FUSE STRUCTURE OF A SEMICONDUCTOR DEVICE
    8.
    发明申请
    FUSE STRUCTURE OF A SEMICONDUCTOR DEVICE 审中-公开
    半导体器件的保险丝结构

    公开(公告)号:US20090302418A1

    公开(公告)日:2009-12-10

    申请号:US12478365

    申请日:2009-06-04

    IPC分类号: H01L23/525

    摘要: Provided is a fuse structure of a semiconductor device. The fuse structure may include an insulating layer pattern structure, a fuse and a protecting layer pattern. The insulating layer pattern structure may be formed on a substrate. The insulating layer pattern structure may have an opening. The fuse may be formed in the opening. The protecting layer pattern may be formed in the opening of the insulating layer pattern structure to cover the fuse.

    摘要翻译: 提供半导体器件的熔丝结构。 熔丝结构可以包括绝缘层图案结构,熔丝和保护层图案。 绝缘层图案结构可以形成在基板上。 绝缘层图案结构可以具有开口。 保险丝可以形成在开口中。 保护层图案可以形成在绝缘层图案结构的开口中以覆盖保险丝。