封装结构及其形成方法
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118315283A

    公开(公告)日:2024-07-09

    申请号:CN202410300662.4

    申请日:2024-03-15

    Abstract: 一种形成封装结构的方法,包括:在基底结构上形成光刻胶,和使用第一光刻掩模对所述光刻胶执行第一曝光工艺。在所述第一曝光工艺中,所述光刻胶的内部部分被阻挡而免受曝光,并且光刻胶的外围部分被曝光。所述外围部分环绕所述内部部分。使用第二光刻掩模对光刻胶执行第二曝光工艺。在所述第二曝光工艺中,光刻胶的所述内部部分被曝光,并且所述光刻胶的所述外围部分被阻挡而免受曝光。对所述光刻胶进行显影。本发明的实施例还提供了封装结构。

    半导体器件及其形成方法
    9.
    发明公开

    公开(公告)号:CN119480827A

    公开(公告)日:2025-02-18

    申请号:CN202411453468.6

    申请日:2024-10-17

    Abstract: 在实施例中,器件包括:中介层,包括:背侧再分布结构;互连管芯,位于背侧再分布结构上方,互连管芯包括衬底、从衬底突出的衬底通孔和衬底通孔周围的隔离层;第一密封剂,位于互连管芯周围,第一密封剂的表面与隔离层的表面和衬底通孔的表面基本上共面;以及前侧再分布结构,位于第一密封剂上方,前侧再分布结构包括物理接触衬底通孔的第一导电通孔,隔离层将第一导电通孔与衬底分隔开。本申请的实施例还涉及半导体器件及其形成方法。

    具有电感器的封装件及形成电感器的方法

    公开(公告)号:CN117177659A

    公开(公告)日:2023-12-05

    申请号:CN202310887539.2

    申请日:2023-07-19

    Abstract: 一种形成电感器的方法,包括在衬底上形成第一重分布结构,形成位于第一重分布结构上方并且电连接到第一重分布结构的第一导电通孔,在第一导电通孔的顶表面和侧壁上方沉积第一磁性材料,将第一管芯和第二管芯耦接到第一重分布结构,将第一管芯、第二管芯和第一导电通孔密封在密封体中,并且平坦化密封体和第一磁性材料以暴露第一导电通孔的顶表面,同时第一磁性材料的剩余部分保留在第一导电通孔的侧壁上,其中第一导电通孔和第一磁性材料的剩余部分提供电感器。本申请的实施例还涉及一种具有电感器的封装件。

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