摘要:
Es wird eine elektronische Vorrichtung angegeben mit einem ersten Bauteil (1) und einem zweiten Bauteil (2), die mit einer Sinterschicht (3) mit einem ersten Metall miteinander verbunden sind, wobei zumindest eines der Bauteile (1, 2) zumindest eine Kontaktschicht (4, 4') aufweist, die in unmittelbarem Kontakt mit der Sinterschicht (3) angeordnet ist, die ein zweites, vom ersten Metall unterschiedliches Metall aufweist und die frei von Gold ist. Weiterhin wird ein Verfahren zur Herstellung einer elektronischen Vorrichtung angegeben.
摘要:
Es wird ein Verfahren zum Verbinden von Fügepartnern (1, 2), beispielsweise von einen optoelektronischen Halbleiterchip (z.B. einen Leuchtdiodenchip) und einer Leiterplatte oder einem metallischen Leiterrahmen mit den folgenden Schritten angegeben: Bereitstellen eines ersten Fügepartners (1) und eines zweiten Fügepartners (2), Aufbringen einer ersten Schichtenfolge (10) auf den ersten Fügepartner (1), die zumindest eine Schicht (11, 15) umfasst, die Silber enthält oder aus Silber besteht, Aufbringen einer zweiten Schichtenfolge (20) auf den zweiten Fügepartner (2), die zumindest eine Schicht (29) umfasst, die Indium und Wismut enthält, oder eine Schicht (23), die Indium enthält und eine Schicht (22, 24), die Wismut enthält, Zusammenpressen der ersten Schichtenfolge (10) und der zweiten Schichtenfolge (20) an ihren dem ersten Fügepartner (1) und dem zweiten Fügepartner (2) jeweils abgewandten Stirnflächen unter Anwendung eines Fügedrucks (p) bei einer Fügetemperatur, die höchstens 120 °C beträgt, für eine vorgegebene Fügezeit, wobei die erste Schichtenfolge (10) und die zweite Schichtenfolge (20) zu einer Verbindungsschicht (30) verschmelzen, die direkt an den ersten Fügepartner und den zweiten Fügepartner grenzt und derer Aufschmelztemperatur wenigstens 260 °C beträgt.
摘要:
A bonding element includes a first transient liquid phase (TLP) bonding element including a first material and a second material, the first material having a higher melting point than the second material, a ratio of a quantity of the first material and the second material in the first TLP bonding element having a first value and a second TLP bonding element including the first material and the second material, a ratio of a quantity of the first material and the second material in the second TLP bonding element having a second value different from the first value.
摘要:
A semiconductor die (12) is mounted on a metal substrate (14) via intermediate layers which permit the die to be readily soldered to the combination while yet reducing thermal stresses. A dielectric layer (16) is formed over the substrate (14), followed by another layer (18) of a selected metal, either molybdenum or tungsten. Atop the metal layer (18) is another layer (20) comprising a mixture of solder and the selected metal. A layer (22) of only solder is formed over the mixture, and the semiconductor die is bonded thereto by means of the layer (22) of solder.