伪金属帽和再分布线的路由设计

    公开(公告)号:CN108400122B

    公开(公告)日:2020-01-03

    申请号:CN201710482330.2

    申请日:2017-06-22

    Abstract: 一种封装件包括第一介电层,位于第一介电层上方且附接至第一介电层的器件管芯,有源贯通孔和伪贯通孔以及密封器件管芯、有源贯通孔和伪贯通孔的密封材料。封装件还包括位于器件管芯、有源贯通孔和伪贯通孔上方并与其接触的第二介电层。有源金属帽位于第二介电层上方并与第二介电层接触并电连接至有源贯通孔。有源金属帽与有源贯通孔重叠。伪金属帽位于第二介电层上方并接触第二介电层。伪金属帽与伪贯通孔重叠。通过间隙将伪金属帽分成第一部分和第二部分。再分布线穿过伪金属帽的第一部分和第二部分之间的间隙。本发明实施例涉及伪金属帽和再分布线的路由设计。

    伪金属帽和再分布线的路由设计

    公开(公告)号:CN108400122A

    公开(公告)日:2018-08-14

    申请号:CN201710482330.2

    申请日:2017-06-22

    Abstract: 一种封装件包括第一介电层,位于第一介电层上方且附接至第一介电层的器件管芯,有源贯通孔和伪贯通孔以及密封器件管芯、有源贯通孔和伪贯通孔的密封材料。封装件还包括位于器件管芯、有源贯通孔和伪贯通孔上方并与其接触的第二介电层。有源金属帽位于第二介电层上方并与第二介电层接触并电连接至有源贯通孔。有源金属帽与有源贯通孔重叠。伪金属帽位于第二介电层上方并接触第二介电层。伪金属帽与伪贯通孔重叠。通过间隙将伪金属帽分成第一部分和第二部分。再分布线穿过伪金属帽的第一部分和第二部分之间的间隙。本发明实施例涉及伪金属帽和再分布线的路由设计。

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