公开(公告)号：US09757212B2

公开(公告)日：2017-09-12

申请号：US15066213

申请日：2016-03-10

申请人： BIOMET 3I, LLC

发明人： Robert L Mayfield ,  Ross W Towse

IPC分类号： A61C8/00 ,  C23F1/30 ,  C23F1/00 ,  A61L27/04 ,  B82Y30/00 ,  C23F1/26 ,  C23F1/38 ,  C23G1/10 ,  A61C13/00

CPC分类号： A61C8/0015 ,  A61C8/00 ,  A61C8/0012 ,  A61C8/0013 ,  A61C8/0022 ,  A61C8/0037 ,  A61C13/00 ,  A61C2008/0046 ,  A61L27/04 ,  A61L2400/18 ,  B82Y30/00 ,  C23F1/00 ,  C23F1/26 ,  C23F1/30 ,  C23F1/38 ,  C23G1/106

摘要： A method of forming an implant to be implanted into living bone is disclosed. The method comprises the act of roughening at least a portion of the implant surface to produce a microscale roughened surface. The method further comprises the act of immersing the microscale roughened surface into a solution containing hydrogen peroxide and a basic solution to produce a nanoscale roughened surface consisting of nanopitting superimposed on the microscale roughened surface. The nanoscale roughened surface has a property that promotes osseointegration.

公开(公告)号：US20160258070A1

公开(公告)日：2016-09-08

申请号：US15056948

申请日：2016-02-29

申请人： ELECTRONICS AND TELECOMMUNICATIONS RESEARCH INSTITUTE

发明人： Yong Hee KIM ,  Sang-Don JUNG

IPC分类号： C23F1/44 ,  C25D5/10 ,  A61B5/04 ,  C25D3/46 ,  C23F1/30 ,  C23F1/14 ,  C25D7/00 ,  C25D3/48

CPC分类号： C23F1/44 ,  A61B5/04001 ,  A61B2562/0215 ,  A61B2562/0217 ,  A61B2562/125 ,  B82Y5/00 ,  B82Y40/00 ,  C23F1/02 ,  C23F1/14 ,  C23F1/30 ,  C25D3/46 ,  C25D3/48 ,  C25D5/10 ,  C25D5/48 ,  C25D7/00

摘要： In a method for surface-modifying a neural electrode, a neural electrode array is formed, first and second metal nanoparticles having different solubilities with respect to an etching solution are simultaneously electrode-deposited on a surface of the neural electrode array, and the second metal nanoparticles are selectively etched using the etching solution, thereby forming a porous structure including the first metal nanoparticles on the surface of the neural electrode array.

摘要翻译： 在神经电极表面修饰方法中，形成神经电极阵列，同时对神经电极阵列的表面电极沉积具有相对于蚀刻溶液的溶解度不同的第一和第二金属纳米颗粒，第二金属 使用蚀刻溶液选择性地蚀刻纳米颗粒，从而在神经电极阵列的表面上形成包括第一金属纳米颗粒的多孔结构。

公开(公告)号：US09376594B2

公开(公告)日：2016-06-28

申请号：US14385298

申请日：2013-03-11

申请人： FUJIMI INCORPORATED

发明人： Shuichi Tamada ,  Satoru Yarita

IPC分类号： H01L21/302 ,  C09G1/02 ,  H01L21/321 ,  H01L21/306 ,  H01L21/02 ,  C09K3/14 ,  C23F1/30 ,  C23F1/40 ,  C23F3/02

CPC分类号： C09G1/02 ,  C09K3/1409 ,  C09K3/1436 ,  C09K3/1463 ,  C23F1/30 ,  C23F1/40 ,  C23F3/02 ,  H01L21/02024 ,  H01L21/30625 ,  H01L21/3212

摘要： There is provided a polishing composition capable of suppressing formation of a stepped portion caused by etching of a surface of a polishing object including a portion containing a group IV material when the polishing object is polished. The present invention relates to a polishing composition for polishing of a polishing object including a portion that contains a group IV material, and the polishing composition contains an oxidizing agent and an anticorrosive agent. Preferably, the anticorrosive agent includes at least one selected from the group consisting of compounds in which two or more carbonyl groups contained in a molecule are bonded through a carbon atom in the molecule. To be more specific, preferably, the anticorrosive agent includes at least one selected from the group consisting of a 1,3-diketone compound, a 1,4-diketone compound, and a triketone compound.

