：2011-12-27

    Applicant: COUNCIL SCIENT IND RES ,  RAVINDRA KALE GANESH

    Inventor： RAVINDRA KALE GANESH

    IPC: C23C18/16 ,  C23C18/18

    CPC classification number: C23C10/26 ,  C23C18/1619 ,  C23C18/1644 ,  C23C18/1648 ,  C23C18/1658 ,  C23C18/166 ,  C23C18/1682 ,  C23C18/1694 ,  C23C18/1837

    Abstract: An electroless plating method for use in metal plating on a porous substrate is disclosed. It uses selective contact of the plating metal salt solution with a reducing solution on the activated surface on or inside the porous substrate. This electroless plating method in the setup is useful for unmanned, automatic operation resulting in almost 100 % membrane (pure / composite) with substantially no pinholes or cracks.

    Abstract translation: 公开了一种用于多孔基材上的金属电镀的无电镀方法。 它使用电镀金属盐溶液与多孔基材上面或内部的活化表面上的还原溶液的选择性接触。 该设置中的无电镀方法对于无人自动操作是有用的，导致几乎100％的膜（纯/复合），基本上没有针孔或裂纹。

    金属膜材料の製造方法及びそれを用いた金属膜材料
    10.
    发明申请
    金属膜材料の製造方法及びそれを用いた金属膜材料 审中-公开
    金属膜材料生产方法和金属膜材料使用相同

    公开(公告)号：WO2013073370A1

    公开(公告)日：2013-05-23

    申请号：PCT/JP2012/078195

    申请日：2012-10-31

    Applicant: 富士フイルム株式会社

    Inventor： 笠井　清資

    IPC: C23C18/18 ,  H05K3/18

    CPC classification number: C23C18/1837 ,  C09D11/101 ,  C09D11/30 ,  H05K1/0346 ,  H05K3/125 ,  H05K3/182 ,  H05K3/388 ,  H05K2201/0338 ,  H05K2203/0709

    Abstract: 　金属膜材料を構成する各種基材との密着性が良好で、かつエッチング耐性が高く、得られるパターン形状の精度を向上することができる金属膜材料の製造方法及びそれを用いた金属膜材料を提供する。　下記インク組成物１）及び２）をインクジェット法により基材上に吐出するインク付与工程と、付与した前記インク組成物に露光及び加熱の少なくともいずれかを行い、硬化膜を形成する硬化膜形成工程と、前記硬化膜にめっき触媒、又はその前駆体を付与する触媒付与工程と、付与した前記めっき触媒、又はその前駆体に対してめっきを行うめっき処理工程とを含み、　前記硬化膜が膜の厚み方向において前記基材に最も近い側から前記基材に最も遠い側に向かって下記第１のモノマーの硬化物の比率が大きくなり、かつ第２のモノマーの硬化物の比率が小さくなるように、第１のモノマーの硬化物及び第２のモノマーの硬化物の組成が連続的に変化する傾斜構造を有する、金属膜材料の製造方法。インク組成物１）：シアノ基、アルキルオキシ基、アミノ基、アルキルアミノ基、ピリジル基、ピロリドニル基、イミダゾリル基、アルキルスルファニル基、及び環状エーテル基、から選択する少なくとも１つの基を有する第１のモノマーを少なくとも１種含有するインク組成物。インク組成物２）：二以上の重合性基を有する、第１のモノマーとは異なる第２のモノマーを少なくとも１種含有するインク組成物。

    Abstract translation: 提供一种生产具有优异的耐蚀刻性的所有类型的构成金属膜材料的基材的粘附性的金属膜材料的方法，并且提高所得图案的形状精度; 还提供了使用所述方法制备的金属膜材料。 该金属膜材料制造方法包括通过喷墨法将用于将油墨组合物1）和2）（下面）排出到基板上的油墨施加步骤，用于通过加热和/或暴露于光来形成固化膜的固化膜形成步骤 所施加的油墨组合物，将镀催化剂或其前体施加到固化膜的催化剂施加步骤以及用于镀敷所施加的电镀催化剂或其前体的电镀处理步骤。 固化膜具有梯度结构，其中第一单体的固化产物的组成和第二单体的固化产物的组成连续变化，使得在膜厚度方向上从最靠近基板的一侧到最远离基板的一侧 下述第一单体的固化物的比例增加，所述第二单体的固化物的比率降低。 油墨组合物1）：含有至少一种具有至少一个选自氰基，烷氧基，氨基，烷基氨基，吡啶基，吡咯烷酮基，咪唑基，烷基硫烷基和环状醚的第一单体的油墨组合物 组。 油墨组合物2）：含有至少一种具有两个或多个可聚合基团并且不同于第一单体的第二单体的油墨组合物。

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