METHOD OF FABRICATING DIAMOND-SEMICONDUCTOR COMPOSITE SUBSTRATES
    1.
    发明申请
    METHOD OF FABRICATING DIAMOND-SEMICONDUCTOR COMPOSITE SUBSTRATES 审中-公开
    制备金刚石半导体复合基板的方法

    公开(公告)号:WO2016180849A1

    公开(公告)日:2016-11-17

    申请号:PCT/EP2016/060493

    申请日:2016-05-11

    申请人: RFHIC CORPORATION

    发明人: FRANCIS, Daniel

    IPC分类号: H01L21/20

    摘要: A method of fabricating a semiconductor-on-diamond composite substrate, the method comprising: (i) starting with a native semiconductor wafer comprising a native silicon carbidesubstrate on which a compound semiconductor is disposed; (ii) bonding a silicon carbide carrier substrate to the compound semiconductor; (iii) removing the native silicon carbide substrate; (iv) forming a nucleation layer over the compound semiconductor; (v) growing polycrystalline chemical vapour deposited (CVD) diamond on the nucleation layer to form a composite diamond-compound semiconductor-silicon carbide wafer, and (vi) removing the silicon carbide carrier substrate y laser lift-off to achieve a layered structure comprising the compound semiconductor bonded to the polycrystalline CVD diamond via the nucleation layer, wherein in step (ii) the silicon carbide carrier substrate is bonded to the compound semiconductor via a laser absorption material which absorbs laser light, wherein the laser has a coherence length shorter than a thickness of the silicon carbide carrier substrate.

    摘要翻译: 一种制造金刚石半导体复合衬底的方法,所述方法包括:(i)从其上配置有化合物半导体的天然硅碳化硅衬底的天然半导体晶片开始; (ii)将碳化硅载体衬底结合到化合物半导体; (iii)去除天然碳化硅衬底; (iv)在化合物半导体上形成成核层; (v)在成核层上生长多晶化学气相沉积(CVD)金刚石以形成复合金刚石 - 化合物半导体 - 碳化硅晶片,和(vi)去除碳化硅载体衬底y激光剥离以实现分层结构,包括 通过成核层与多晶CVD金刚石结合的化合物半导体,其中在步骤(ii)中,碳化硅载体衬底通过吸收激光的激光吸收材料与化合物半导体结合,其中激光的相干长度短于 碳化硅载体基板的厚度。

    BONDING-VERFAHREN
    7.
    发明申请
    BONDING-VERFAHREN 审中-公开
    接工艺

    公开(公告)号:WO2010061004A1

    公开(公告)日:2010-06-03

    申请号:PCT/EP2009/066058

    申请日:2009-11-30

    发明人: RICHTER, Franz

    IPC分类号: H01L21/68 B32B37/10 H01L21/00

    摘要: Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Bonden einer ersten Fläche (1a) und einer zweiten Fläche (7a) mittels einer Zwischenschicht (3), umfassend die Schritte: a) Bereitstellen eines ersten Gegenstandes (1) mit der ersten Fläche (1a), b) Bereitstellen von fließfähigem, verfestigbarem Material für die Zwischenschicht (3), c) Bereitstellen eines zweiten Gegenstandes (7) mit der zweiten Fläche (7a), d) Auftragen des Materials für die Zwischenschicht auf die erste Fläche (1a), so dass eine die Fläche umlaufende Aufwölbung (3a) entsteht, e) Anlegen eines Vakuums um den ersten Gegenstand (1) und den zweiten Gegenstand (2), f) Kontaktieren der zweiten Fläche (7a) des zweiten Gegenstandes (7) mit der umlaufenden Aufwölbung, so dass ein abgeschlossener Hohlraum (5) entsteht, g) Erhöhen des Umgebungsdruckes, so dass der Hohlraum (5) aufgehoben wird, ohne dass es zu einem Gaseinstrom in ihn kommt und h) Erhöhen der Viskosität des Materials für die Zwischenschicht.

    摘要翻译: 本发明涉及由中间层(3)的装置接合的第一表面(1a)和第二表面(7a)的,包括以下步骤的方法:a)提供第一制品(1)与所述第一表面(1a)中,b)中 用于中间层(3)提供可流动的,可固化材料,c)提供第二物品(7)与第二表面(7a)中,d)将所述材料用于中间层的第一表面(1a)中,使得 表面环状凸起(3A)形成,E)将真空施加到所述第一对象(1)和(2)中,f)使所述第二物品(7)的与周向凸起的第二表面(7a)的第二个目的,使得 一个封闭的腔(5)中产生,克)提高环境压力,从而使所述腔(5)被释放,在不它和h使Gaseinstrom)增加材料的粘度为中间层。