摘要翻译： 提供了一种研磨组合物，其能够在研磨对象被研磨时，抑制由包含含有IV族材料的部分的研磨对象物的表面的蚀刻而产生的阶梯部的形成。 本发明涉及一种用于抛光抛光对象物的抛光组合物，该抛光组合物包括含有IV族材料的部分，并且抛光组合物含有氧化剂和防腐蚀剂。 防腐剂优选包括选自分子中包含的两个或更多个羰基通过分子中的碳原子结合的化合物中的至少一种。 更具体地说，优选防锈剂包括选自1,3-二酮化合物，1,4-二酮化合物和三酮化合物中的至少一种。

公开(公告)号：US20160167139A1

公开(公告)日：2016-06-16

申请号：US14906807

申请日：2014-07-16

申请人： KYOCERA CORPORATION

发明人： Hiroshi OGAWA

IPC分类号： B23B51/02 ,  C23F1/30 ,  C23C14/22 ,  B23C5/10 ,  C23C16/44

CPC分类号： B23B51/02 ,  B23B2222/28 ,  B23B2226/31 ,  B23B2226/315 ,  B23B2228/105 ,  B23C5/10 ,  B23C2222/28 ,  B23C2226/31 ,  B23C2226/315 ,  B23C2228/10 ,  C23C14/024 ,  C23C14/0641 ,  C23C14/22 ,  C23C16/44 ,  C23C30/005 ,  C23F1/00 ,  C23F1/30 ,  C23G1/20 ,  Y10T408/78 ,  Y10T408/81

摘要： A cutting tool based on an embodiment of the present invention is provided with a cylindrical main body section which is made of a cobalt-containing cemented carbide alloy and is rotatable about the central axis thereof, a cutting edge which is provided at at least one of the tip and the periphery of the main body section, a chip discharge groove which extends from the cutting edge toward the rear end of the main body section, and a coating layer which is made of diamond and covers the cutting edge, wherein the cobalt content of the surface of the main body section at the part coated with the coating layer is less than the cobalt content of the surface of the main body section at parts other than the part coated with the coating layer.

摘要翻译： 基于本发明的实施例的切削工具设置有由含钴硬质合金合金制成并且可围绕其中心轴线旋转的圆柱形主体部分，切削刃设置在至少一个 主体部分的尖端和周边，从切割边缘向主体部分的后端延伸的切屑排出槽以及由金刚石制成并覆盖切割边缘的涂层，其中钴含量 在涂覆有涂层的部分处的主体部分的表面的厚度小于在涂覆有涂层的部分以外的部分处的主体部分的表面的钴含量。

公开(公告)号：US09365935B2

公开(公告)日：2016-06-14

申请号：US14293388

申请日：2014-06-02

申请人： Inktec Co., Ltd.

发明人： Kwang Choon Chung ,  Hyun-Nam Cho ,  Young-Kwan Seo

IPC分类号： C23F1/30 ,  C09K13/00 ,  C23F1/14 ,  C09K13/06

CPC分类号： C23F1/30 ,  C09K13/00 ,  C09K13/06 ,  C23F1/14

摘要： The present invention provides an etching solution for silver or silver alloy comprising one at least ammonium compound represented by the formula (1), (2) or (3) below and an oxidant: wherein each of the variables is as defined herein.

