Abstract:
Sintering device (10) for sintering at least one electronic assembly (BG), having a lower die (20) and an upper die (30) which is slidable towards the lower die (20), or a lower die (20) which is slidable towards the upper die (30), wherein the lower die (20) forms a support for the assembly (BG) to be sintered and the upper die (30) comprises a receptacle which receives a pressure pad (32) for exerting pressure directed towards the lower die (20) and which comprises a delimitation wall (34) which laterally surrounds the pressure pad (32), and wherein the delimitation wall (34) has an outer delimitation wall (34a) and an inner delimitation wall (34b) which is surrounded in an adjacent manner by the outer delimitation wall (34a), and wherein the inner delimitation wall (34b) is mounted so as to be slidable towards the outer delimitation wall (34a) and, when pressure in the direction of the upper die (30) is exerted on the pressure pad (32), is mounted so as to be slid in the direction of the lower die (20), whereby, following the placing of the inner delimitation wall (34b) on the lower die (20), the pressure pad (32) is displaceable in the direction of the lower die (20).
Abstract:
Die Erfindung geht aus von einer Sintervorrichtung (10) zum Herstellen eines Werkstücks (30) aus zumindest einer Komponente mittels Drucksintern. Die Sintervorrichtung weist ein Oberwerkzeug (12) und ein Unterwerkzeug (14) auf, zwischen denen die zumindest eine Komponente aufgenommen ist. Das Oberwerkzeug (12) und das Unterwerkzeug (14) sind zum Aufbringen einer Presskraft auf das zu sinternde Werkstück (30) relativ zueinander verstellbar. Es ist zumindest einer Heizvorrichtung (18a, 18b) zum Erwärmen des zu sinternden Werkstücks (30) vorgesehen. Es wird vorgeschlagen, dass die Sintervorrichtung ferner zumindest eine Kühlvorrichtung (22a, 22b) in einem Oberwerkzeug (12) aufweist, die aktiv die Sintervorrichtung auf konstantere Temperatur hält. Denn beim Sinterpressvorgang heizt das heißere Unterwerkzeug unerwünscht das Oberwerkzeug auf und würde ohne die aktive und gesteuerte Kühlvorrichtung zur Überhitzung des oberen Sinterwerkzeuges führen. Des Weiteren ist ohne die Kühlvorrichtung keine konstante Temperaturhaltung bei kurzen Sintertaktvorgängen sicherzustellen.
Abstract:
Die vorliegende Erfindung betrifft eine Druckübertragungseinrichtung zum Bonden einer Vielzahl von Chips (13) auf ein Substrat (12) mit: - einem Druckkörper (2) zur Beaufschlagung der Chips (13) mit einer in Bondrichtung (B) wirkenden Bondkraft, wobei der Druckkörper (2) eine erste Druckseite (2o) und eine gegenüberliegende zweite Druckseite (2f) aufweist, die quer zur Bondrichtung (B) verlaufen, - am Umfang der Druckübertragungseinrichtung (1) anbringbaren Fixiermitteln (8, 8', 8") zur Fixierung der Druckübertragungseinrichtung (1) an einem Haltekörper (9) in der Bondrichtung (B), und - einer Gleitschicht (3) zur gleitenden Bewegung des Druckkörpers (2) quer zur Bondrichtung (B).
Abstract:
A method for fabricating a flip-chip semiconductor package comprising processing a semiconductor device, for example a semiconductor chip and processing a device carrier, for example a substrate. The semiconductor device comprises bump structures formed on a surface thereof. The substrate comprises bond pads formed on a surface thereof. The semiconductor chip is heated to a chip process temperature. The chip process temperature melts solder portions on the bump structures. The substrate is heated to a substrate process temperature, wherein said substrate process temperature may be different to the chip process temperature. The semiconductor chip is spatially aligned in relation to the substrate to correspondingly align the bump structures in relation to the bond pads. The semiconductor chip is displaced towards the substrate to abut the bump structures with the bond pads to thereby form bonds there between. A system for performing the above method is also disclosed.
Abstract:
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zum Bonden eines ersten Substrats (4) mit einem zweiten Substrat (4'), wobei das erste Substrat (4) und/oder das zweite Substrat (4') vor dem Bonden gedünnt ist/wird. Die Substrate (4, 4') können Wafer, Halbleitersubstrate, metallische Substrate, mineralische Substrate, insbesondere Saphirsubstrate, Glassubstrate oder Polymersubstrate sein. Das erste Substrat (4) und/oder das zweite Substrat (4') werden zum Dünnen und/oder Bonden auf einem auf einer Trägeroberfläche (3o, 3o') eines, insbesondere einen ringförmigen Rahmen (2) aufweisenden, Trägers (3, 3') fixiert. Das erste Substrat (4) und das zweite Substrat (4') werden vor dem Bonden an Hand von korrespondierenden Ausrichtungsmarkierungen der Substrate (4, 4') zueinander ausgerichtet und anschließend, insbesondere magnetisch, vorfixiert. Substratfixierungen weisen jeweils eine Substratfixierfläche (9) zur Fixierung jeweils eines Substrats (4, 4') und jeweils eine die Substratfixierfläche (9) umgebende Trägerfixierfläche (8) oder Trägerfixierbereich zur gegenseitigen Fixierung der Substratfixierungen auf, wobei insbesondere die Trägerfixierfläche (8) oder der Trägerfixierbereich magnetisiert oder magnetisierbar ist, oder alternativ die Substratfixierungen mittels eines Klebers, über Klemmen, über ein Stecksystem oder elektrostatisch miteinander fixierbar sind.