STRAHLUNGSEMITTIERENDER HALBLEITERCHIP UND DESSEN VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG

    公开(公告)号:WO2018234121A1

    公开(公告)日:2018-12-27

    申请号:PCT/EP2018/065687

    申请日:2018-06-13

    Abstract: Es wird ein strahlungsemittierender Halbleiterchip mit den folgenden Merkmalen angegeben: - einem Halbleiterkörper (1) umfassend: - eine epitaktische Halbleiterschichtenfolge (2) mit einer aktive Zone (3), die dazu geeignet ist, elektromagnetische Strahlung zu erzeugen, - einer Strahlungsaustrittsfläche, von der die im Betrieb des Halbleiterchips erzeugte elektromagnetische Strahlung ausgesandt wird, - einer rückseitigen Hauptfläche, die der Strahlungsaustrittsfläche gegenüberliegt, wobei - ein Mehrschichtenstapel (7) mit einer Barriereschicht (4, 4', 4'') und einer Lotschicht (6) auf die rückseitige Hauptfläche des Halbleiterkörpers (1) aufgebracht ist, - die Barriereschicht (4) zwischen der rückseitigen Hauptfläche des Halbleiterkörpers (1) und der Lotschicht (6) angeordnet ist, und - die Lotschicht (6) von außen frei zugänglich ist. Weiterhin werden ein Verfahren zur Herstellung eines strahlungsemittierenden Halbleiterchips und ein Verfahren zur Herstellung einer strahlungsemittierenden Anordnung angegeben.

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