摘要翻译： 本发明提供一种用于银或银合金的蚀刻溶液，其包含至少一种由下式（1），（2）或（3）表示的铵化合物和氧化剂：其中每个变量如本文所定义。

公开(公告)号：US09308153B2

公开(公告)日：2016-04-12

申请号：US14485825

申请日：2014-09-15

申请人： Cristiano Ugo Ciranni

发明人： Cristiano Ugo Ciranni

IPC分类号： C03C15/00 ,  A61K6/04 ,  A61L27/04 ,  A61L27/06 ,  A61L27/10 ,  A61C8/00 ,  C23F1/20 ,  C23F1/26 ,  C23F1/28 ,  C23F1/30

CPC分类号： A61K6/04 ,  A61C8/0093 ,  A61L27/047 ,  A61L27/06 ,  A61L27/10 ,  A61L2400/12 ,  A61L2400/18 ,  C23F1/20 ,  C23F1/26 ,  C23F1/28 ,  C23F1/30

摘要： A method for the surface preparation of devices made of titanium or titanium alloys, zirconium, zirconia, alumina or zirconia/alumina compounds, stainless steels and cobalt-base superalloys for medical use; the devices being implantable in the human body or in animals and attached extracorporeal parts made with the same materials, particularly for dental and orthopedic implantology. The implantable device is treated by exposing at least one portion of the surface of the device to a solution including hydrofluoric acid, phosphoric acid, at least one surfactant substance and water; for a time period and in conditions sufficient to provide the surface of the implant with the desired surface roughness and the formation of self-induced surface titanium dioxide, maintaining the structural integrity of the device and without altering the centesimal measurement size. The surface thus is rinsed with demineralized water and ultrasounds in order to prevent metalosis phenomena.

摘要翻译： 用于表面处理由钛或钛合金，锆，氧化锆，氧化铝或氧化锆/氧化铝化合物制成的器件的方法，用于医疗用途的不锈钢和钴基超级合金; 该装置可植入人体或动物体内，以及用相同材料制成的附着的体外部分，特别适用于牙科和整形外科手术。 通过将装置表面的至少一部分暴露于包含氢氟酸，磷酸，至少一种表面活性剂物质和水的溶液来处理可植入装置; 在足以使植入物表面具有所需表面粗糙度和形成自身诱导表面二氧化钛的条件下，保持装置的结构完整性并且不改变中心测量尺寸。 因此，用软化水和超声波清洗表面，以防止金属化现象。

公开(公告)号：US09283056B2

公开(公告)日：2016-03-15

申请号：US14687625

申请日：2015-04-15

申请人： Biomet 3i, LLC

发明人： Robert L. Mayfield ,  Ross W. Towse

IPC分类号： A61C8/00 ,  C23F1/30 ,  C23F1/00 ,  A61L27/04 ,  B82Y30/00 ,  C23F1/26 ,  C23F1/38 ,  C23G1/10 ,  A61C13/00

CPC分类号： A61C8/0015 ,  A61C8/00 ,  A61C8/0012 ,  A61C8/0013 ,  A61C8/0022 ,  A61C8/0037 ,  A61C13/00 ,  A61C2008/0046 ,  A61L27/04 ,  A61L2400/18 ,  B82Y30/00 ,  C23F1/00 ,  C23F1/26 ,  C23F1/30 ,  C23F1/38 ,  C23G1/106

摘要： A method of forming an implant to be implanted into living bone is disclosed. The method comprises the act of roughening at least a portion of the implant surface to produce a microscale roughened surface. The method further comprises the act of immersing the microscale roughened surface into a solution containing hydrogen peroxide and a basic solution to produce a nanoscale roughened surface consisting of nanopitting superimposed on the microscale roughened surface. The nanoscale roughened surface has a property that promotes osseointegration.

公开(公告)号：US20160056054A1

公开(公告)日：2016-02-25

申请号：US14927798

申请日：2015-10-30

申请人： FUJIFILM Corporation

发明人： Satomi TAKAHASHI ,  Tetsuya KAMIMURA ,  Akiko KOYAMA ,  Atsushi MIZUTANI ,  Yasuo SUGISHIMA ,  Satoru MURAYAMA

