局部互连结构的制作方法
    40.
    发明授权

    公开(公告)号:CN103928392B

    公开(公告)日:2017-05-17

    申请号:CN201310009755.3

    申请日:2013-01-10

    IPC分类号: H01L21/768

    摘要: 一种局部互连结构的制作方法,包括:提供半导体衬底,在所述半导体衬底上形成介质层;在所述介质层上形成图形化的第一膜层,定义局部互连结构围成的区域;在所述第一膜层周围形成侧墙;图形化所述侧墙,定义局部互连结构的位置;形成第二膜层,覆盖所述介质层且与侧墙顶面齐平;去除图形化后的侧墙,形成第一开口;形成第一开口后,刻蚀介质层至半导体衬底,在所述介质层中形成第二开口;在所述第二开口内填充导电材料,形成局部互连结构。采用本发明的方法可以形成变形较小的局部互连结构,以提高后续半导体器件的性能。