パワーモジュール
    73.
    发明专利
    パワーモジュール 审中-公开
    电源模块

    公开(公告)号:JP2016018866A

    公开(公告)日:2016-02-01

    申请号:JP2014140138

    申请日:2014-07-08

    摘要: 【課題】パワー半導体素子の薄型化に伴う熱応力を低減し、長期信頼性に優れたパワーモジュールを提供することを目的とする。 【解決手段】絶縁基板11上に配置されたパワー半導体素子21、21と、パワー半導体素子21、22の表面電極に接続されるエンボス部613、614が、電極部610より薄い板厚で、表面電極側に突出して形成された第1のリードフレーム61とを備えることで、エンボス部613、614の剛性を低減でき、はんだ接合部30、31の熱応力を抑制する。 【選択図】図2

    摘要翻译: 要解决的问题:提供一种功率模块,其降低与功率半导体元件的薄化相关的热应力,并且实现优异的长期可靠性。解决方案:功率模块包括:布置在绝缘基板11上的功率半导体元件21,21; 以及引线框架61,其中连接到功率半导体元件21,22的表面电极的压花部分613,614形成为具有比电极部分610的板厚度更薄并突出在表面电极侧的板厚度。 结果,可以减小压花部分613,614的刚性,并抑制焊接部分30,31的热应力。图2:图2

    半導体装置の製造方法、半導体装置の評価方法および半導体装置
    77.
    发明专利
    半導体装置の製造方法、半導体装置の評価方法および半導体装置 审中-公开
    制造半导体器件的方法,半导体器件和半导体器件的估计方法

    公开(公告)号:JP2015207736A

    公开(公告)日:2015-11-19

    申请号:JP2014089124

    申请日:2014-04-23

    摘要: 【課題】ダミートレンチMOSセルを備え、かつ市場故障率の低いトレンチゲート型の半導体装置の製造方法、半導体装置の評価方法および半導体装置を提供すること。 【解決手段】まず、n - 型半導体基板1のおもて面に、素子の深さ方向に延びるゲート電極8を備えたトレンチMOSセルと、素子の深さ方向に延びるダミーゲート電極18を備えたダミートレンチMOSセルと、を形成する。次に、n - 型半導体基板1のおもて面上に、エミッタ電極9およびスクリーニングパッドDGを形成する。スクリーニングパッドDGには、ダミーゲート電極18が接続される。次に、エミッタ電極9とスクリーニングパッドDGとの間に所定電圧を印加して、ダミーゲート絶縁膜17に対するスクリーニングを行う。次に、エミッタ電極9およびスクリーニングパッドDGを覆うめっき膜13により、エミッタ電極9とスクリーニングパッドDGとを短絡することで、製品が完成する。 【選択図】図1

    摘要翻译: 要解决的问题:提供一种具有虚拟沟槽MOS单元和低市场失效率的沟槽栅型半导体器件的制造方法,半导体器件和半导体器件的估计方法。解决方案:具有 在n型半导体衬底1的前表面上形成有沿器件的深度方向延伸的栅电极8和具有在器件的深度方向上延伸的虚拟栅电极18的虚拟沟槽MOS单元。发射极电极9和 屏蔽垫DG形成在n型半导体衬底1的前表面上。虚拟栅电极18连接到屏蔽垫DG。 随后,在发射电极9和屏蔽焊盘DG之间施加预定的电压,以在虚拟栅极绝缘膜17上进行屏蔽。随后,发射电极9和屏蔽焊盘DG通过镀膜13彼此短路 覆盖发射电极9和屏蔽垫DG,从而完成产品。