IPC分类号： H01L21/3213 ,  H01L21/285 ,  C23F1/44 ,  C23F1/30 ,  C23F1/26 ,  H01L21/324 ,  H01L21/02

CPC分类号： H01L21/32134 ,  C23F1/26 ,  C23F1/28 ,  C23F1/30 ,  C23F1/44 ,  H01L21/02068 ,  H01L21/28088 ,  H01L21/28518 ,  H01L21/324 ,  H01L21/823842 ,  H01L29/4966 ,  H01L29/517 ,  H01L29/665 ,  H01L29/66545 ,  H01L29/66575

摘要： There is provided an etching method of a semiconductor substrate that includes a first layer containing germanium (Ge) and a second layer containing at least one metal element selected from nickel platinum (NiPt), titanium (Ti), nickel (Ni), and cobalt (Co), the method including: bringing an etching liquid which contains a specific acid compound into contact with the second layer and selectively removing the second layer.

摘要翻译： 提供一种半导体衬底的蚀刻方法，其包括含有锗（Ge）的第一层和包含至少一种选自镍铂（NiPt），钛（Ti），镍（Ni）和钴的金属元素的第二层） （Co），该方法包括：使包含特定酸化合物的蚀刻液与第二层接触并选择性地除去第二层。

公开(公告)号：US09163314B2

公开(公告)日：2015-10-20

申请号：US13643375

申请日：2012-07-06

申请人： Jea-Gun Park ,  Jin-Hyung Park ,  Jae-Hyung Lim ,  Jong-Young Cho ,  Ho Choi ,  Hee-Sub Hwang

发明人： Jea-Gun Park ,  Jin-Hyung Park ,  Jae-Hyung Lim ,  Jong-Young Cho ,  Ho Choi ,  Hee-Sub Hwang

IPC分类号： C09K3/14 ,  C09G1/02 ,  C23F1/30 ,  C23F3/06

CPC分类号： C23F1/30 ,  C09G1/02 ,  C23F3/06

摘要： The present invention relates to a CMP slurry composition for polishing tungsten comprising a abrasive and a polishing chemical, wherein the abrasive comprises colloidal silica dispersed in ultra-pure water, and the polishing chemical comprises hydrogen peroxide, ammonium persulfate and iron nitrate. The slurry composition is not discolored and has good etching selectivity, so as to be applied to a CMP process.

摘要翻译： 本发明涉及一种用于抛光钨的CMP浆料组合物，其包括研磨剂和抛光化学品，其中磨料包含分散在超纯水中的胶体二氧化硅，抛光化学品包括过氧化氢，过硫酸铵和硝酸铁。 浆料组合物不变色并且具有良好的蚀刻选择性，从而适用于CMP工艺。

公开(公告)号：US20150203970A1

公开(公告)日：2015-07-23

申请号：US14531138

申请日：2014-11-03

申请人： ELECTRIC MIRROR, LLC

发明人： James V. Mischel, JR. ,  James V. Mischel, SR.

IPC分类号： C23F1/30 ,  A47G1/02 ,  G09F13/12 ,  G02B27/10

CPC分类号： C23F1/30 ,  A47G1/02 ,  G02B27/0101 ,  G02B27/0149 ,  G02B27/1073 ,  G02B2027/0169 ,  G09F9/00 ,  G09F13/12 ,  G09F19/14 ,  Y10T29/49826 ,  Y10T29/49963

摘要： A method to create a media display device viewing area in a mirror platform includes isolating the media display device viewing area from the rest of a glass layer of the mirror platform. The glass layer has a backing layer and an optional paint layer. A solvent is applied to remove optional protective paint, if present, from a backing layer within the media display device viewing area. The protective paint, if present, is scraped from the media display device viewing area. An etching solution is applied to the media display device viewing area to remove the backing layer. The media display device viewing area is rinsed.

摘要翻译： 在镜面平台中创建媒体显示设备观看区域的方法包括将媒体显示设备观看区域与镜像平台的玻璃层的其余部分隔离。 玻璃层具有背衬层和可选的涂层。 施加溶剂以从介质显示装置观察区域中的背衬层去除可选的防护涂料（如果存在）。 保护涂料（如果存在）从介质显示装置观察区域刮掉。 将蚀刻溶液施加到介质显示装置观察区域以去除背衬层。 清洗媒体显示设备的观看区域。