接合方法およびそれに用いられる接合装置
    3.
    发明申请
    接合方法およびそれに用いられる接合装置 审中-公开
    用于相同的接合方法和接合装置

    公开(公告)号:WO2015114857A1

    公开(公告)日:2015-08-06

    申请号:PCT/JP2014/069077

    申请日:2014-07-17

    Abstract:  本発明の接合方法では、ステップS3の予備加熱処理は、金属または金属酸化物の微粒子からなる導電性ペーストを介在させた半導体チップおよびフレームに対して予備加熱処理を行う。この予備加熱処理によって、当該接着剤からなる接合層と半導体チップおよびフレームとの界面でのボイドがなくなる。このステップS3の予備加熱処理の後で、ステップS4のプラズマ処理は、減圧下で半導体チップおよびフレームに対してプラズマ照射を断続的に行ってプラズマ処理を行う。このプラズマ処理によって、当該接着剤からなる接合層内に存在する空隙が均一になる。ステップS4の予備加熱処理およびステップS5のプラズマ処理により接合層と被処理物との界面でのボイドがなくなるので接合能力が高くなる。また、プラズマ照射を断続的に行うので、プラズマ処理での処理温度を抑えることができる。

    Abstract translation: 在该接合方法中,对于半导体芯片和框架进行步骤S3中的辅助加热处理,在该框架之间插入包含金属或金属氧化物的纳米颗粒的导电浆料。 作为辅助加热处理的结果,除去包括粘合剂的粘合层与半导体芯片和框架之间的界面中的空隙。 在步骤S3中的辅助加热处理之后,通过在减压下间歇地对半导体芯片和框架执行等离子体照射来执行步骤S4中的等离子体处理。 作为等离子体处理的结果,包含粘合剂的粘合层内存在的间隙变得均匀。 作为步骤S3中的辅助加热处理和步骤S4中的等离子体处理的结果,去除了结合层和处理物之间的界面的空隙,因此结合能力增加。 此外,间歇地进行等离子体照射,因此能够抑制等离子体处理的处理温度。

    真空処理装置、その制御方法、真空はんだ処理装置及びその制御方法
    5.
    发明申请
    真空処理装置、その制御方法、真空はんだ処理装置及びその制御方法 审中-公开
    真空加工装置及其控制方法及真空焊接装置及其控制方法

    公开(公告)号:WO2016035703A1

    公开(公告)日:2016-03-10

    申请号:PCT/JP2015/074416

    申请日:2015-08-28

    Abstract:  真空引き条件の選択度を拡大しつつ、チャンバー内を指定された目標の真空度に短時間に真空引きできるようにする。真空処理装置は、ワークを真空環境下ではんだ処理可能なチャンバー40と、チャンバー40の真空引き条件を設定する操作部21と、チャンバー40を真空引きするポンプ23と、チャンバー40を所定のポンプ出力で真空引きしたときの真空度の減少量を算出して基準値として設定すると共に、リアルタイムで算出した真空度の減少量が基準値より小さくなると、ポンプ出力が小さい真空引き制御特性からポンプ出力が大きい真空引き制御特性へ切り替える制御部61とを備えるものである。

    Abstract translation: 本发明能够将腔室快速抽空至特定的真空度,同时提高排气条件的选择性。 该真空处理装置设置有:使得工件能够在真空环境中被焊接的室(40); 用于设置所述室(40)的排气条件的操作单元(20)。 用于抽空所述室(40)的泵(23); 以及控制部(61),其计算使用预定的泵输出对所述室(40)进行抽真空时的真空度的减少量,将所得到的量设定为基准值,并且从包括 当实时计算的真空度的降低量已经变得低于参考值时,将低泵输出降低到涉及高泵输出的抽空控制特性。

    接合方法およびそれに用いられる接合装置
    6.
    发明申请
    接合方法およびそれに用いられる接合装置 审中-公开
    用于相同的接合方法和接合装置

    公开(公告)号:WO2015114761A1

    公开(公告)日:2015-08-06

    申请号:PCT/JP2014/052001

    申请日:2014-01-29

    Abstract:  本発明の接合方法では、ステップS3の予備加熱処理は、大気圧下で金属または金属酸化物の微粒子からなる導電性ペーストを介在させた半導体チップおよびフレームに対して予備加熱処理を行う。この予備加熱処理によって、当該接着剤からなる接合層と半導体チップおよびフレームとの界面でのボイドがなくなる。このステップS3の予備加熱処理の後で、ステップS4のプラズマ処理は、減圧下で半導体チップおよびフレームに対してプラズマ照射を断続的に行ってプラズマ処理を行う。このプラズマ処理によって、当該接着剤からなる接合層内に存在する空隙がなくなる。ステップS4の予備加熱処理およびステップS5のプラズマ処理により空隙やボイドがなくなるので接合能力が高くなる。また、プラズマ照射を断続的に行うので、プラズマ処理での処理温度を抑えることができる。

    Abstract translation: 在该接合方法中,在大气压下对半导体芯片和框架(其间插入包含金属或金属氧化物的纳米颗粒的导电浆料)进行步骤S3中的辅助加热处理。 作为辅助加热处理的结果,除去包括粘合剂的粘合层与半导体芯片和框架之间的界面中的空隙。 在步骤S3中的辅助加热处理之后,通过在减压下间歇地对半导体芯片和框架执行等离子体照射来执行步骤S4中的等离子体处理。 作为等离子体处理的结果,除去包含粘合剂的粘合层内存在的间隙。 作为步骤S3中的辅助加热处理和步骤S4中的等离子体处理的结果,去除间隙和空隙,因此结合能力增加。 此外,间歇地进行等离子体照射,因此能够抑制等离子体处理的处理温度。

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